ステージ装置及びステージ装置におけるステージの位置決め制御方法
【課題】
可動テーブルの重量を増加させることなく、ステージ停止時における十分な制動力を発生するブレーキ機構を有するステージ装置を構成する。
【解決手段】
ステージ機構１は、Ｘベース１２０の上に固定されるＸ方向の案内機構としてのＸガイド１２１と、これに拘束されてＸ方向に移動可能なＸテーブル１２２と、これに可動部を固定されたＸアクチュエータ１２３と、Ｘベース１２０の上に固定されたＸテーブル１２２の制動機構であるＸブレーキ１２４などから構成される。制御装置２は、ステージ停止時にＸブレーキ１２４をＸテーブル１２２の下面に押し付けて制動力を発生させ、ステージ停止後にはＸアクチュエータをサーボ制御をオフにする位置決め制御を行う。
可動テーブルの重量を増加させることなく、ステージ停止時における十分な制動力を発生するブレーキ機構を有するステージ装置を構成する。
【解決手段】
ステージ機構１は、Ｘベース１２０の上に固定されるＸ方向の案内機構としてのＸガイド１２１と、これに拘束されてＸ方向に移動可能なＸテーブル１２２と、これに可動部を固定されたＸアクチュエータ１２３と、Ｘベース１２０の上に固定されたＸテーブル１２２の制動機構であるＸブレーキ１２４などから構成される。制御装置２は、ステージ停止時にＸブレーキ１２４をＸテーブル１２２の下面に押し付けて制動力を発生させ、ステージ停止後にはＸアクチュエータをサーボ制御をオフにする位置決め制御を行う。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特に、半導体製造分野における半導体の検査や評価に用いる電子顕微鏡装置の試料ステージとして好適なステージ装置、このステージ装置を備えた電子顕微鏡装置、およびステージ装置の位置決め制御方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の半導体素子の微細化に伴い、製造装置のみならず、検査や評価装置にもそれに対応した高精度化が要求されている。通常、半導体ウェハ上に形成したパターンの形状寸法が正しいか否かを評価するために、測長機能を備えた走査型電子顕微鏡（以下、測長ＳＥＭと称す）が用いられている。
【０００３】
測長ＳＥＭでは、ウェハ上に電子線を照射し、得られた二次電子信号を画像処理し、その明暗の変化からパターンのエッジを判別して寸法を導き出している。ここで、前記した半導体素子の微細化に対応するためには、高い観察倍率において、よりノイズの少ない二次電子像を得ることが重要である。そこで、二次電子像を何枚も重ね合わせてコントラストを向上させる必要があり、ウェハを搭載保持している試料ステージには、ナノメートルオーダの振動やドリフトを抑えることが要求される。
【０００４】
このような振動やドリフトを抑えるために、高精度な位置決めが可能なステージ装置が必要となり、これには一般的にリニアモータなどを駆動機構とするサーボ制御システムが構成されている。
【０００５】
しかしながら、サーボ制御を行った場合、停止状態でもナノメートルオーダでは微少な振動が発生しており、ステージの振動とともに試料位置が変動するだけでなく、ステージの振動が装置全体を加振し、二次電子像に悪影響を及ぼすこともある。
【０００６】
以上のようなサーボ制御を起因とする微小な振動への対策として、ステージの可動テーブルにブレーキ機構を設け、ステージ停止時にはブレーキをかけ、サーボ制御をオフにする技術がある（例えば、特許文献１参照）。この技術では、可動テーブルにエアシリンダで駆動されるブレーキを設け、これにより可動テーブルの移動方向に沿うプレート部材を挟み込んで、可動テーブルを制動することが可能となっている。
【０００７】
また、前記技術とは別の技術として、可動テーブルにベース面に対する転がり部材を設け、ステージ停止時には可動テーブルに設けられた圧電素子の発生力により、転がり部材のベース面への押し付け力を増加させ、可動テーブルを制動する技術がある（特許文献２参照）。
【０００８】
【特許文献１】特開２００１−８８６９５号公報（段落「００１０」〜段落「００１６」、図１〜図４）
【特許文献２】特開平８−２２２５００号公報（段落「００２５」〜段落「００２８」、図４〜図５）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特開２００１−８８６９５号公報に開示された技術によれば、可動テーブル側にブレーキ機構を搭載するため、可動テーブルの重量が増加し、これを駆動するためのモータとして、高い推力を発生するものが必要となる。また、前記した測長ＳＥＭのように試料室内が真空とされる環境では、エアシリンダの給気配管などに設計上の特別な配慮が必要となる。これらのことは、ステージ装置のコスト増大という問題につながる。
【００１０】
また、特開平８−２２２５００号公報に開示された技術によれば、特開２００１−８８６９５号公報に記載のブレーキ機構と同様、可動テーブル側にブレーキ機構を搭載するため、可動テーブルの重量が増加し、高推力のモータが必要となる。また、転がり部材の押し付け力を増加して得られる制動力を大きくするためには、大きな力を発生する圧電素子が必要となる。これらのことは、特開２００１−８８６９５号公報に記載の技術と同様、ステージ装置のコスト増大という問題につながる。
【００１１】
本発明は、前記した問題を解決するためになされたものであり、前記した測長ＳＥＭのような半導体の検査や評価を目的した装置に適用可能なステージ装置であって、可動テーブルの重量を増加することなく、安価でありながら、ステージ停止時における十分な制動力を発生するブレーキ機構を備え、微小な振動やドリフトを抑えることが可能なステージ装置および同装置におけるステージの位置決め制御方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
