【課題】平面型画像表示装置の蛍光面の混色を防止して高輝度化と長寿命化を図る。
【解決手段】映像信号配線８上に配置される電子源１０の表面の平面形状を略瓢箪形とした。 （もっと読む）

【課題】平面型画像表示装置の蛍光面の混色を防止する。
【解決手段】背面基板１に電子源１０をマトリクス状に備えた平面型画像表示装置で、前記電子源１０の面積を前記背面基板１の中央部と周辺部で異なる寸法とした。 （もっと読む）

【課題】十分な電子放出特性を備え、且つ、簡易な電子放出素子の製造方法、電子源の製造方法、および、画像表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る電子放出素子の製造方法は、カーボン膜を備える基板を用意する工程と、炭化水素もしくは水素、又は、炭化水素と水素の両方を含む雰囲気中で、前記カーボン膜の一部に、局所的にエネルギーを照射する工程と、を有することを特徴とする。また、本発明に係る電子源の製造方法は、複数の電子放出素子を有する電子源の製造方法であって、前記複数の電子放出素子のそれぞれが、上記本発明に係る電子放出素子の製造方法で製造されていることを特徴とする。また、本発明に係る画像表示装置の製造方法は、電子源と、電子の照射によって発光する発光部材と、を備える画像表示装置の製造方法であって、前記電子源が、上記本発明に係る電子源の製造方法で製造されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電子放出特性が良好で、電子放出点密度が大きく、かつ、電子放出量のゆらぎの小さい電子放出可能な電子放出素子、電子源、画像表示装置、及び、それらの簡易な製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る電子放出素子の製造方法は、導電層上に電子放出材料を含む膜を形成する工程と、前記電子放出材料を含む膜が形成された導電層を水素および炭化水素のラジカルを含む雰囲気中で加熱する工程と、を有する電子放出素子の製造方法であって、前記雰囲気における前記水素および炭化水素のラジカルの総分圧が２×１０^−１１Ｐａ以上、８×１０^−４Ｐａ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電子ビームの集束性に優れ、リーク電流を抑制し、変形の起こりにくい構成を有する電子放出素子、ならびに、当該電子放出素子を利用した電子源、及び、該電子源を利用した、画質が良好で高精細な画像表示装置を提供する。
【解決手段】電子放出素子は、カソード電極２、ゲート電極４、絶縁部材６、及び、電子放出材５を備え、前記絶縁部材６は、前記ゲート電極に接し、かつ、前記ゲート電極の開口と略同じ大きさの開口を有する第１の絶縁層６ａと、前記第１の絶縁層よりも前記カソード電極側に位置し、かつ、前記ゲート電極の開口より大きい開口を有する第２の絶縁層６ｂと、を含む３つ以上の絶縁層が積層されたものである。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイ及び高効率ランプ分野に適用可能な電界放出素子及びその製造方法に関するものである。
【解決手段】本発明は、基板とアノードが具備され、ディスプレイ分野と高効率ランプに使用する電界放出素子の製造方法において、基板の上部に金属触媒をコーティングする段階と；前記金属触媒をシリコンと反応させて金属シリサイド層を形成する段階と；前記金属シリサイド層の上に金属拡散でシリサイドナノワイヤーを成長させる段階；とを含んでなる。本発明は、ドーピング過程と尖った形状を作るための過程を省略して、生産工程の短縮で生産費を節減することができ、少ない電圧で放出電流を増大させることができて性能の向上を図り、物理的蒸着と化学的蒸着方法すべてを適用してシリサイドナノワイヤーを成長させることができるので、適用範囲を拡張させることができる。 （もっと読む）

【課題】電子源アレイと蛍光面を用いた画像表示装置の大型高精細化を実現する。
【解決手段】基板１０上に形成する信号電極２１を厚膜とし、２本の信号電極２１の間に凹部を形成して、信号電極２１に接続する下部電極１１と上部電極１３により集束電子レンズを形成して電子ビームを集束する。 （もっと読む）

