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Fターム[5C001AA03]の内容

電子顕微鏡 (2,589) | 構造 (935) | X−Y微動 (189)

Fターム[5C001AA03]に分類される特許

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【課題】試料を電子光学軸に対して傾けても、試料の透過像を得ることが出来る電子顕微鏡の試料装置を提供する。
【解決手段】
電子銃2からの電子ビーム3を試料室9に配置された試料Sに照射し、試料を透過した電子ビームに基づく試料像を得る様に成した電子顕微鏡の試料装置で、試料保持体33を支持する試料ホルダ32、試料Sの移動及傾斜を行うゴニオメータ31、その一端部が試料室9内に位置する様に試料室壁に設けられたゴニオメータ支持体30、先端面に当たる部分が吹き抜けており、電子光学軸Oに垂直な上壁及び底壁それぞれ電子ビーム通過孔が開けられたガス雰囲気容器34、及び、ガス雰囲気容器34内を先端に取付け、容器34内にガスが導入可能に成され、試料室9内で電子光学軸Oに垂直な方向に移動可能に試料室壁に設けられた容器支持管37を備えている。 (もっと読む)


【課題】半導体製造分野で用いられる走査型電子顕微鏡の試料ステージについて要求されるような高いレベルでの振動やドリフトの低減および位置決め精度を可能とするステージ装置の提供。
【解決手段】ステージ装置である試料ステージ3は、案内手段により拘束されて静止要素上を一定の方向に移動できるようにされたテーブル(センターテーブル5、トップテーブル6)を備えるとともに、テーブルの移動と停止を制御することでテーブルの位置決め制御を行う位置決め制御装置を備え、またテーブルと静止要素の間に一定の摩擦力による制動を固定的に加える第1の制動機構30、32、およびテーブルを停止させる際に駆動されてテーブルに制動を加える第2の制動機構31、33を備えている。 (もっと読む)


【課題】
可動テーブルの重量を増加させることなく、ステージ停止時における十分な制動力を発生するブレーキ機構を有するステージ装置を構成する。
【解決手段】
ステージ機構1は、Xベース120の上に固定されるX方向の案内機構としてのXガイド121と、これに拘束されてX方向に移動可能なXテーブル122と、これに可動部を固定されたXアクチュエータ123と、Xベース120の上に固定されたXテーブル122の制動機構であるXブレーキ124などから構成される。制御装置2は、ステージ停止時にXブレーキ124をXテーブル122の下面に押し付けて制動力を発生させ、ステージ停止後にはXアクチュエータをサーボ制御をオフにする位置決め制御を行う。 (もっと読む)


【課題】位置ずれ量を増加させることなく、位置決め時間を低減することができるステージ装置を提供することにある。
【解決手段】本発明によると、テーブルを、第1の移動速度によって高速移動目標位置まで移動させる高速移動工程と、テーブルを第1の移動速度より遅い第2の移動速度によって低速位置決め工程開始位置まで移動させる位置ずれ補正工程と、テーブルを第2の移動速度より遅い第3の移動速度によって目標位置まで移動させる低速位置決め工程と、を行う。低速位置決め工程が終了した後に、モータに接続されたロッドを戻すことによって、ロッド側のピンをテーブル側の凹部より離す。 (もっと読む)


【課題】
電子顕微鏡装置におけるステージの位置決め制御時において、ウェーハを搭載保持しているステージの振動やドリフトを抑えると共に、位置決め時間を短縮する。
【解決手段】
本発明は、電圧を印加することにより変位するアクチェータと、アクチェータの変位を拡大する機構と、変位を拡大する部分に制動部品を一体的に設けて構成された制動機構と、ベースに設けられ、制動機構の制動部品の上面又は側面と対向するように設けられた被制動レールとを備える。 (もっと読む)


【課題】磁気ディスク媒体に形成する微細パターンの描画が高速、高精度に、かつ近接効果補正が簡易に行え、基板全体で一定のドーズ量で描画可能とする。
【解決手段】レジスト11が塗布された基板10上に、電子ビームEBを基板10の半径方向または半径方向と直交する方向に微小往復振動させるとともに、その振動方向と直交する方向に偏向してエレメントの形状を塗りつぶすように走査して、微細パターン12のエレメント13の形状を描画する際に、エレメント配置の疎密程度に応じ、密配置部のエレメント描画では、前記偏向速度を疎配置部の同一エレメント描画での偏向速度より速く設定してドーズ量を調整し、近接効果補正を行う。 (もっと読む)