前記した課題を解決するために、本発明では、可動テーブルの案内機構を搭載したベースに、可動テーブルのベースとの対向面に対して、一定のばね力により面部材を押し付けることにより制動力を発生するブレーキ機構を設け、ステージ移動時には、前記ばね力よりも大きい駆動力により前記ブレーキ機構の面部材と可動テーブルを非接触として制動力を解除する。さらに、ステージ停止時には、前記ばね力よりも大きい駆動力を解除して、再度前記ブレーキ機構の面部材を可動テーブルに対して一定のばね力で押し付けることにより制動力を発生し、可動テーブルを停止させ、さらに、ステージ停止直後にサーボ制御をオフにするという位置決め制御を行うようにした。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、ブレーキ機構は可動テーブル側ではなくベース側に搭載されるため、可動テーブルの重量を増加させることなく、モータの必要推力増大もない。さらに、ブレーキ機構の駆動手段も圧縮ばねを用いた安価かつ単純なものであるため、ステージ装置のコスト増大を抑えることができる。
【００１４】
また、ステージ停止時には、ブレーキ機構の制動力により可動テーブルの位置決め時の整定時間を短縮でき、さらに、ステージ停止直後にサーボ制御をオフすることにより、サーボ制御に起因する微小な振動をなくすとともに、ブレーキの十分な制動力により、ステージ停止後のドリフトを抑えることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、図面（図１〜図６）を参照しながら、本発明実施形態に係るステージ装置および同装置におけるステージの位置決め制御方法について詳細に説明する。
【００１６】
図１は、本発明実施形態に係るステージ装置の全体構成を示す図である。ここで、ステージ装置は、ステージ機構１と、その制御装置２と、ステージ機構１に搭載されるＸ方向およびＹ方向に移動可能なテーブル（以下、可動テーブル）の位置を検出するためのレーザ干渉計３とから構成される。
【００１７】
図２は、本発明実施形態に係るステージ機構の概略見取図である。
【００１８】
図２において、ステージ機構１は、ベース１００の上に可動テーブルとそれを駆動するための機構を搭載している。まず、ベース１００の上にＹベース１１０が固定され、Ｙベース１１０の上にＹ方向（図２に示す座標軸のＹ方向）の案内機構としてのＹガイド１１１が固定される。図２では、Ｙガイド１１１としては、Ｙベース１１０の中央（図示せず）と両端近傍にそれぞれ１本ずつの合計３本が設けられている。Ｙテーブル１１２は、Ｙガイド１１１に拘束され、Ｙ方向のみに移動が可能となっている。Ｙテーブル１１２は、これに可動部を固定されたＹアクチュエータ１１３の発生する推力により直線運動を行う。ここで、Ｙアクチュエータ１１３の固定部はベース１００の上に固定される。なお、Ｙアクチュエータ１１３としては、例えば、リニアモータなどを利用する。さらに、Ｙテーブル１１２を停止させるための制動機構として、Ｙブレーキ１１４がＹベース１１０の上に固定されている。図２では、Ｙアクチュエータ１１３およびＹブレーキ１１４は、いずれもＹテーブル１１２の両端近傍に設けてられている。ただし、これらは、必要な推力や制動力があれば、Ｙテーブル１１２の両端ではなく、どちらか一方の端のみに設けても良い。
【００１９】
Ｙブレーキ１１４は、後述するように、Ｙテーブル１１２の下面に対して面部材を一定のばね力で押し付けることにより制動力を発生する機構であり、この面部材とＹテーブル１１２との下面の接触／非接触の状態を制御することにより、制動力の有無を切り替えることができる。このように、Ｙブレーキ１１４は、可動テーブルであるＹテーブル１１２ではなく、固定されたＹベース１１０に搭載されているため、可動テーブルの重量を増加させることなく、Ｙアクチュエータ１１３の必要推力増大につながることもない。よって、ブレーキ機構の付加によるステージ装置のコスト増大を抑えることができる。
【００２０】
Ｙテーブル１１２の上には、Ｙ方向と直交するＸ方向の案内機構としてのＸサブガイド１１５が搭載される。図２では、Ｘサブガイド１１５は２本設けられている。サブテーブル１１６（図示せず）は、Ｘサブガイド１１５に拘束され、Ｘ方向に移動が可能となっている。サブテーブル１１６は、これに結合されるトップテーブル１３０とともに、Ｘサブガイド１１５の上をＸ方向に直線運動を行う。
【００２１】
また、ベース１００の上には、Ｘベース１２０が固定され、Ｘベース１２０の上にＸ方向の案内機構としてのＸガイド１２１が固定される。図２では、Ｘベース１２０は、Ｙベース１１０を挟む二つの部材として設けられており、Ｘガイド１２１もそれぞれのＸベース１２０に１本ずつの合計２本が設けられている。Ｘテーブル１２２は、Ｘガイド１２１に拘束され、Ｘ方向のみに移動が可能となっている。Ｘテーブル１２２は、これに可動部を固定されたＸアクチュエータ１２３の発生する推力により直線運動を行う。ここで、Ｘアクチュエータ１２３の固定部はベース１００の上に固定される。なお、Ｘアクチュエータ１２３としては、例えば、リニアモータなどを利用する。さらに、Ｘテーブル１２２を停止させるための制動機構として、Ｘブレーキ１２４がＸベース１２０の上に固定されている。図２では、Ｘアクチュエータ１２３およびＸブレーキ１２４は、いずれもＸテーブル１２２の両端近傍に設けられている。ただし、これらは、必要な推力や制動力があれば、Ｙテーブル１１２のどちらか一方の端のみに設けても良い。
【００２２】
Ｘブレーキ１２４は、Ｙブレーキ１１４と同様に、Ｘテーブル１２２の下面に対して面部材を一定のばね力で押し付けることにより制動力を発生する機構であり、制動力の有無を切り替えることができる。
【００２３】
Ｘテーブル１２２の上には、Ｘ方向と直交するＹ方向の案内機構としてのＹサブガイド１２５が搭載される。図２では、Ｙサブガイド１２５は２本設けられている。トップテーブル１３０は、Ｙサブガイド１２５に拘束され、Ｙ方向に移動が可能となっている。トップテーブル１３０は、これに結合されるサブテーブル１１６（図示せず）の運動とともに、Ｙサブガイド１２５の上をＹ方向に直線運動を行う。
【００２４】
以上に述べた構造によれば、Ｘテーブル１２２とＹテーブル１１０のそれぞれが移動することで、トップテーブル１３０のＸ方向およびＹ方向の二次元移動が可能となる。なお、トップテーブル１３０の上には、その位置をレーザ干渉計３により計測するための固定ミラー（Ｘミラー１３１，Ｙミラー１３２）と、試料ホルダ１３３が搭載されている。
【００２５】
図１では、説明を簡単とするため、ステージ機構１をＹ方向から見た側面図として示しており、以下、Ｘ方向の位置決め制御の概略を説明する。
【００２６】
