【課題】例えば幅広ビーム源への使用に好適な、実用性に優れるラインプラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】ラインプラズマ発生装置１０は、長手方向にマイクロ波を伝搬するための導波管１４と、長手方向に沿って配設され、導波管１４にプラズマを閉じ込めるための長手方向に交差する磁場を発生させるための磁石１６と、を備える。導波管１４は、側壁２４から管内に突き出して長手方向に延びるリッジ部２６を備え、リッジ部２６は側壁２４の外表面に長手方向に延びる凹部２８を形成してもよい。磁石１６は、凹部２８に配設されていてもよい。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波イオン源のプラズマチャンバの例えば真空窓を保護する。
【解決手段】マイクロ波イオン源１０は、マイクロ波を受け入れるための真空窓２４を有するプラズマチャンバ１２と、マイクロ波の伝搬方向またはその逆方向を向く磁場を発生させる電磁石２０と、永久磁石２２と、を含み、電磁石２０による磁場と同一方向を向く合成磁場をプラズマチャンバ１２に発生させる磁場発生器１６と、を備える。永久磁石２２は、合成磁場の強度分布のピークを、電磁石２０による磁場の強度分布のピークよりも真空窓２４に近づけるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】従来のイオン源に比べて、フィラメント（カソード）の断線が少なく、安定して、大型かつ大電流のイオンビームを生成する。
【解決手段】イオン源８は、スリット状開口部１１を有し、内部に突出した先端部がプラズマ３に接触しない位置に配置された少なくとも１つのカソード２を備えたプラズマ生成容器Ｕ１１〜Ｕ４２を複数備えている。さらに、スリット状開口部１１の長手方向に沿って各プラズマ生成用器内Ｕ１１〜Ｕ４２に磁場を発生させる磁場生成手段１２と、スリット状開口部１１を通して、断面形状が略長方形状のリボン状のイオンビーム１９を引き出す引出電極６とを備えている。そして、略長方形状断面の短手方向から見たとき、各プラズマ生成容器Ｕ１１〜Ｕ４２から引き出されたリボン状のイオンビーム１９の略長方形状断面の長手方向における一端部が互いに重なっている。 （もっと読む）

【課題】複数のフィラメントを有するイオンガンにおいて、イオンビームの電流密度を均一にする。
【解決手段】カソードが長手方向に延在する複数のフィラメントからなり、グリッドが長手方向に延在するイオンビーム引出し孔を有するイオンガンにおいて、イオンビーム引出し孔の周辺に配置された複数の主磁石であって、各々がＳ極をイオンビーム出射方向に、Ｎ極をその逆方向に向けて配置された主磁石、複数の主磁石の端部に長手方向及び幅方向に関して対称配置された少なくとも４個の第１の補助磁石であって、各々がＳ極を長手方向内向きに、Ｎ極をその逆方向に向けて配置された第１の補助磁石、及び複数のフィラメント間の離隔部分に対応する位置に幅方向に対称配置された第２の補助磁石であって、各々がＮ極をイオンビーム出射方向に、Ｓ極をその逆方向に向けて配置された第２の補助磁石を備える構成とした。 （もっと読む）

【課題】より高圧の真空領域での使用を可能とし、用途の拡大が図られた、イオンガン、及び成膜装置を提供する。
【解決手段】スリット状の開口部１１が形成された陰極２と、開口部１１の幅方向に磁場を発生させる磁石３と、磁場に対し略垂直方向に電界を生じさせるように陰極２の裏面から離間配置された陽極５とを備え、陰極２の表面の開口部１１からイオンビームが引き出されるイオンガン１である。磁石３は、ＳｍＣｏ合金を主成分として構成され、開口部１１は、陰極２の裏面から内部に向かって垂直に延びる隙間が略一定の垂直部と、垂直部に連続し、陰極２の表面に向かって隙間が漸次拡がる傾斜部とから構成され、垂直部の隙間が、０．７ｍｍ以上２．５ｍｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】従来のイオン源に比べて電極枚数が少ないにも関わらず、従来のイオン源と同等の機能を有する新規なイオン源を提供する。
【解決手段】イオン源１は、下流側（Ｚ方向側）からの電子の流入を抑制する抑制電極を備えていないイオン源１である。そして、イオンビーム３の引出し方向（Ｚ方向）に沿って配置された複数枚の電極（５、６、７）と、それら電極（５、６、７）の下流側（Ｚ方向側）に配置され、イオン源１より引出されたイオンビーム３を横切る磁界を発生させる少なくとも一対の磁極１４を有する磁界発生手段１１とを備えている。 （もっと読む）