【課題】低電界でビーム収束した電子放出を実現し、低電圧で高効率な電子放出が可能で、製造プロセスが容易な電界放出型の電子放出素子、電子源、及び画像表示装置を提供する。
【解決手段】電子放出素子の製造方法は、絶縁性または半導電性の層を備えた基体を予め用意する工程と、水素を含む中性ラジカルを含む雰囲気に前記層を曝す工程とを有し、当該絶縁性または半導電性の層が金属粒子を含有していること、当該絶縁性または半導電性の層が炭素を主成分とすること、当該水素を含む中性ラジカルが、Ｈ・、ＣＨ_３・、Ｃ_２Ｈ_５・、Ｃ_２Ｈ・、または、それらの混合気体であること、当該水素を含む中性ラジカルの濃度が、当該雰囲気中の荷電粒子の濃度と比較して１０００倍以上であること、及び、当該雰囲気に当該絶縁性または半導電性の層を曝す工程は、バイアスグリッドを設けたプラズマ装置を用いて、水素終端を施す工程であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】電界放出素子基板の製造プロセスを大幅に簡略化できる製造方法を提供する。
【解決手段】ビーズ６を含む塗膜７を形成する工程と、ビーズ６を除去する工程とをこの順に含む電界放出素子用絶縁層の製造方法であって、前記ビーズ６の粒径がビーズを含まない領域の塗膜の厚みより大きく、ビーズ６を含まない領域の塗膜から得られる絶縁層の空隙率が１０％以下である電界放出素子用絶縁層の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 ゲート電極への電圧の印加時間及び形態に対応するようにアノード電極にAC電圧を印加することにより、ゲート電極に電圧が印加されない遊休時間の間にアノード電極に不要な電圧が印加されるのを防止して駆動電力を減少させるとともに、アノード電極に印加される不要な高電圧により電子が放出されるのを防止して発光効率を増大させ、かつアノード電極に不要な高電圧が印加される時間を短縮させて寿命を延ばす。
【解決手段】 本発明は、所定間隔だけ離隔して対向するように配置された前面基板及び背面基板と、前記背面基板上に形成された少なくとも一つのカソード電極と、前記カソード電極から離隔した位置で、絶縁体により前記背面基板から絶縁されるように形成された少なくとも一つのゲート電極と、前記カソード電極の上面に形成されたエミッタと、前記背面基板に面するように前記前面基板上に形成されたアノード電極と、前記アノード電極上に塗布された蛍光体層と、前記アノード電極にAC電圧を印加する第１電圧印加手段と、前記ゲート電極にAC電圧を印加する第２電圧印加手段とを有し、前記アノード電極と前記ゲート電極に印加されるAC電圧は同期化されている。
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【課題】適用用途に応じた所望の性能を発揮するカーボンナノファイバ２０を短時間で多数形成することが可能な導電性繊維物質の製造方法の提供。
【解決手段】 繊維状または管状を成す導電性繊維物質としてのカーボンナノファイバ２０の製造方法であって、シリコンからなる基板１１の表面に直接導電性を有する導電触媒層１２を成膜し、導電触媒層１２を加熱し、減圧雰囲気下において、導電触媒層１２の周囲に混合ガスを導入し、プラズマを発生させてＣＶＤを行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】良好な分散状態または溶解状態を確保することができ、印刷特性に優れ、しかも、焼成後には、焼成体に良好な表面状態を付与することのできるペースト組成物およびその焼成体を提供すること。
【解決手段】炭素数が４〜６のアルキレン基を有するポリオキシアルキレングリコールと、ジイソシアネートとの反応により得られるポリウレタン樹脂と、溶剤と、粉末とを配合してペースト組成物を調製する。これを焼成することにより、誘電体層、封止体、隔壁、蛍光体および電子エミッタなどのフラットパネルディスプレイ用部品を製造する。 （もっと読む）

【課題】発光効率の高い電界放出発光素子を提供する。
【解決手段】電界放出発光素子１は、ガラス基板２１上に形成された導電層２２と、前記導電層２２の上にあって、金属、金属錯体及び金属酸化物の少なくともいずれか一つを含有する金属含有物を担持又は内包するナノカーボン材料から形成されたエミッタ２３と、前記導電層２２の前記エミッタ２３の側に対向して、電子により発光可能な蛍光体１３を有する透明電極１２と、を備える。エミッタ２３は、金属２５を先端の開孔部に担持又は先端部に内包したカーボンナノチューブである。 （もっと読む）