まず、トップテーブル１３０のＸ方向の動作は、Ｘテーブル１２２を駆動するＸアクチュエータ１２３の動作により決定される。すなわち、Ｘアクチュエータ１２３の可動部がＸ方向に直線運動することによって、これが固定されたＸテーブル１２２がＸガイド１２１に案内されて移動し、これとともにＸテーブル１２２の上に搭載されたＹサブガイド１２５に拘束されたトップテーブル１３０がＸ方向に移動する。制御装置２のサーボ制御部においてＸアクチュエータ１２３の位置，速度，推力のサーボ制御を実行するために、トップテーブル１３０のＸ方向の位置がレーザ干渉計３で計測され、制御装置２のサーボ制御部にフィードバックされている。また、同サーボ制御部からは、Ｘアクチュエータ１２３の推力を発生させるための駆動電流が出力される。
【００２７】
トップテーブル１３０が移動を開始すると、Ｘベース１２０の上に固定されたＸブレーキ１２４による制動力が解除（以下、ブレーキオフ）され、トップテーブル１３０の位置決め時には、トップテーブル１３０のＸ方向の位置偏差が予め設定された一定の許容範囲内に入ったところで、Ｘブレーキ１２４の制動力が発生（以下、ブレーキオン）することにより、Ｘテーブル１２２を停止させる。さらに、Ｘテーブル１２２の停止直後にサーボ制御をオフ（以下、サーボオフ）することにより、サーボ制御に起因する微小な振動をなくすとともに、Ｘブレーキ１２４の制動力によりＸテーブル１２２の停止後のドリフトを抑える。なお、以上のようなブレーキオン／オフの制御は、制御装置２のブレーキ制御部で実行され、ここからブレーキ駆動信号が出力される。
【００２８】
図３は、本発明実施形態に係るブレーキ機構の概略模式図である。ここでは、ブレーキ機構の動作原理を説明のために、前記したＸブレーキ１２４を例として、その断面構造と動作の概略を模式的に表している。なお、以下に述べる構造や動作に関しては、Ｙブレーキ１１４についても全く同様である。
【００２９】
図３において、ブレーキベース１２４０の上に、圧縮コイルばね１２４３と吸引型アクチュエータ１２４４が固定され、これらの上に可動平面部材１２４１が固定されている。また、可動平面部材１２４１の上にはブレーキパッド１２４２が取り付けられており、これが可動テーブル（この場合、Ｘテーブル１２２）に接触する部分となる。このように、ブレーキ機構の駆動手段は、圧縮コイルばね１２４３と吸引型アクチュエータ１２４４を用いた安価かつ単純なものであるため、ステージ装置のコスト増大を抑えることができる。
【００３０】
図３（ａ）において、吸引型アクチュエータ１２４４の発生推力により、圧縮コイルばね１２４３のばね力に抗して可動平面部材１２４１が下方向へ引き下げられ、Ｘテーブル１２２の下面とブレーキパッド１２４２が非接触となっている。これがブレーキオフの状態である。このときの可動平面部材１２４１の引き下げ量ｄが吸引型アクチュエータ１２４４の動作量となり、圧縮コイルばね１２４３の初期変位とｄの合計から求まるばね力が吸引型アクチュエータ１２４４の必要推力となる。Ｘテーブル１２２が移動を開始すると、このようにブレーキオフの状態となる。ブレーキオフの状態では、吸引型アクチュエータ１２４４が推力を発生し続けている。
【００３１】
図３（ｂ）において、吸引型アクチュエータ１２４４の推力が解除され、圧縮コイルばね１２４３のばね力によって可動平面部材１２４１が上方向へ押し上げ、Ｘテーブル１２２の下面に対してブレーキパッド１２４２が押し付けられている。これがブレーキオンの状態である。このときのＸテーブル１２２の下面に作用する制動力は、圧縮コイルばね１２４３の初期変位によるばね力から可動平面部材１２４１とブレーキパッド１２４２の重量を差し引いた正味の押し付け力に、ブレーキパッド１２４２とＸテーブル１２２の下面との摩擦係数を乗じた摩擦力となる。Ｘテーブル１２２を位置決めするときに、このようにＸブレーキ１２４をブレーキオンとすることにより、Ｘテーブル１２２を停止させる。さらに、Ｘブレーキ１２４の制動力により停止後のドリフトを抑える。
【００３２】
なお、図３に示した吸引型アクチュエータ１２４４としては、例えば、通電吸引型の電磁ソレノイドやボイスコイルモータなどを利用する。また、図３のように吸引型アクチュエータ１２４４により可動平面部材１２４１を引き下げてブレーキオフの状態を発生させる機構の他に、例えば、回転モータとカム機構あるいは歯車機構を組み合わせて用いる機構も構成可能である。
【００３３】
また、図３では、圧縮コイルばね１２４３を用いたブレーキ機構の構成を示したが、圧縮コイルばね１２４３の代わりに板ばねを用いたブレーキ機構も構成可能である。
【００３４】
図４は、本発明実施形態に係るステージ装置における制御装置の概略構成を示す図である。
【００３５】
図４において、制御装置２は、メイン制御部２０１とサーボ制御部２０２とブレーキ制御部２０３とから構成される。ここで、サーボ制御部２０２には、位置制御部２０２１，速度制御部２０２２，推力制御部２０２３があり、それぞれにおいて、レーザ干渉計３で計測したステージ機構１の位置情報に基づいて、位置制御ループ，速度制御ループ，推力制御ループの演算が実行される。このような演算の結果として求まるアクチュエータ駆動指令がアンプ２０２４を経由し、ステージ機構１のＸテーブル１２２，Ｙテーブル１１２を駆動する各アクチュエータ（１２３，１１３）に出力される。
【００３６】
また、ブレーキ制御部２０３には、図３に示したブレーキ機構における吸引型アクチュエータ１２４４の推力を制御するための電流制御部２０３１とアンプ２０３２がある。ここで、電流制御部２０３１では、図３に示したブレーキオフの状態からブレーキオンの状態に遷移する際に、可動テーブル（図３ではＸテーブル１２２）の下面に対する押し付け力が急激に作用しないように、吸引型アクチュエータ１２４４の推力を徐々に減るようにその駆動電流を調整し、アンプ２０３２を経由して吸引型アクチュエータ１２４４に出力する。このような電流制御により、可動テーブルの下面に作用する押し付け力を連続的に増加させることができ、その結果として可動テーブルへの制動力を連続的に増加させることができる。例えば、吸引型アクチュエータ１２４４として、通電吸引型の電磁ソレノイドを利用した場合、ブレーキオフのときにコイルに最大電流を通電し、ブレーキオフからブレーキオンに遷移する間にコイル電流を徐々に減らし、完全なブレーキオンのときにはコイルを非通電にするように電流制御を行えば良い。
【００３７】
メイン制御部２０１には、位置決め制御部２０１１があり、ここからサーボ制御部２０２とブレーキ制御部２０３の機能を呼び出し、サーボオン／オフ，ブレーキオン／オフを切り替えながら、ステージの位置決め制御を実行する。
【００３８】