【課題】ＥＣＲイオン源の製造コストを低減させる。
【解決手段】ＥＣＲイオン源のミラー磁場発生装置１は、プラズマを生成し閉じ込めるプラズマチャンバー２と、正多角形または円形の複数の永久磁石３２がプラズマチャンバー２の周囲に配置され、該複数の永久磁石３２によりプラズマチャンバー２内のプラズマを閉じ込めるミラー磁場を生成するミラー磁場生成部３と、を備える。汎用性のある永久磁石を用いてプラズマチャンバーにミラー磁場を発生させることができるので、永久磁石の配置や個数を調整することでミラー磁場を簡便に調整することができる。つまり、ＥＣＲイオン源の仕様変更に対して、新たな仕様に応じたサイズや特性の異なる永久磁石を作成することなく、仕様変更に対応可能となる。この結果、プラズマチャンバーの大型化などＥＣＲイオン源の仕様変更に対して、製造コストを低減させることができる。 （もっと読む）

【課題】新規なソース材料（特に、イオン注入プロセスにおいて新規なデカボランならびに水素化物およびダイマー含有化合物などの感熱性材料）を使用可能な、生産に値するイオンソースおよび方法を提供し、半導体ウェハの商業的なイオン注入において新規な範囲の性能を達成すること。
【解決手段】イオン注入システム用のイオン源（１）は、プロセスガスを生成する蒸発器（２）と、電子ビーム（３２）を指向してイオン化封入物（１６）内のプロセスガスをイオン化する電子源（１２）と、ビームダンプ（１１）と、イオン化チャンバ（５）と、イオンビームを取り出す抽出アパーチャ（３７）とを含み、本発明の制御システムは、個々の蒸気またはガス分子が、主に該電子銃からの一次電子との衝突によってイオン化され得るように、該一次電子のエネルギーの制御を可能にする制御システムとを含む。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、クリーンな状態が維持され、長寿命化が可能でありながら、イオンの生成量の増加が可能なイオン源を提供することにある。
【解決手段】プラズマ室１と、プラズマをプラズマ室１に閉じ込めるためのカスプ磁場発生用磁場発生手段としての永久磁石３と、プラズマを高温電子領域と低温電子領域に分離するためのフィルタ磁場発生用磁場発生手段としての永久磁石４と、永久磁石４より下流側に設けられ、イオンが通過するための開孔部５ｄを有したプラズマ電極５と、を備え、プラズマ電極５に取付けられた開孔部電極７の内部表面にダイヤモンド薄膜８が設けられたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】イオン化チャンバ内の電子ビーム通路に均一な磁場を生成する磁場装置を提供する。
【解決手段】電子衝撃イオン源用の磁場装置において、イオン化チャンバ内の電子ビーム通路に均一な磁束線１１９を生成させるために、一対の永久磁石５１０Ａ、５１０Ｂにより生成された磁束が、磁気ヨークアセンブリ５００を経て、電子ビーム通過用の一対の整列した開口５３０Ａ、５３０Ｂを有する磁極片５２０Ａ、５２０Ｂの間の間隙を通って戻るようにする。 （もっと読む）