【課題】封止領域の絶縁膜と封着部材との反応を阻止し、真空度が劣化し難い表示特性の優れた長寿命の画像表示装置を提供する。
【解決手段】封止領域５２の絶縁膜１４を第２電極９で覆い、前記絶縁膜１４と封着部材５との接触を阻止した。 （もっと読む）

【課題】電子源として用いるダイオード素子の絶縁膜の形成方法を改善して画像表示装置の残像現象を抑制する。
【解決手段】ダイオード素子は、平坦な基板上に形成された下部電極、絶縁層、および上部電極をこの順で重ねて構成された金属−絶縁層−金属型のダイオード素子を構成する。上記絶縁層は、上記下部電極の表面を陽極酸化処理で形成した非晶質な酸化膜からなり、上記下部電極が、アルミニウムあるいはアルミニウム合金層を含む積層膜からなり、かつ上記陽極酸化処理が、始めに定電流モードにより所定の電圧である第１の電圧Ｖ０(例えば、４Ｖ)まで酸化膜成長を行ったのち、定電圧モードとして上記第１の電圧よりも低い第２の電圧Ｖ１（例えば、０Ｖ)をそれぞれ一定期間印加し、上記第１の電圧と第２の電圧とを一定の周期で交互に印加する。 （もっと読む）

【課題】導電性膜に形成された間隙付近から電子放出を行う電子放出装置において、電子放出効率のばらつきを増加させることなく、電子放出効率を向上させる。
【解決手段】電極３，４間において、基板１上に特定の断面形状を有する凸部２を形成し、該凸部２上の導電性膜５に間隙６を配置することで、間隙６の中央から淀み点までの距離を低減させる。 （もっと読む）

【課題】電子放出素子の製造方法、電子放出素子及び電子放出素子を備えた発光装置を提供する。
【解決手段】基板上で一方向に沿って互いに距離をおいて離隔配置された複数の第１電極と、前記一方向に沿って前記第１電極の間に配置される複数の第２電極を平行に交互に形成し、隣接する前記第１電極と前記第２電極の間で電子放出層を形成し、前記電子放出層の一部を除去して電子放出層間にピッチを形成する電子放出素子の製造方法及び当該製造方法で製造された電子放出素子である。 （もっと読む）

【課題】電子ビームディスプレイ装置において、実用的な輝度を確保しつつ、外光の反射を防止して明所コントラストを改善する。
【解決手段】電子ビームディスプレイ装置は、フェイスプレート基板２７と、フェイスプレート基板の内面に設けられた、各画素領域に対応する開口部４Ｒ，４Ｇ，４Ｂを有する反射膜３と、開口部を覆うようにフェイスプレート基板の内面に設けられた、電子ビームが照射されて発光する蛍光体層６Ｒ，６Ｇ，６Ｂと、フェイスプレート基板の外面に設けられた円偏光フィルタ１７と、を有している。 （もっと読む）

【課題】電子エミッタ構造製造方法、上記製造方法により製造される電子エミッタ構造、上記電子エミッタ構造を内蔵する電界電子放出表示装置および電界電子放出バックライト電界電子放出表示装置において、またはＬＣＤ表意装置用の電界電子放出バックライトにおいて用いられる電子エミッタ構造を形成する手順を提供する。
【解決手段】マスク素子２０を薄いＡｌ基板１０上に堆積し、マスク素子２０間のギャップを通してＡｌ基板を化学的にエッチングし、したがってスパイク１３を基板上に形成することにより、電子エミッタ構造は形成される。次にこのスパイク１３は電子エミッタ材料２１で覆われる。スパイク１３は所望のピッチ／高さ比を有するように形成可能である。 （もっと読む）

【課題】不要ガスの吸着による影響が少なく、輝度斑やザラツキ感等の画質不良が生じない高品位の画像が得られる画像表示装置を提供する。
【解決手段】上部電極１３から電子を放出する電子源アレイの表面に、例えばセシウムやナトリウムやカリウム等のアルカリ金属の酸化物２０が、絶縁層１２との界面から上部電極１３の表面にかけて拡散され、特に電子源アレイの電子放出部には、上部電極１３の電子放出部以外の面内よりもアルカリ金属のアルカリ密度が低く、約２０％以上低くして拡散されている。 （もっと読む）