図５は、本発明実施形態に係るステージの位置決め制御方法の実行手順を示すフローチャートである。また、図６は、本発明実施形態に係るステージの位置決め制御方法により実現されるステージ位置決め時のステージの位置の時間応答波形の一例を示す図である。以下、図５および図６を用いて、本発明実施形態に係るステージの位置決め制御方法について説明する。
【００３９】
図５に示すフローチャートによれば、位置決め制御を開始すると（ステップ５０１）、まず、目標位置の設定を行う（ステップ５０２）。具体的には、上位装置において、予め登録してある座標値、もしくはオペレータの手入力や画面上でカーソルで示す座標値を指定することにより目標位置が設定される。
【００４０】
次に、ステージを駆動するアクチュエータをサーボオンし（ステップ５０３）、さらにブレーキオフにする（ステップ５０４）。ここで、レーザ干渉計３によりステージの現在位置を取得し（ステップ５０５）、ステージ移動開始時には、目標位置と現在位置との差分により移動距離を求め、所定の速度パターンに基づき、補間周期毎の位置補間演算を実行する（ステップ５１２）。この位置補間演算で求められる位置を制御周期毎の目標値として位置制御ループ演算を実行し（ステップ５１３）、位置制御ループ出力を目標値として速度制御ループ演算を実行し（ステップ５１４）、さらに、速度制御ループ出力を目標値として推力制御ループ演算を実行する（ステップ５１５）。なお、ここで述べた制御ループ演算（ステップ５１３，５１４，５１５）は、それぞれの制御周期での割り込み処理として実装されるため、実際にはステップ５１３，５１４，５１５が、同じタイミングで順番に実行されるということではない。これは、前記したステップ５１２についても同様である。
【００４１】
図６において、ステージが目標位置に向かって移動を開始するときは、サーボオンかつブレーキオフの状態になっており、位置の時間応答曲線６０１は時間の経過とともにステージが目標位置に近づいていく様子を示す。ここに示すように、ステージが目標位置の近傍に到達すると、目標位置に対して行き過ぎや戻り過ぎが発生し、振動的な挙動を示す。このような振動を短時間で整定するために、図５に示したフローチャートでは、目標位置と現在位置の偏差が、予め設定された一定の位置決め幅ｗ（図６に示した領域６０２）に入れば（ステップ５０９）、ブレーキオンにし（ステップ５１０）、ステージに制動をかける。また、ブレーキオンの時点からの経過時間を計測開始する（ステップ５１１）。このあと、経過時間が予め設定された一定の待ち時間ｔを超えれば、アクチュエータをサーボオフにする（ステップ５０８）。これにより、ステージ停止後のサーボ制御に起因する微小振動をなくすことができる。なお、サーボオフの状態になれば（ステップ５０８）、位置決め制御に関する一連の処理を完了する（ステップ５１６）。図６に示したように、ステージが目標位置に到達し、停止している間は、サーボオフかつブレーキオンの状態となっている。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明実施形態に係るステージ装置の全体構成を示す図である。
【図２】本発明実施形態に係るステージ機構の概略見取図である。
【図３】本発明実施形態に係るブレーキ機構の概略模式図である。
【図４】本発明実施形態に係るステージ装置における制御装置の概略構成を示す図である。
【図５】本発明実施形態に係るステージの位置決め制御方法の実行手順を示すフローチャートである。
【図６】本発明実施形態に係るステージの位置決め制御方法により実現されるステージ位置決め時のステージの位置の時間応答波形の一例を示す図である。
【符号の説明】
【００４３】
１ ステージ機構
２ 制御装置
３ レーザ干渉計
１００ ベース
１１０ Ｙベース
１１１ Ｙガイド
１１２ Ｙテーブル
１１３ Ｙアクチュエータ
１１４ Ｙブレーキ
１１５ Ｘサブガイド
１１６ サブテーブル
１２０ Ｘベース
１２１ Ｘガイド
１２２ Ｘテーブル
１２３ Ｘアクチュエータ
１２４ Ｘブレーキ
１２５ Ｙサブガイド
１３０ トップテーブル
１３１ Ｘミラー
１３２ Ｙミラー
１３３ 試料ホルダ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特に、半導体製造分野における半導体の検査や評価に用いる電子顕微鏡装置の試料ステージとして好適なステージ装置、このステージ装置を備えた電子顕微鏡装置、およびステージ装置の位置決め制御方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の半導体素子の微細化に伴い、製造装置のみならず、検査や評価装置にもそれに対応した高精度化が要求されている。通常、半導体ウェハ上に形成したパターンの形状寸法が正しいか否かを評価するために、測長機能を備えた走査型電子顕微鏡（以下、測長ＳＥＭと称す）が用いられている。
【０００３】
測長ＳＥＭでは、ウェハ上に電子線を照射し、得られた二次電子信号を画像処理し、その明暗の変化からパターンのエッジを判別して寸法を導き出している。ここで、前記した半導体素子の微細化に対応するためには、高い観察倍率において、よりノイズの少ない二次電子像を得ることが重要である。そこで、二次電子像を何枚も重ね合わせてコントラストを向上させる必要があり、ウェハを搭載保持している試料ステージには、ナノメートルオーダの振動やドリフトを抑えることが要求される。
【０００４】
このような振動やドリフトを抑えるために、高精度な位置決めが可能なステージ装置が必要となり、これには一般的にリニアモータなどを駆動機構とするサーボ制御システムが構成されている。
【０００５】
しかしながら、サーボ制御を行った場合、停止状態でもナノメートルオーダでは微少な振動が発生しており、ステージの振動とともに試料位置が変動するだけでなく、ステージの振動が装置全体を加振し、二次電子像に悪影響を及ぼすこともある。
【０００６】
以上のようなサーボ制御を起因とする微小な振動への対策として、ステージの可動テーブルにブレーキ機構を設け、ステージ停止時にはブレーキをかけ、サーボ制御をオフにする技術がある（例えば、特許文献１参照）。この技術では、可動テーブルにエアシリンダで駆動されるブレーキを設け、これにより可動テーブルの移動方向に沿うプレート部材を挟み込んで、可動テーブルを制動することが可能となっている。
【０００７】