【課題】負イオンの引出効率を向上させ電流密度のより高い負イオンビームを出射できる負イオン源を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明に係る負イオン源１０は、プラズマ容器１２と、熱電子を放出するフィラメント１６と、カスプ磁場を形成する複数の磁石Ｍ１と、プラズマから負イオンを引き出す引出電極２６と、プラズマ容器１２の内部空間を放電空間Ｓ１と引出空間Ｓ２とに分割するフィルタ磁場ＭＦを形成するフィルタ磁場形成手段Ｍ２と、プラズマ容器１２内に配置され、放電空間Ｓ１から引出空間Ｓ２への正イオンの移動を妨げるためのバリア電極３０とを備え、バリア電極３０は、ビーム軸Ｃ方向において引出電極２６との間にフィルタ磁場ＭＦを挟むような位置に配置され、この位置に正電位の等電位空間を形成し励起分子等の移動を許容するような複数の空間部３５を形成する形状を有することを特徴とする。 （もっと読む）

高密度の幅広リボンビームを生成することができる、１または複数のプラズマ源を利用するイオン源が開示される。このイオン源は、拡散チャンバをさらに含む。この拡散チャンバは、プラズマ源の誘電体シリンダと同じ軸の方向に向いた抽出用開口を有している。一実施例において、拡散チャンバの対向する端部に位置する、デュアルプラズマ源を使用してより均一な抽出イオンビームを生成する。更なる実施例において、マルチカスプ磁場を使用して、抽出イオンビームの均一性を更に改善する。
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【課題】小型で軽量、かつ高安定で長寿命なイオン源を提供する。
【解決手段】イオン源１００は、プラズマ１０１を生成するための誘電体からなる放電管１０２が、マイクロ波発振器１０３と接続された導波管１０４を貫通して配置されている。また、プラズマ１０１からイオンビーム１０６を引き出すための引き出し電極１０７ａ，１０７ｂが設けられている。さらに、放電管１０２が貫通している導波管１０４の両面には、永久磁石１０９，１１０が配置されており、その両者は、強磁性部材１１１によって磁気的に接続されている。さらに、導波管１０４の終端にはファン１１４が設けられており、放電管１０２を気流により直接冷却可能な構造となっている。 （もっと読む）

【課題】複数のイオンビーム引出し孔が整列されたイオンガンにおいて、イオンビーム電流密度を均一にする。
【解決手段】カソード及びアノードからなるプラズマ生成手段並びにプラズマからイオンビームを引き出すグリッドを備えたイオンガンにおいて、グリッドが長手方向に複数又は一連のイオンビーム引出し孔を有し、複数又は一連のイオンビーム引出し孔の中心部を原点として、長手方向をｘ軸方向、イオンビーム出射方向をｚ軸正方向として、複数又は一連のイオンビーム引出し孔の周辺に配置され、複数又は一連のイオンビーム引出し孔にｚ軸正方向の磁場を与える第１の磁石、及び複数又は一連のイオンビーム引出し孔の端部に配置され、端部付近にｘ軸原点方向の磁場を与える第２の磁石をさらに備える構成とした。 （もっと読む）

【課題】 アンテナを有するＥＣＲ型のプラズマ発生装置において、プラズマによるアンテナカバーの消耗の課題を解決する。
【解決手段】 このプラズマ発生装置１０は、プラズマ２４を生成するプラズマ室２０に隣接して設けられていて真空に排気されるアンテナ室４０と、その内部に設けられていて高周波を放射するアンテナ４２と、絶縁物から成り、プラズマ室２０とアンテナ室４０との間をガスを阻止するように仕切ると共にアンテナ４２から放射された高周波を通す仕切り板５４と、プラズマ室２０の外部に設けられていてプラズマ室２０内に電子サイクロトロン共鳴を起こす磁界Ｂを発生させる磁石装置６０とを備えている。 （もっと読む）

