【課題】スキャン線バス配線を構成するアルミニウムとシリコンの相互拡散に起因するアンダーカット部の同通によるスキャン線間の短絡を防止する。
【解決手段】スキャン線は、その上層に上部電極２６の延長部を上層として積層したアルミニウム又はアルミニウム合金の中層９２と、データ線８との間に有する層間絶縁膜１４上に形成されたシリコン系膜２４からなる下層とから構成された走査信号線バス配線９を構成し、中層９２と下層２４の間にシリコン酸化膜９５を設けた。 （もっと読む）

【課題】粒径が１０ｎｍ以下、粒径バラツキが１５％以下、且つ安価な金属ナノ粒子の化学的製造方法を提供する。さらに、上記の金属ナノ粒子を用いた直径や本数密度の制御されたＣＮＴ構造体及びこのＣＮＴ構造体を用いた電子デバイスを提供する。
【解決手段】金属塩から金属前駆体溶液を形成する工程（Ａ）と、前記金属前駆体溶液から金属前駆体を抽出する工程（Ｂ）と、前記金属前駆体、界面活性体、溶媒を混合させ、前記溶媒の沸点以下の温度において反応させる工程（Ｃ）と、前記工程（Ｃ）の混合溶液から金属含有ナノ粒子を析出させる工程（Ｄ）を含み、前記工程（Ｃ）において、前記金属前駆体と界面活性体のモル濃度比が１以下であることを特徴とする金属含有ナノ粒子の製法。 （もっと読む）

【課題】酸化シリコン粒子を核に持ち、高耐性で表面積が広く、プロセス適性に優れたナノ炭素材料複合体とその製造方法並びにそれを用いた電子放出素子と面発光素子等の電子デバイスを提供する。
【解決手段】ナノ炭素材料複合体１は、酸化シリコン粒子２と酸化シリコン粒子２の表面に直接或いは金属又は金属化合物を介して形成したナノ炭素繊維３とからなる。ナノ炭素材料複合体を用いた電子放出素子は、基体上に設けた導電層と、酸化シリコン粒子に直接又は金属若しくは金属化合物を介してらせん構造を有するナノ炭素材料およびファイバー状ナノ炭素材料を形成してなるナノ炭素材料複合体とを含み、ナノ炭素材料複合体が導電層上に設けられ、強電界により電子を放出する。この電子放出素子を用いて面発光素子を作製することができる。 （もっと読む）

【課題】集束電極を設けることなく、電子の集束発散を制御するとともに、電子の放出角度を制御でき、効率良く固体中から電子を放出できるようにすることを目的とする。
【解決手段】ナノ結晶粒４０１と、ナノ結晶粒４０１を覆う絶縁物４０２とからなる電子ドリフト層１０４を挟んで、カソード電極１０６とアノード電極１０７とが形成される弾道電子放出源において、カソード電極１０６及びアノード電極１０７のうち少なくとも一方を複数配置することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 電子放出源、それを適用した電子装置及び電子放出源の製造方法を提供する。
【解決手段】 基板と別途に製造されたカソードを備え、カソードには、接着層によって固定された針状電子放出物質、例えば、カーボンナノチューブ層が設けられる電子放出源である。カーボンナノチューブ層は、懸濁液フィルタリング法を利用して形成され、後続する電子放出物質層の表面処理によって電子放出密度が上昇する。 （もっと読む）

【課題】材料にガラスを用いた基体上にＴａＮ（６方晶）、αＴａ、銅がこの順形成された溝配線構造の場合、配線と基体との間で十分な密着強度が得られない場合があった。
【解決手段】本発明は、ガラスからなる基体上に銅配線が形成された、配線基板であって、銅配線が、Ｔａ₂Ｎ膜、αＴａ膜、および、銅あるいは銅を主成分とする合金からなる膜がこの順に形成された積層構造であることを特徴とする配線基板である。 （もっと読む）

【課題】均一な電子ビームを放出でき、製造プロセスが容易な電子放出素子、該電子放出素子の製造方法、該電子放出素子を利用した電子源、及び、該電子源を利用した、画質が良好で高精細な画像表示装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る電子放出素子の製造方法において、電子放出膜を成膜する工程は、基体上に絶縁性または半導電性を有する第１の層１０３を成膜する工程と、第１の層１０３上に、炭素を主成分とする第２の層１０４を成膜する工程と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】冷陰極電界電子放出素子を製造するときの絶縁層における開口部を出来る限り均一に形成し得る方法を含む冷陰極電界電子放出素子の製造方法を提供する。
【解決手段】冷陰極電界電子放出素子の製造方法は、支持体１０上にカソード電極１１、絶縁層１２を形成し、次いで、コア部４１及びシェル部４２を有する多数の球状部材４０を絶縁層１２上に配置した後、シェル部４２を除去し、次に、コア部４１を含む絶縁層１２上にゲート電極を形成した後、コア部４１を除去して絶縁層１２の一部を露出させ、次いで、露出した絶縁層１２の部分を除去して開口部を形成して、開口部の底部にカソード電極を露出させた後、開口部の底部に露出したカソード電極の部分に電子放出部を形成する各工程から成る。 （もっと読む）