また、前記技術とは別の技術として、可動テーブルにベース面に対する転がり部材を設け、ステージ停止時には可動テーブルに設けられた圧電素子の発生力により、転がり部材のベース面への押し付け力を増加させ、可動テーブルを制動する技術がある（特許文献２参照）。
【０００８】
【特許文献１】特開２００１−８８６９５号公報（段落「００１０」〜段落「００１６」、図１〜図４）
【特許文献２】特開平８−２２２５００号公報（段落「００２５」〜段落「００２８」、図４〜図５）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特開２００１−８８６９５号公報に開示された技術によれば、可動テーブル側にブレーキ機構を搭載するため、可動テーブルの重量が増加し、これを駆動するためのモータとして、高い推力を発生するものが必要となる。また、前記した測長ＳＥＭのように試料室内が真空とされる環境では、エアシリンダの給気配管などに設計上の特別な配慮が必要となる。これらのことは、ステージ装置のコスト増大という問題につながる。
【００１０】
また、特開平８−２２２５００号公報に開示された技術によれば、特開２００１−８８６９５号公報に記載のブレーキ機構と同様、可動テーブル側にブレーキ機構を搭載するため、可動テーブルの重量が増加し、高推力のモータが必要となる。また、転がり部材の押し付け力を増加して得られる制動力を大きくするためには、大きな力を発生する圧電素子が必要となる。これらのことは、特開２００１−８８６９５号公報に記載の技術と同様、ステージ装置のコスト増大という問題につながる。
【００１１】
本発明は、前記した問題を解決するためになされたものであり、前記した測長ＳＥＭのような半導体の検査や評価を目的した装置に適用可能なステージ装置であって、可動テーブルの重量を増加することなく、安価でありながら、ステージ停止時における十分な制動力を発生するブレーキ機構を備え、微小な振動やドリフトを抑えることが可能なステージ装置および同装置におけるステージの位置決め制御方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
前記した課題を解決するために、本発明では、可動テーブルの案内機構を搭載したベースに、可動テーブルのベースとの対向面に対して、一定のばね力により面部材を押し付けることにより制動力を発生するブレーキ機構を設け、ステージ移動時には、前記ばね力よりも大きい駆動力により前記ブレーキ機構の面部材と可動テーブルを非接触として制動力を解除する。さらに、ステージ停止時には、前記ばね力よりも大きい駆動力を解除して、再度前記ブレーキ機構の面部材を可動テーブルに対して一定のばね力で押し付けることにより制動力を発生し、可動テーブルを停止させ、さらに、ステージ停止直後にサーボ制御をオフにするという位置決め制御を行うようにした。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、ブレーキ機構は可動テーブル側ではなくベース側に搭載されるため、可動テーブルの重量を増加させることなく、モータの必要推力増大もない。さらに、ブレーキ機構の駆動手段も圧縮ばねを用いた安価かつ単純なものであるため、ステージ装置のコスト増大を抑えることができる。
【００１４】
また、ステージ停止時には、ブレーキ機構の制動力により可動テーブルの位置決め時の整定時間を短縮でき、さらに、ステージ停止直後にサーボ制御をオフすることにより、サーボ制御に起因する微小な振動をなくすとともに、ブレーキの十分な制動力により、ステージ停止後のドリフトを抑えることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、図面（図１〜図６）を参照しながら、本発明実施形態に係るステージ装置および同装置におけるステージの位置決め制御方法について詳細に説明する。
【００１６】
図１は、本発明実施形態に係るステージ装置の全体構成を示す図である。ここで、ステージ装置は、ステージ機構１と、その制御装置２と、ステージ機構１に搭載されるＸ方向およびＹ方向に移動可能なテーブル（以下、可動テーブル）の位置を検出するためのレーザ干渉計３とから構成される。
【００１７】
図２は、本発明実施形態に係るステージ機構の概略見取図である。
【００１８】
図２において、ステージ機構１は、ベース１００の上に可動テーブルとそれを駆動するための機構を搭載している。まず、ベース１００の上にＹベース１１０が固定され、Ｙベース１１０の上にＹ方向（図２に示す座標軸のＹ方向）の案内機構としてのＹガイド１１１が固定される。図２では、Ｙガイド１１１としては、Ｙベース１１０の中央（図示せず）と両端近傍にそれぞれ１本ずつの合計３本が設けられている。Ｙテーブル１１２は、Ｙガイド１１１に拘束され、Ｙ方向のみに移動が可能となっている。Ｙテーブル１１２は、これに可動部を固定されたＹアクチュエータ１１３の発生する推力により直線運動を行う。ここで、Ｙアクチュエータ１１３の固定部はベース１００の上に固定される。なお、Ｙアクチュエータ１１３としては、例えば、リニアモータなどを利用する。さらに、Ｙテーブル１１２を停止させるための制動機構として、Ｙブレーキ１１４がＹベース１１０の上に固定されている。図２では、Ｙアクチュエータ１１３およびＹブレーキ１１４は、いずれもＹテーブル１１２の両端近傍に設けてられている。ただし、これらは、必要な推力や制動力があれば、Ｙテーブル１１２の両端ではなく、どちらか一方の端のみに設けても良い。
【００１９】
Ｙブレーキ１１４は、後述するように、Ｙテーブル１１２の下面に対して面部材を一定のばね力で押し付けることにより制動力を発生する機構であり、この面部材とＹテーブル１１２との下面の接触／非接触の状態を制御することにより、制動力の有無を切り替えることができる。このように、Ｙブレーキ１１４は、可動テーブルであるＹテーブル１１２ではなく、固定されたＹベース１１０に搭載されているため、可動テーブルの重量を増加させることなく、Ｙアクチュエータ１１３の必要推力増大につながることもない。よって、ブレーキ機構の付加によるステージ装置のコスト増大を抑えることができる。
【００２０】
Ｙテーブル１１２の上には、Ｙ方向と直交するＸ方向の案内機構としてのＸサブガイド１１５が搭載される。図２では、Ｘサブガイド１１５は２本設けられている。サブテーブル１１６（図示せず）は、Ｘサブガイド１１５に拘束され、Ｘ方向に移動が可能となっている。サブテーブル１１６は、これに結合されるトップテーブル１３０とともに、Ｘサブガイド１１５の上をＸ方向に直線運動を行う。
