【課題】例えば幅広ビーム源への使用に好適な、実用性に優れるラインプラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】ラインプラズマ発生装置１０は、長手方向にマイクロ波を伝搬するための導波管１４と、長手方向に沿って配設され、導波管１４にプラズマを閉じ込めるための長手方向に交差する磁場を発生させるための磁石１６と、を備える。導波管１４は、側壁２４から管内に突き出して長手方向に延びるリッジ部２６を備え、リッジ部２６は側壁２４の外表面に長手方向に延びる凹部２８を形成してもよい。磁石１６は、凹部２８に配設されていてもよい。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波イオン源のプラズマチャンバの例えば真空窓を保護する。
【解決手段】マイクロ波イオン源１０は、マイクロ波を受け入れるための真空窓２４を有するプラズマチャンバ１２と、マイクロ波の伝搬方向またはその逆方向を向く磁場を発生させる電磁石２０と、永久磁石２２と、を含み、電磁石２０による磁場と同一方向を向く合成磁場をプラズマチャンバ１２に発生させる磁場発生器１６と、を備える。永久磁石２２は、合成磁場の強度分布のピークを、電磁石２０による磁場の強度分布のピークよりも真空窓２４に近づけるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】質量分離機能を有さない簡易な装置構成で同一質量の水素イオンのみをドーピングするイオンドーピング装置を提供することを目的の一とする。また、そのイオンドーピング方法を提供することを目的の一とする。
【解決手段】誘電体板を外壁の一部とするプラズマ室に水素を導入し、マイクロ波により当該誘電体板に表面波を発生させると、水素の負イオンの生成されやすい領域ができる。当該負イオンは分子量１のものしか生成されないため、質量分離をせずとも、電界をかけることにより同一質量のイオンのみを対象物に添加できる。 （もっと読む）

【課題】高周波放電型のプラズマ発生装置において、ＰＦＧ電流の減少が少なく、長寿命化を図る。
【解決手段】プラズマ生成容器内で高周波放電によってガスを電離させてプラズマを生成して、電子放出孔を通してプラズマよりの電子を外部に放出する装置であって、プラズマ生成容器内に設けられていて高周波を放射するアンテナとアンテナ全体を覆うものであって絶縁物から成るアンテナカバーとを備えており、前記電子放出孔のあるプラズマ電極材質が導電性材料であるプラズマ発生装置において、プラズマ電極の表面にプラズマによるスパッタリングによって絶縁物がプラズマ電極のプラズマ側に堆積することを防止し、導通を確保する筒状の枠体領域に枠体の内側または内側と外側に厚みの異なる突起部がある枠カバーをもっていることを特徴とするプラズマ発生装置。 （もっと読む）

【課題】ＥＣＲイオン源の製造コストを低減させる。
【解決手段】ＥＣＲイオン源のミラー磁場発生装置１は、プラズマを生成し閉じ込めるプラズマチャンバー２と、正多角形または円形の複数の永久磁石３２がプラズマチャンバー２の周囲に配置され、該複数の永久磁石３２によりプラズマチャンバー２内のプラズマを閉じ込めるミラー磁場を生成するミラー磁場生成部３と、を備える。汎用性のある永久磁石を用いてプラズマチャンバーにミラー磁場を発生させることができるので、永久磁石の配置や個数を調整することでミラー磁場を簡便に調整することができる。つまり、ＥＣＲイオン源の仕様変更に対して、新たな仕様に応じたサイズや特性の異なる永久磁石を作成することなく、仕様変更に対応可能となる。この結果、プラズマチャンバーの大型化などＥＣＲイオン源の仕様変更に対して、製造コストを低減させることができる。 （もっと読む）

【課題】絞りを用いずに、イオンビームの強度を従来より広い範囲で可変にできるイオン源及びイオン照射方法を提供する。
【解決手段】
イオン源１０ａは、第一、第二のプラズマ室１１ａ、１２ａを有している。第一のプラズマ室１１ａ内と第二のプラズマ室１２ａ内は接続孔１３ａで接続されている。第二のプラズマ室１２ａ内のイオンは引出電極２０ａによりイオン引出孔１４ａを通して外部に引き出され、イオンビームとして放出される。第二のプラズマ室１２ａ内で生成する場合と同程度の量のプラズマを、第一のプラズマ室１１ａ内で生成した場合には、プラズマ中のイオンは接続孔１３ａを通って第二のプラズマ室１２ａ内に移動するので、第二のプラズマ室１２ａ内のイオンの密度は第二のプラズマ室１２ａ内で生成する場合よりも小さくなり、従って、第二のプラズマ室１２ａ内で生成する場合よりもイオンビームの強度は小さくなる。 （もっと読む）