【課題】
ステージに起因する異常を早期に発見して、迅速な対応をとることができる荷電粒子線検査装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
ステージに配置された被検査基板を連続的に移動させながら荷電粒子線を照射し、発生した二次信号に基づいて画像を生成する荷電粒子線検査装置であって、ステージの連続的な移動の位置を計測する位置モニタ測長器と、計測された位置から速度を算出する制御回路と、計測された位置と算出された速度の時間的な変化を表示するディスプレイとを備える。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、停止時のドリフトが小さいステージ機構およびそれを備えた電子顕微鏡装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
上記課題を解決するために、本発明では、2以上の伸縮或いは揺動が可能な駆動素子を有し、当該2つの駆動素子の協働によりステージを移動させる試料ステージを提供する。2つの駆動素子の協働により、当該2つの駆動素子の動作を組合わせることによる種々の制御が可能となり、結果として、ステージの移動のみならず、停止時のドリフトの抑制が可能なステージ機構の提供が可能となる。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、簡易な構成で、ブレーキ等によってもたらされる摩擦熱による位置変動を抑制する試料ステージの提供を目的とする。
【解決手段】
上記目的を達成するための一態様として、押圧部材によって押圧される押圧部と、当該押圧部によって押圧される被摺動面を備えた試料ステージであって、試料ステージが停止するときに、上記押圧部が接する被摺動面の一部、及び/又はその一部に隣接する部分、或いは押圧部を加熱するように制御する試料ステージを提供する。このように被摺動面の一部等を加熱することによって、上述のような温度勾配を抑制することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】高い精度を有し、安価に構成することが可能である、真空ステージ装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバー1内に、ステージ11と、このステージ11を回転させるエアースピンドル4と、このエアースピンドル4が収納されたボックス20とを有し、ステージ11を一軸方向に移動させる、断面円形状のスライド軸3が真空チャンバー1の内部から外部に延びて配置され、スライド軸3がボックス20から両側に真空チャンバー1の外部へ一直線上に延びた単位構成が1個のみ設けられている真空ステージ装置を構成する。そして、この真空ステージ装置のスライド軸3に対して、その回転を規制すると共に、床面に対して静圧で浮上する構成を有している回転規制機構40を設ける。 (もっと読む)


【課題】
本発明の目的は、従来機械的な要因で安定しなかった観察視野の移動手段であるステージ駆動に対して補正を行い、操作者の習熟度によらず、観察視野の移動操作に追従性良くナノオーダ領域においても円滑に移動することができる制御方法を提供することである。
【解決手段】
上記課題を解決するために、本発明では、試料ステージにリニアスケール等の測距手段を搭載し、試料ステージの実移動速度と実移動距離を検出し、ステージを移動させるために回転したモーターの回転量と比較し、実際の移動距離が少なかったときには、その移動量を電気的視野移動コイルにより補正する。 (もっと読む)


【課題】
ステージ追従方式において荷電粒子線の偏向を制御する事で、状況・目的に応じて走査を最適化し、画像の歪みを低減し、スループット,画質,欠陥検出率が向上した装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
検査対象に荷電粒子線を照射して発生する二次電子を検出し、検査対象の異常を検出する検査装置であって、検査対象を載置し連続的に移動するステージと、該ステージの移動中にステージの移動速度変化に応じて該ステージ移動軸方向へ偏向させながら、該ステージ移動軸方向に対して略直角方向に荷電粒子線を繰返し走査させる走査信号を偏向器へ与える偏向制御回路とを備える。 (もっと読む)


【課題】試料と電極との相互の位置調整を容易に行う。
【解決手段】保持した試料に電極を介して電界をかけて加工または分析する装置に用いられ、かつ、装置本体から取り外し可能とされた試料ホルダ電極ホルダ一体化ユニットを用いる。この試料ホルダ電極ホルダ一体化ユニットは、試料を固定する試料ホルダ21と、電極5を固定する電極ホルダ22と、試料ホルダにより固定される試料と電極ホルダにより固定される電極との間の相対的な位置決めを行う位置決め機構とを備える。 (もっと読む)


【課題】 試料傾斜によって発生する位置ずれを補正する装置において、位置ずれ補正精度を劣化させずに補正時間を短縮させる。
【解決手段】 試料傾斜による試料移動を再現性のある移動と再現性の無い移動に分類する。再現性のある移動は移動のモデルを求め、再現性の無い移動は移動の範囲を求める。再現性のある移動はモデル基づいてオープンループで補正する。再現性の無い移動は前記移動範囲に基づいて設定された条件でフィードバック補正する。
【効果】 再現性のある移動はオープンループ補正で補正すると共に、再現性の無い移動の範囲を予め求めておくことにより、フィードバック補正に置ける測定回数を大幅に削減し、傾斜シリーズ像撮影時間を大幅に削減した。 (もっと読む)