【００２１】
また、ベース１００の上には、Ｘベース１２０が固定され、Ｘベース１２０の上にＸ方向の案内機構としてのＸガイド１２１が固定される。図２では、Ｘベース１２０は、Ｙベース１１０を挟む二つの部材として設けられており、Ｘガイド１２１もそれぞれのＸベース１２０に１本ずつの合計２本が設けられている。Ｘテーブル１２２は、Ｘガイド１２１に拘束され、Ｘ方向のみに移動が可能となっている。Ｘテーブル１２２は、これに可動部を固定されたＸアクチュエータ１２３の発生する推力により直線運動を行う。ここで、Ｘアクチュエータ１２３の固定部はベース１００の上に固定される。なお、Ｘアクチュエータ１２３としては、例えば、リニアモータなどを利用する。さらに、Ｘテーブル１２２を停止させるための制動機構として、Ｘブレーキ１２４がＸベース１２０の上に固定されている。図２では、Ｘアクチュエータ１２３およびＸブレーキ１２４は、いずれもＸテーブル１２２の両端近傍に設けられている。ただし、これらは、必要な推力や制動力があれば、Ｙテーブル１１２のどちらか一方の端のみに設けても良い。
【００２２】
Ｘブレーキ１２４は、Ｙブレーキ１１４と同様に、Ｘテーブル１２２の下面に対して面部材を一定のばね力で押し付けることにより制動力を発生する機構であり、制動力の有無を切り替えることができる。
【００２３】
Ｘテーブル１２２の上には、Ｘ方向と直交するＹ方向の案内機構としてのＹサブガイド１２５が搭載される。図２では、Ｙサブガイド１２５は２本設けられている。トップテーブル１３０は、Ｙサブガイド１２５に拘束され、Ｙ方向に移動が可能となっている。トップテーブル１３０は、これに結合されるサブテーブル１１６（図示せず）の運動とともに、Ｙサブガイド１２５の上をＹ方向に直線運動を行う。
【００２４】
以上に述べた構造によれば、Ｘテーブル１２２とＹテーブル１１０のそれぞれが移動することで、トップテーブル１３０のＸ方向およびＹ方向の二次元移動が可能となる。なお、トップテーブル１３０の上には、その位置をレーザ干渉計３により計測するための固定ミラー（Ｘミラー１３１，Ｙミラー１３２）と、試料ホルダ１３３が搭載されている。
【００２５】
図１では、説明を簡単とするため、ステージ機構１をＹ方向から見た側面図として示しており、以下、Ｘ方向の位置決め制御の概略を説明する。
【００２６】
まず、トップテーブル１３０のＸ方向の動作は、Ｘテーブル１２２を駆動するＸアクチュエータ１２３の動作により決定される。すなわち、Ｘアクチュエータ１２３の可動部がＸ方向に直線運動することによって、これが固定されたＸテーブル１２２がＸガイド１２１に案内されて移動し、これとともにＸテーブル１２２の上に搭載されたＹサブガイド１２５に拘束されたトップテーブル１３０がＸ方向に移動する。制御装置２のサーボ制御部においてＸアクチュエータ１２３の位置，速度，推力のサーボ制御を実行するために、トップテーブル１３０のＸ方向の位置がレーザ干渉計３で計測され、制御装置２のサーボ制御部にフィードバックされている。また、同サーボ制御部からは、Ｘアクチュエータ１２３の推力を発生させるための駆動電流が出力される。
【００２７】
トップテーブル１３０が移動を開始すると、Ｘベース１２０の上に固定されたＸブレーキ１２４による制動力が解除（以下、ブレーキオフ）され、トップテーブル１３０の位置決め時には、トップテーブル１３０のＸ方向の位置偏差が予め設定された一定の許容範囲内に入ったところで、Ｘブレーキ１２４の制動力が発生（以下、ブレーキオン）することにより、Ｘテーブル１２２を停止させる。さらに、Ｘテーブル１２２の停止直後にサーボ制御をオフ（以下、サーボオフ）することにより、サーボ制御に起因する微小な振動をなくすとともに、Ｘブレーキ１２４の制動力によりＸテーブル１２２の停止後のドリフトを抑える。なお、以上のようなブレーキオン／オフの制御は、制御装置２のブレーキ制御部で実行され、ここからブレーキ駆動信号が出力される。
【００２８】
図３は、本発明実施形態に係るブレーキ機構の概略模式図である。ここでは、ブレーキ機構の動作原理を説明のために、前記したＸブレーキ１２４を例として、その断面構造と動作の概略を模式的に表している。なお、以下に述べる構造や動作に関しては、Ｙブレーキ１１４についても全く同様である。
【００２９】
図３において、ブレーキベース１２４０の上に、圧縮コイルばね１２４３と吸引型アクチュエータ１２４４が固定され、これらの上に可動平面部材１２４１が固定されている。また、可動平面部材１２４１の上にはブレーキパッド１２４２が取り付けられており、これが可動テーブル（この場合、Ｘテーブル１２２）に接触する部分となる。このように、ブレーキ機構の駆動手段は、圧縮コイルばね１２４３と吸引型アクチュエータ１２４４を用いた安価かつ単純なものであるため、ステージ装置のコスト増大を抑えることができる。
【００３０】
図３（ａ）において、吸引型アクチュエータ１２４４の発生推力により、圧縮コイルばね１２４３のばね力に抗して可動平面部材１２４１が下方向へ引き下げられ、Ｘテーブル１２２の下面とブレーキパッド１２４２が非接触となっている。これがブレーキオフの状態である。このときの可動平面部材１２４１の引き下げ量ｄが吸引型アクチュエータ１２４４の動作量となり、圧縮コイルばね１２４３の初期変位とｄの合計から求まるばね力が吸引型アクチュエータ１２４４の必要推力となる。Ｘテーブル１２２が移動を開始すると、このようにブレーキオフの状態となる。ブレーキオフの状態では、吸引型アクチュエータ１２４４が推力を発生し続けている。
【００３１】
図３（ｂ）において、吸引型アクチュエータ１２４４の推力が解除され、圧縮コイルばね１２４３のばね力によって可動平面部材１２４１が上方向へ押し上げ、Ｘテーブル１２２の下面に対してブレーキパッド１２４２が押し付けられている。これがブレーキオンの状態である。このときのＸテーブル１２２の下面に作用する制動力は、圧縮コイルばね１２４３の初期変位によるばね力から可動平面部材１２４１とブレーキパッド１２４２の重量を差し引いた正味の押し付け力に、ブレーキパッド１２４２とＸテーブル１２２の下面との摩擦係数を乗じた摩擦力となる。Ｘテーブル１２２を位置決めするときに、このようにＸブレーキ１２４をブレーキオンとすることにより、Ｘテーブル１２２を停止させる。さらに、Ｘブレーキ１２４の制動力により停止後のドリフトを抑える。
【００３２】