【課題】真空中だけでなく大気圧中でも安定した電子放出を可能とし、かつ電子放出に伴うオゾンやＮＯｘ等の有害物質の発生を抑制した、電子放出素子を提供する。
【解決手段】電子放出素子１’は、基板２８と上部電極３との間に電子加速層４’を備え、電子加速層４’は、抗酸化力が高い金属微粒子６と、金属微粒子６の大きさより大きい絶縁体物質５’とを含んでいる。この導電微粒子の大きさより大きい絶縁体物質５’は、基板上に層形成されており、かつ、層の厚み方向に貫通する複数の開口部５１を有しており、開口部５１には、金属微粒子６が収容されている。電子放出素子１’は、真空中だけでなく大気中でも安定して電子放出でき、放電を伴わないためオゾンやＮＯｘ等の有害物質をほぼ生成せず、酸化劣化しない。そのため、電子放出素子１’は、寿命が長く大気中でも安定して長時間連続動作できる。 （もっと読む）

【課題】電子放出ユニットの構造改善、製造工程単純化、製造費用節減ができ、カソード電極とゲート電極の耐電圧特性を改善して駆動安全性を高め得る発光装置及びこの発光装置を光源として使用する表示装置を提供すること。
【解決手段】
本発明は電子放出ユニットの構造と製造工程を単純化した発光装置及び、この発光装置を光源として使用する表示装置を提供する。発光装置１０１は第１基板１２と第２基板１４及び密封部材を含む真空パネルと、第１基板の一面から任意の深さを有するように形成される凹部２８と、凹部に形成されるカソード電極２４と、カソード電極上に配置される電子放出部２２と、電子放出部と距離をおいて第１基板の一面に固定されるゲート電極２６と、第２基板の一面に位置する発光ユニット２０を含む。ゲート電極は電子ビーム通過のための開口部が形成されたメッシュ部及びメッシュ部を囲む支持部３４を有する。 （もっと読む）

【課題】基板の一表面に垂直な方向へ成長させる多数の柱状結晶のサイズや形成位置のばらつきを抑制可能な多結晶薄膜の製造方法および複合ナノ結晶層の製造方法、並びに、電子放出効率の向上が可能な電界放射型電子源、発光効率の向上が可能な発光デバイスを提供する。
【解決手段】基板１１の一表面側に、アモルファスシリコン膜中に多数の微結晶シリコンを含んでいる微結晶シリコン薄膜２１を形成する微結晶シリコン薄膜形成工程（核形成工程）を行い（図１（ａ））、その後、微結晶シリコン薄膜２１中の微結晶シリコンを核として柱状シリコン結晶（柱状結晶）３１ａを成長させることにより多数の柱状シリコン結晶３１ａの集合体からなる多結晶シリコン薄膜（多結晶薄膜）３１を形成する多結晶シリコン薄膜形成工程（結晶成長工程）を行う（図１（ｂ））。 （もっと読む）

本発明は電界放射ディスプレイの製造方法に関し、排気された室中に電子放射体を構成し、電子放射体付近に波長変換材料を配置し、排気された室中に電子放射源を設けるステップを含んでおり、電子放射源は電子を電子放射体へ放射し、電子放射源は、基板を有し、複数のＺｎＯナノ構造を基板上に形成して形成され、ＺｎＯナノ構造は第１の端部と第２の端部を有し、第１の端部は前記基板に接続され、ＺｎＯナノ構造を相互に電気的に絶縁するために電気絶縁体を設け、導電部材をＺｎＯナノ構造の第２の端部に接続し、支持構造を導電部材上に設け、基板を除去してＺｎＯナノ構造の第１の端部を露出して形成される。本発明の利点は高さが整列されていないナノ構造の小さいセクションの存在による電界放射ディスプレイの寿命の増加を含んでいる。さらに高価な従来技術のエッチング、研磨等のステップを使用して、ナノ構造の「高さを整列」する必要をなくすことにより廉価な最終製品を実現できる。 （もっと読む）

【課題】電子放出素子を用いたフラットパネルディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】真空空間を挾み互いに対向する一対の背面基板及び透光性の前面基板と、各々が背面基板の真空空間側の表面に形成された下部電極上に形成された絶縁体層及び絶縁体層上に形成され真空空間に面する上部電極からなる背面基板上に配列された電子放出素子の複数と、を備えた電子放出素子フラットパネル表示装置であって、各々が独立して隣接する上部電極を電気的に接続する複数のバス電極を有し、バス電極と絶縁体層との間及びバス電極と背面基板との間に絶縁性保護膜を有する。 （もっと読む）