【課題】ＥＣＲイオン源を用いて、原子内包フラーレンを容易に形成し、かつイオンビームとして引き出し、分析するＥＣＲイオン源装置を提供する。
【解決手段】常温で気体の物質と、高融点の物質のガスのＥＣＲプラズマを生成可能なＥＣＲチェンバ部１ａと、フラーレンガス供給用の蒸発源１０８を有するプロセスチェンバ部１ｂと、イオン引き出しメッシュ電極１０４と、イオンアパーチャ１０７とを備え、イオン引き出しメッシュ電極１０４とイオンアパーチャ１０７への印加電圧を制御することにより、ＥＣＲプラズマのプラズマポテンシャルを制御し、ＥＣＲプラズマからイオンのみをプロセスチェンバ部１ｂへ抽出し、当該イオンをフラーレンにイオン注入し、フラーレン誘導体を生成すると同時に、イオンアパーチャ１０７よりイオンビーム９４として引き出し、分析するＥＣＲイオン源装置５０。 （もっと読む）

【課題】効率的なガス供給並びに、イオン源の作動ガス交換時の迅速な反応時間を可能にすること。
【解決手段】プラズマチャンバと電極を有しており、当該電極はプラズマチャンバの方へ延在しており、イオン化されるガスのためのガス線路が前記電極の全長にわたって当該電極に対して平行に延在している、粒子線を生成するためのイオン源。 （もっと読む）

高密度の幅広リボンビームを生成することができる、１または複数のプラズマ源を利用するイオン源が開示される。このイオン源は、拡散チャンバをさらに含む。この拡散チャンバは、プラズマ源の誘電体シリンダと同じ軸の方向に向いた抽出用開口を有している。一実施例において、拡散チャンバの対向する端部に位置する、デュアルプラズマ源を使用してより均一な抽出イオンビームを生成する。更なる実施例において、マルチカスプ磁場を使用して、抽出イオンビームの均一性を更に改善する。
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【課題】小型で軽量、かつ高安定で長寿命なイオン源を提供する。
【解決手段】イオン源１００は、プラズマ１０１を生成するための誘電体からなる放電管１０２が、マイクロ波発振器１０３と接続された導波管１０４を貫通して配置されている。また、プラズマ１０１からイオンビーム１０６を引き出すための引き出し電極１０７ａ，１０７ｂが設けられている。さらに、放電管１０２が貫通している導波管１０４の両面には、永久磁石１０９，１１０が配置されており、その両者は、強磁性部材１１１によって磁気的に接続されている。さらに、導波管１０４の終端にはファン１１４が設けられており、放電管１０２を気流により直接冷却可能な構造となっている。 （もっと読む）

【課題】装置の複雑化及び真空チャンバー内の真空度の低下を防ぎ、クラスターの崩壊を抑える。
【解決手段】ガスを噴出して断熱膨張させクラスターを生成するノズル５を、スキマー４で仕切られたクラスター生成室２に配置し、生成したクラスターをイオン化装置２０にてイオン化させる。イオン化装置２０は、ノズル５から噴出してクラスター生成室２に滞留するガスを用いて、プラズマ１０を発生させるプラズマ発生部２１を有する。そして、ノズル５により生成されたクラスターとプラズマ発生部２１により発生させたプラズマ１０とを衝突させてクラスターをイオン化させる。 （もっと読む）

【課題】 アンテナを有するＥＣＲ型のプラズマ発生装置において、プラズマによるアンテナカバーの消耗の課題を解決する。
【解決手段】 このプラズマ発生装置１０は、プラズマ２４を生成するプラズマ室２０に隣接して設けられていて真空に排気されるアンテナ室４０と、その内部に設けられていて高周波を放射するアンテナ４２と、絶縁物から成り、プラズマ室２０とアンテナ室４０との間をガスを阻止するように仕切ると共にアンテナ４２から放射された高周波を通す仕切り板５４と、プラズマ室２０の外部に設けられていてプラズマ室２０内に電子サイクロトロン共鳴を起こす磁界Ｂを発生させる磁石装置６０とを備えている。 （もっと読む）

【解決手段】本発明は、４分の１波長アンテナを構成する第１のロッド(3) を備えたプラズマ源に関しており、第１のロッド(3) は、第１のロッドと略同一の長さを有し基準電圧に設定されたカプラ(6,7,8) を構成する少なくとも１本の平行なロッドに囲まれており、カプラを構成するロッドは、第１のロッドの周りに４分の１波長の約５分の１乃至20分の１の距離を置いてラジアル方向に均一に配置されている。
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１以上のヘリコンプラズマソースを利用して高密度のワイドリボンイオンビームを生成することのできるイオンソースを開示する。イオンソースは、ヘリコンプラズマソースに加えて、拡散チャンバも含む。拡散チャンバは、ヘリコンプラズマソースの誘電体シリンダの軸と同じ軸に沿った方向に向けられた抽出開口を有する。一実施形態において、拡散チャンバの向かい合う両端に位置する２つのヘリコンプラズマソースが設けられ、より均一なイオンビームが抽出される。また、他の実施形態において、マルチカスプ磁場を使用することにより、抽出されたイオンビームの不均一性を改善する。 （もっと読む）