なお、図３に示した吸引型アクチュエータ１２４４としては、例えば、通電吸引型の電磁ソレノイドやボイスコイルモータなどを利用する。また、図３のように吸引型アクチュエータ１２４４により可動平面部材１２４１を引き下げてブレーキオフの状態を発生させる機構の他に、例えば、回転モータとカム機構あるいは歯車機構を組み合わせて用いる機構も構成可能である。
【００３３】
また、図３では、圧縮コイルばね１２４３を用いたブレーキ機構の構成を示したが、圧縮コイルばね１２４３の代わりに板ばねを用いたブレーキ機構も構成可能である。
【００３４】
図４は、本発明実施形態に係るステージ装置における制御装置の概略構成を示す図である。
【００３５】
図４において、制御装置２は、メイン制御部２０１とサーボ制御部２０２とブレーキ制御部２０３とから構成される。ここで、サーボ制御部２０２には、位置制御部２０２１，速度制御部２０２２，推力制御部２０２３があり、それぞれにおいて、レーザ干渉計３で計測したステージ機構１の位置情報に基づいて、位置制御ループ，速度制御ループ，推力制御ループの演算が実行される。このような演算の結果として求まるアクチュエータ駆動指令がアンプ２０２４を経由し、ステージ機構１のＸテーブル１２２，Ｙテーブル１１２を駆動する各アクチュエータ（１２３，１１３）に出力される。
【００３６】
また、ブレーキ制御部２０３には、図３に示したブレーキ機構における吸引型アクチュエータ１２４４の推力を制御するための電流制御部２０３１とアンプ２０３２がある。ここで、電流制御部２０３１では、図３に示したブレーキオフの状態からブレーキオンの状態に遷移する際に、可動テーブル（図３ではＸテーブル１２２）の下面に対する押し付け力が急激に作用しないように、吸引型アクチュエータ１２４４の推力を徐々に減るようにその駆動電流を調整し、アンプ２０３２を経由して吸引型アクチュエータ１２４４に出力する。このような電流制御により、可動テーブルの下面に作用する押し付け力を連続的に増加させることができ、その結果として可動テーブルへの制動力を連続的に増加させることができる。例えば、吸引型アクチュエータ１２４４として、通電吸引型の電磁ソレノイドを利用した場合、ブレーキオフのときにコイルに最大電流を通電し、ブレーキオフからブレーキオンに遷移する間にコイル電流を徐々に減らし、完全なブレーキオンのときにはコイルを非通電にするように電流制御を行えば良い。
【００３７】
メイン制御部２０１には、位置決め制御部２０１１があり、ここからサーボ制御部２０２とブレーキ制御部２０３の機能を呼び出し、サーボオン／オフ，ブレーキオン／オフを切り替えながら、ステージの位置決め制御を実行する。
【００３８】
図５は、本発明実施形態に係るステージの位置決め制御方法の実行手順を示すフローチャートである。また、図６は、本発明実施形態に係るステージの位置決め制御方法により実現されるステージ位置決め時のステージの位置の時間応答波形の一例を示す図である。以下、図５および図６を用いて、本発明実施形態に係るステージの位置決め制御方法について説明する。
【００３９】
図５に示すフローチャートによれば、位置決め制御を開始すると（ステップ５０１）、まず、目標位置の設定を行う（ステップ５０２）。具体的には、上位装置において、予め登録してある座標値、もしくはオペレータの手入力や画面上でカーソルで示す座標値を指定することにより目標位置が設定される。
【００４０】
次に、ステージを駆動するアクチュエータをサーボオンし（ステップ５０３）、さらにブレーキオフにする（ステップ５０４）。ここで、レーザ干渉計３によりステージの現在位置を取得し（ステップ５０５）、ステージ移動開始時には、目標位置と現在位置との差分により移動距離を求め、所定の速度パターンに基づき、補間周期毎の位置補間演算を実行する（ステップ５１２）。この位置補間演算で求められる位置を制御周期毎の目標値として位置制御ループ演算を実行し（ステップ５１３）、位置制御ループ出力を目標値として速度制御ループ演算を実行し（ステップ５１４）、さらに、速度制御ループ出力を目標値として推力制御ループ演算を実行する（ステップ５１５）。なお、ここで述べた制御ループ演算（ステップ５１３，５１４，５１５）は、それぞれの制御周期での割り込み処理として実装されるため、実際にはステップ５１３，５１４，５１５が、同じタイミングで順番に実行されるということではない。これは、前記したステップ５１２についても同様である。
【００４１】
図６において、ステージが目標位置に向かって移動を開始するときは、サーボオンかつブレーキオフの状態になっており、位置の時間応答曲線６０１は時間の経過とともにステージが目標位置に近づいていく様子を示す。ここに示すように、ステージが目標位置の近傍に到達すると、目標位置に対して行き過ぎや戻り過ぎが発生し、振動的な挙動を示す。このような振動を短時間で整定するために、図５に示したフローチャートでは、目標位置と現在位置の偏差が、予め設定された一定の位置決め幅ｗ（図６に示した領域６０２）に入れば（ステップ５０９）、ブレーキオンにし（ステップ５１０）、ステージに制動をかける。また、ブレーキオンの時点からの経過時間を計測開始する（ステップ５１１）。このあと、経過時間が予め設定された一定の待ち時間ｔを超えれば、アクチュエータをサーボオフにする（ステップ５０８）。これにより、ステージ停止後のサーボ制御に起因する微小振動をなくすことができる。なお、サーボオフの状態になれば（ステップ５０８）、位置決め制御に関する一連の処理を完了する（ステップ５１６）。図６に示したように、ステージが目標位置に到達し、停止している間は、サーボオフかつブレーキオンの状態となっている。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明実施形態に係るステージ装置の全体構成を示す図である。
【図２】本発明実施形態に係るステージ機構の概略見取図である。
【図３】本発明実施形態に係るブレーキ機構の概略模式図である。
【図４】本発明実施形態に係るステージ装置における制御装置の概略構成を示す図である。
【図５】本発明実施形態に係るステージの位置決め制御方法の実行手順を示すフローチャートである。
【図６】本発明実施形態に係るステージの位置決め制御方法により実現されるステージ位置決め時のステージの位置の時間応答波形の一例を示す図である。
【符号の説明】
【００４３】
１ ステージ機構
２ 制御装置
３ レーザ干渉計
１００ ベース
１１０ Ｙベース