【解決手段】本発明は、４分の１波長アンテナを構成する第１のロッド(3) を備えたプラズマ源に関しており、第１のロッド(3) は、第１のロッドと略同一の長さを有し基準電圧に設定されたカプラ(6,7,8) を構成する少なくとも１本の平行なロッドに囲まれており、カプラを構成するロッドは、第１のロッドの周りに４分の１波長の約５分の１乃至20分の１の距離を置いてラジアル方向に均一に配置されている。
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【課題】ビーム電流のより大きな負イオンビームを出射する負イオン源、及び負イオン源の運転方法を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、プラズマ容器１２と、熱電子を放出して原料ガスからプラズマを生成するフィラメント１６と、プラズマ容器１２の外周に沿って設けられてカスプ磁場を形成する複数の磁石Ｍ１と、プラズマから負イオンを外部に引き出して負イオンビームを生成する引出電極２０と、プラズマ容器１２の内部空間を放電空間Ｓ１と引出空間Ｓ２とに分割するような位置にフィルタ磁場ＭＦを形成するフィルタ磁場形成手段Ｍ２とを備える負イオン源１０を用い、出空間Ｓ２内に形成されたプラズマのプラズマポテンシャルＶｐが測定され、このプラズマポテンシャルＶｐの測定値に対して引出電極２０の電位が同電位又は略同電位となるように引出電圧が調節されることを特徴とする。 （もっと読む）

１以上のヘリコンプラズマソースを利用して高密度のワイドリボンイオンビームを生成することのできるイオンソースを開示する。イオンソースは、ヘリコンプラズマソースに加えて、拡散チャンバも含む。拡散チャンバは、ヘリコンプラズマソースの誘電体シリンダの軸と同じ軸に沿った方向に向けられた抽出開口を有する。一実施形態において、拡散チャンバの向かい合う両端に位置する２つのヘリコンプラズマソースが設けられ、より均一なイオンビームが抽出される。また、他の実施形態において、マルチカスプ磁場を使用することにより、抽出されたイオンビームの不均一性を改善する。 （もっと読む）

本発明は、長軸(ＡＡ')に沿う軸方向の対称性を持つ真空気密チェンバー(２)、
軸(ＡＡ')に関して回転対称性を持つ磁場を発生させるための手段(３、４、５、６)、そ
して高周波を伝搬するための手段からなるＥＣＲイオン・ゼネレータ(１)に関する。チェンバー(２)は、イオンが生成されるイオン化ゾーン(１０)を持つチェンバー(２)の一端にイオン化第一ステージ(７)、ゾーン(１０)内で軸(ＡＡ')にほぼ平行な磁場、そして伝搬
手段から来る第一の高周波を使用する生成されたイオンを磁気的に閉じ込めるための第二のステージ(８)を持つ。磁場が、ゾーン(１０)と第二のステージ(８)との間で軸(ＡＡ')
にほぼ平行であるため、ゾーン(１０)内で生成されたイオンは、第二のステージ(８)の方へ移動する。また、第一および第二のステージ(７、８)は、同じＤＣプラズマを含む。 （もっと読む）

【課題】 プラズマ生成容器内のＹ方向におけるプラズマ密度分布の制御が容易であり、しかもプラズマ生成容器内に発生させる磁界によってイオンビームの軌道が曲げられるのを防止することができるイオン源を提供する。
【解決手段】 このイオン源１０は、Ｙ方向に長いリボン状イオンビーム２をＺ方向に引き出すものであり、プラズマ生成容器１２と、プラズマ生成容器１２のＺ方向端付近に設けられていてＹ方向に伸びたイオン引出し口２６を有するプラズマ電極２４と、プラズマ生成容器１２内へ電子を放出してプラズマ２２を生成するためのものであってＹ方向に沿って複数段に配置された複数の陰極４０と、プラズマ生成容器１２内に、しかも複数の陰極４０を含む領域に、Ｚ方向に沿う磁界５６を発生させる磁気コイル５０とを備えている。 （もっと読む）