【課題】より低い電界での電子放出を実現し、低電圧で高効率な電子放出が可能で、製造プロセスが容易な電界放出型の電子放出素子、電子源、及び画像表示装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る電子放出素子は、カソード電極１０２と、カソード電極１０２上に設けられた絶縁膜１０３と、絶縁膜１０３上に設けられたダイポール層１０４と、を有する電子放出素子であって、ダイポール層１０４は、前記絶縁膜をＮＨ基で終端することにより形成されることを特徴とする。また、本発明に係る電子源は、上記電子放出素子を複数有することを特徴とする。また、本発明に係る画像表示装置は、上記電子源と、電子の照射によって発光する発光体と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】製造過程において安定で、かつ、低電圧で高効率な電子放出を安定して行うことのできる電子放出素子の製造方法、該製造方法で製造された電子放出素子、該電子放出素子を用いてなる電子源、及び、該電子源を利用した、高いコントラストを示す画像表示装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る電子放出素子の製造方法は、導電性の金属粒子が含まれたカーボン層を用意する工程と、前記導電性の金属粒子の一部を酸化させる工程と、前記カーボン層の表面にダイポール層を形成する工程と、を有することを特徴とする。また、本発明に係る電子放出素子は、上記電子放出素子の製造方法で製造されたことを特徴とする。また、本発明に係る電子源は、上記電子放出素子を複数備えることを特徴とする。また、本発明に係る画像表示装置は、上記電子源と、電子の照射によって発光する発光部材と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】真空中だけでなく大気圧中でも安定した電子放出を可能とし、かつ電子放出に伴うオゾンやＮＯｘ等の有害物質の発生を抑制した、電子放出素子を提供する。
【解決手段】電子放出素子１は、基板２と上部電極３との間に微粒子層４を備え、微粒子層４は、抗酸化力が高い金属微粒子６と、金属微粒子６の大きさより大きい絶縁体の微粒子５とを含んでいる。電子放出素子１は、真空中だけでなく大気中でも安定して電子放出でき、放電を伴わないためオゾンやＮＯｘ等の有害物質をほぼ生成せず、酸化劣化しない。そのため、電子放出素子１は、寿命が長く大気中でも安定して長時間連続動作できる。 （もっと読む）

【課題】垂直配向のグラファイトナノファイバを高密度かつ均一に形成可能なグラファイトナノファイバの製造方法、高出力電流密度のグラファイトナノファイバ電子源、高電流密度で高輝、大容量を有するフィールドエミッションディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】基板１８上にカソード電極１０を形成する工程と、カソード電極１０上に絶縁膜１２を形成する工程と、絶縁膜１２上にゲート電極１４を形成する工程と、絶縁膜１２中にカソード電極１０表面まで到達するホール１１を形成する工程と、ホール１１の底面に触媒金属層２８を形成する工程と、触媒金属層２８上に垂直配向にグラファイトナノファイバ４を形成する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】電子放出素子の大型化を招くことなく大きな放出電流が得られ、且つ、容易に製造可能な電子放出素子、当該電子放出素子を利用した電子源、及び、該電子源を利用した、画質が良好で高精細な画像表示装置を提供することにある。
【解決手段】本発明に係る電子放出素子は、第１のカソード電極、第２のカソード電極、第３のカソード電極、絶縁層、ゲート電極、及び、電子放出材を備える。ゲート電極、絶縁層、及び、第２のカソード電極のそれぞれには、互いに連通する開口が設けられている。電子放出材は、第１のカソード電極上に設けられており、上記開口内に少なくとも一部が露出している。第３のカソード電極は、第２のカソード電極の開口内に、電子放出材の露出領域の輪郭の長さを増やすように設けられており、第１のカソード電極と電気的に接続されている。 （もっと読む）

【課題】ホール形成層のホールの底面の略全域に金属触媒層を形成することができる炭素繊維装置及び炭素繊維装置の製造方法を提供する。
【解決手段】ＦＥＤ（炭素繊維装置）１は、カソード基板２と、カソード基板２上に形成されたカソード電極３と、カソード電極３上に形成された金属触媒層４と、金属触媒層４の一部を覆うとともに、金属触媒層４を露出させるホール１７が形成され、絶縁層１６を含むホール形成層６と、ホール形成層６から露出した金属触媒層４から延びる炭素繊維５とを備えている。ＦＥＤ１の製造方法では、金属触媒層４を形成した後、ホール形成層６が形成される。 （もっと読む）

【課題】電子放出素子及びこれを備えた発光装置を提供する。
【解決手段】基板と、基板上で一方向に沿って相互離隔されて位置する第１電極と、一方向に沿って第１電極の間に位置する第２電極と、第１電極及び第２電極と電気的に絶縁されるように配され、一方向と交差する方向に延設される第３電極と、第１電極及び第２電極の側面にそれぞれ形成される第１電子放出部及び第２電子放出部と、を備える電子放出素子である。隣接する前記第１電子放出部と前記第２電子放出部との間には、ギャップが形成されている。 （もっと読む）