【課題】
公知のマニピュレーターの問題は、部品及び連結の数が膨大で、それらを極めて高精度に機械加工しなければならないことである。
【解決手段】
本発明によるマニピュレーターは:
ベースに据付ける少なくとも3個のナノアクチュエーター、ここで各ナノアクチュエーターは先端を有し、少なくとも3個の先端はY−Z平面を定義し、各先端はベースに対してY−Z平面において移動することができ;
ナノアクチュエーターの先端に接触するプラットフォーム;及び
プラットフォームをナノアクチュエーターの先端に対して押し付けるクランプ手段;
を更に含むことを特徴とし、結果としてナノアクチュエーターはプラットフォームをベースに対してY−Z平面において回転させることができ、かつ、プラットフォームをY−Z平面に平行に移動させることができる。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、試料微動の際の『てこの運動』を阻害する要因を抑制可能な試料ホールダを提供することを目的とするものである。
【解決手段】
上記目的を達成するための一態様として、本発明によれば、試料支持部と、当該試料支持部を移動可能に枢支する球形支点と、当該球形支点を支持する支持座を備えた試料ホールダにおいて、前記支持座は三つに分割され、当該三つの分割体にて前記球形支点を支持することを特徴とする試料ホールダを提供する。このような構成によれば、固定端である座と、球形支点との接触面の不均一さを要因とする移動低下要因を抑制することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】試料を常に電子顕微鏡の視野中心で保持可能な構成を採用しながら、簡素な構成で汎用性の高い3次元構造観察用の試料支持台及び分度器、並びに3次元構造観察方法を提供する。
【解決手段】基準姿勢から±一定角度範囲で回転可能な回転部材16の先端部に、ベース31と該ベース31に対して回転自在に配された試料支持部材32とを有する試料支持台30を、ホルダー10を介して設置する。また、試料支持台30に一定角度間隔で複数の角度目盛りが印された分度器40を組み付ける。試料支持部材32の指標34を分度器40の目盛り42に合わせながらベース31に対して一定角度間隔で段階的に回転させた複数の回転角度状態を維持させ、それぞれの回転角度状態において順次回転部材を±一定角度で回転させることで、試料を360°全方向から観察することができる。 (もっと読む)


【課題】透過型電子顕微鏡観察用試料を容易に作製し且つ透過型電子顕微鏡ホルダに装着することができることを目的とする。
【解決手段】集束イオンビーム装置は、試料室、イオンビーム光学系、試料ステージ、サイドエントリ型ステージ及び透過型電子顕微鏡試料ホルダ、及び、マイクロサンプリングステージ及び試料ホルダ交換機構、を有し、試料ステージは、試料を移動させるxテーブル、yテーブル、zテーブル、ローテーションテーブル及びチルトテーブルを有し、上記サイドエントリ型ステージは、x微動部及びyzt微動部を有し、上記x微動部とyzt微動部は、上記試料室にて対向するように配置され、上記x微動部は、上記チルトテーブルに設けられたチルト軸に設けられた中空部に配置されている。 (もっと読む)


【課題】試料の元素分析機構を、試料を観察する顕微鏡機構に搭載してなる複合的な元素分析装置において、試料を顕微鏡機構及び元素分析機構の双方に最適な位置及び角度に容易且つ性格に調整し、顕微鏡像と元素分析機構の3次元情報とを正確に対応させて、3次元再構築時のスケールや検出効率の不足を容易に補正し、高精度な元素分析を行う。
【解決手段】試料11が設置される試料ホルダ31にX軸方向、Y軸方向及びZ軸方向への各平行移動と、X軸回り及びY軸回りの各回転移動とを行う機能(第1の移動部35)を付加することに加えて、試料11から離脱した元素を検出する位置敏感型検出器3に、電子顕微鏡機構における光軸と一致するZ軸回りの回転移動を行う機能(第2の移動部26)を付加する。 (もっと読む)


【課題】イオンビームの照射により断面を露出させた試料を作製するため試料をイオンビームに対する所定位置に保持する試料作製装置において、イオンビームによる試料の加工中にイオンビームを遮断する遮蔽板のイオンビームに接近する方向への移動を防止し、良好な断面が現れた試料を作製する。
【解決手段】基端側を支持され先端側が自由端である第1の支持部材2と、第1の支持部材2の先端側に基端側を支持され先端側が第1の支持部材2の基端側に向けた自由端である第2の支持部材9と、第2の支持部材9に支持された遮蔽板10とを備え、第2の支持部材9は、第1の支持部材2よりも熱膨張率の大きな材料によって形成され、遮蔽板10の第1の支持部材2の先端側に向かう一側縁をイオンビームBの照射位置として保持し、遮蔽板10によりイオンビームBが遮蔽される位置に設置された試料101の遮蔽板10の一側縁より露出した箇所への加工を行う。 (もっと読む)


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