１１１ Ｙガイド
１１２ Ｙテーブル
１１３ Ｙアクチュエータ
１１４ Ｙブレーキ
１１５ Ｘサブガイド
１１６ サブテーブル
１２０ Ｘベース
１２１ Ｘガイド
１２２ Ｘテーブル
１２３ Ｘアクチュエータ
１２４ Ｘブレーキ
１２５ Ｙサブガイド
１３０ トップテーブル
１３１ Ｘミラー
１３２ Ｙミラー
１３３ 試料ホルダ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固定されたベースと、
前記ベースに設けられた案内機構と、
前記案内機構に沿って移動する可動テーブルと、
前記可動テーブルを駆動する駆動機構と、
前記ベースに設けられ、前記可動テーブルを制動する制動機構とで構成されるステージ機構と、
前記可動テーブルの位置を測定する位置検出器と、
前記位置検出器により測定される前記可動テーブルの位置と予め設定される目標位置の偏差に基づき、前記駆動機構のサーボ制御を行うとともに、前記制動機構の制動力の発生を制御し、前記可動テーブルの位置決め制御を行う制御装置とを備えたことを特徴とするステージ装置。
【請求項２】
請求項１に記載のステージ装置において、
前記制動機構は、
前記ベースに固定され、前記可動テーブルの前記ベースとの対向面に対して、一定のばね力により面部材を押し付けることにより制動力を発生するとともに、前記一定のばね力よりも大きい駆動力により前記面部材と前記可動テーブルとを非接触として前記制動力を解除することを特徴とするステージ装置。
【請求項３】
請求項１に記載のステージ装置において、
前記制御装置は、
前記可動テーブルの移動開始とともに、前記制動機構の制動力を解除し、前記可動テーブルの位置と前記目標位置との偏差が予め設定される位置決め幅よりも小さくなったとき、前記制動機構の制動力を発生して、前記可動テーブルを停止させ、前記可動テーブルが停止した直後に前記駆動機構のサーボ制御をオフにすることを特徴とするステージ装置。
【請求項４】
固定されたベースと、前記ベースに設けられた案内機構と、前記案内機構に沿って移動する可動テーブルと、前記可動テーブルを駆動する駆動機構と、前記ベースに設けられて前記可動テーブルを制動する制動機構とから構成されるステージ機構と、前記可動テーブルの位置を測定する位置検出器と、前記ステージ機構の位置決め制御を行う制御装置とを備えたステージ装置におけるステージの位置決め制御方法であって、
前記制御装置は、位置検出器により測定される前記可動テーブルの位置と予め設定される目標位置との偏差に基づき、前記駆動機構のサーボ制御を行うステップと、
前記偏差が予め設定される位置決め幅よりも小さくなったとき、前記制動機構の制動力を発生して、前記可動テーブルを停止させるステップと、
前記可動テーブルが停止した直後に前記駆動機構のサーボ制御をオフにするステップとを備えたことを特徴とするステージ装置におけるステージの位置決め制御方法。
【請求項１】
固定されたベースと、
前記ベースに設けられた案内機構と、
前記案内機構に沿って移動する可動テーブルと、
前記可動テーブルを駆動する駆動機構と、
前記ベースに設けられ、前記可動テーブルを制動する制動機構とで構成されるステージ機構と、
前記可動テーブルの位置を測定する位置検出器と、
前記位置検出器により測定される前記可動テーブルの位置と予め設定される目標位置の偏差に基づき、前記駆動機構のサーボ制御を行うとともに、前記制動機構の制動力の発生を制御し、前記可動テーブルの位置決め制御を行う制御装置とを備えたことを特徴とするステージ装置。
【請求項２】
請求項１に記載のステージ装置において、
前記制動機構は、
前記ベースに固定され、前記可動テーブルの前記ベースとの対向面に対して、一定のばね力により面部材を押し付けることにより制動力を発生するとともに、前記一定のばね力よりも大きい駆動力により前記面部材と前記可動テーブルとを非接触として前記制動力を解除することを特徴とするステージ装置。
【請求項３】
請求項１に記載のステージ装置において、
前記制御装置は、
前記可動テーブルの移動開始とともに、前記制動機構の制動力を解除し、前記可動テーブルの位置と前記目標位置との偏差が予め設定される位置決め幅よりも小さくなったとき、前記制動機構の制動力を発生して、前記可動テーブルを停止させ、前記可動テーブルが停止した直後に前記駆動機構のサーボ制御をオフにすることを特徴とするステージ装置。
【請求項４】
固定されたベースと、前記ベースに設けられた案内機構と、前記案内機構に沿って移動する可動テーブルと、前記可動テーブルを駆動する駆動機構と、前記ベースに設けられて前記可動テーブルを制動する制動機構とから構成されるステージ機構と、前記可動テーブルの位置を測定する位置検出器と、前記ステージ機構の位置決め制御を行う制御装置とを備えたステージ装置におけるステージの位置決め制御方法であって、
前記制御装置は、位置検出器により測定される前記可動テーブルの位置と予め設定される目標位置との偏差に基づき、前記駆動機構のサーボ制御を行うステップと、
前記偏差が予め設定される位置決め幅よりも小さくなったとき、前記制動機構の制動力を発生して、前記可動テーブルを停止させるステップと、
前記可動テーブルが停止した直後に前記駆動機構のサーボ制御をオフにするステップとを備えたことを特徴とするステージ装置におけるステージの位置決め制御方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２００９−２５２８０９（Ｐ２００９−２５２８０９Ａ）
【公開日】平成２１年１０月２９日（２００９．１０．２９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−９５６４９（Ｐ２００８−９５６４９）
【出願日】平成２０年４月２日（２００８．４．２）
【出願人】（５０１３８７８３９）株式会社日立ハイテクノロジーズ (4,325)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年１０月２９日（２００９．１０．２９）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年４月２日（２００８．４．２）
【出願人】（５０１３８７８３９）株式会社日立ハイテクノロジーズ (4,325)
【Ｆターム（参考）】
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