本発明は、長軸(ＡＡ')に沿う軸方向の対称性を持つ真空気密チェンバー(２)、
軸(ＡＡ')に関して回転対称性を持つ磁場を発生させるための手段(３、４、５、６)、そ
して高周波を伝搬するための手段からなるＥＣＲイオン・ゼネレータ(１)に関する。チェンバー(２)は、イオンが生成されるイオン化ゾーン(１０)を持つチェンバー(２)の一端にイオン化第一ステージ(７)、ゾーン(１０)内で軸(ＡＡ')にほぼ平行な磁場、そして伝搬
手段から来る第一の高周波を使用する生成されたイオンを磁気的に閉じ込めるための第二のステージ(８)を持つ。磁場が、ゾーン(１０)と第二のステージ(８)との間で軸(ＡＡ')
にほぼ平行であるため、ゾーン(１０)内で生成されたイオンは、第二のステージ(８)の方へ移動する。また、第一および第二のステージ(７、８)は、同じＤＣプラズマを含む。 （もっと読む）

【課題】低コスト化を図った上で、イオン源へ原料ガスを流通する原料ガス配管内の放電を抑止し、かつ、原料ガス流量調整手段を用いた高精度なガス流量調整を可能とするマイクロ波イオン源装置を得る。
【解決手段】高電圧領域３に設置されると共に、ガスボンベ２から供給される原料ガスをマイクロ波によって励起してプラズマとし、イオンビームとして引き出すイオン源１を備えたマイクロ波イオン源装置において、ガスボンベ２から供給される原料ガスを流通する原料ガス配管６の高電圧領域部に、原料ガスの圧力に差を形成する細管９を設けると共に、原料ガス配管６の低電圧領域部における原料ガスの圧力を調整するマスフローコントローラ１１を設け、原料ガスの供給量を調整する。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、プラズマ生成用の磁場が引き出し電極空間へ漏洩するのを防ぎ、電極表面の汚染や損傷を抑えて長時間安定なイオンビームを得ることができるイオン源を提供することにある。さらに漏洩磁場によるビームの発散を抑えた収束性のよいイオンビームが得られるイオン源を提供することにある。
【解決手段】
円筒状の放電室１と、該放電室１に磁場を発生する手段と、矩形断面から円形断面に変換するマイクロ波の変換導波管９により前記放電室１にマイクロ波を導入してプラズマを生成し、生成されたプラズマから３枚以上で構成されるイオン引き出し電極によってイオンビームを引き出すイオン源において、前記磁場を発生する手段の周囲あるいは周囲の一部に磁性体を配置するようにしたものである。さらに変換導波管９の一部及び放電室１の一部を磁性体で構成するとともにプラズマ電極１１を磁性体で構成したものである。 （もっと読む）

【課題】ＥＣＲイオンソースに関し、小さな体積で引出側の磁場強度を強めることができるようにすることによって、低費用高効率のイオンビーム生成が可能であり、小型軽量にて装置の消費電力節減をもたらして経済性を確保することができるようにする。
【解決手段】イオン引出部１ｂ側のプラズマチェンバー１に縮管部が形成され、縮管部の外側に第４永久磁石部６が具備され、縮管部によって縮小された直径分だけ第４永久磁石部６を含むイオン引出部１ｂ側の全体的な外径が小さくなるように構成し、縮管部は、内部に直径の縮小されたプラズマ電極１１及び引出電極１２とを含むことによって、低費用高効率のイオンビーム生成が可能である。 （もっと読む）

【課題】軸方向磁場の強度変化によるプラズマ密度或いはイオンビーム電流の変化を低減し、精密な磁場調整なしでビーム電流を安定化するマイクロ波イオン源或いはプラズマ源と、それを利用した線形加速器システム、医療用加速器システム等の機器等の応用装置を提供する。
【解決手段】永久磁石６を放電容器４の周囲に１６個、隣り合う磁石の極性が異なるように設置し、放電で発生するプラズマを閉じ込める多極磁場Ｂ２を放電容器壁近傍に局部的に発生させる。また、この多極磁場により軸方向磁場Ｂ１の変化によるプラズマ密度の変化が低減され、電極９ａ〜９ｃの孔より引き出されるイオンビームの電流の変化も低減される。これにより磁場Ｂ１の精密な調整なしでイオンビーム電流を安定化できる。また、軸方向磁場Ｂ１を永久磁石１５で発生させた場合でも、大電流のイオンビームが安定に得られる。 （もっと読む）

【課題】イオンビームのビーム電流の可変範囲を拡大する。
【解決手段】イオン源６５は、マイクロ波パワー制御装置１３，マイクロ波発信器１５，放電容器１９及び電極２１ａ，２１ｂ，２１ｃを有する。マイクロ波パワー制御装置１３がケーブル１４によりマイクロ波発信器１５に接続される。放電容器１９内にマイクロ波を入射することによってプラズマが発生され、プラズマ中のイオンはイオンビーム２３となってイオン源６５より出射される。マイクロ波パワー制御装置１３はマイクロ波発信器１５を制御し、マイクロ波１６のパワーをパルスの途中で最低放電点弧可能パワーＰ_C よりも低減させる。これによって、最低放電点弧可能パワーＰ_C に対応する電流値よりも低いイオンビーム電流のパルスイオンビームが得られる。 （もっと読む）