説明

Fターム[5C094BA27]の内容

要素組合せによる可変情報用表示装置 (81,180) | 表示素子 (16,797) | 発光表示素子 (5,380) | EL (4,350)

Fターム[5C094BA27]の下位に属するFターム

Fターム[5C094BA27]に分類される特許

81 - 100 / 4,164


【課題】液晶装置等の電気光学装置において、保持容量を十分に確保することができ、高品質な画像を表示可能とする。
【解決手段】ゲート電極30gと電気的に接続された走査線3aと、データ線側ソースドレイン領域30sと電気的に接続されたデータ線6aと、画素電極側ソースドレイン領域30dと電気的に接続された画素電極27と、容量線3bに電気的に接続された第1容量電極16aと、第1容量電極16aと対向して設けられた第2容量電極16cと、第1容量電極16aと第2容量電極16cとに挟持された誘電体層16bと、を有する容量素子16と、を備え、トランジスター30と走査線3aとデータ線6aとが設けられた層と、画素電極27が設けられた層との間において、第1容量電極16aは、誘電体層16b及び第2容量電極16cに覆われて配置されている。 (もっと読む)


【課題】表示動作に必要な構成を利用して製造情報を書き込むことができ、アクティブマトリクス基板のセットへの組み込み工程後であっても、既に書き込まれた製造情報を容易に読み込むことが可能なアクティブマトリクス基板を提案する。
【解決手段】表示パネルを構成するアクティブマトリクス基板1は、データ信号を書き込む画素20Aを選択するための複数のゲート配線21と、複数のゲート配線21のそれぞれに接続された複数のゲート端子G1〜Gmと、一端がゲート端子G3と接続された切断可能体101を有し、切断可能体101の両端間が導通状態であるか切断状態であるかを1ビットの情報として記憶するROM回路10とを具備する。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体層のバックチャネル部を半導体層成膜後の薄膜トランジスタ作製工程によるダメージから保護し、良好なトランジスタ特性を得ると共に、薄膜トランジスタ作製の工程数を削減することである。
【解決手段】基板1と、基板1上に設けられたゲート電極2と、基板1上に設けられ、ゲート電極2を覆うゲート絶縁膜3と、ゲート絶縁膜3上に設けられ、アモルファス酸化物からなる半導体層4と、半導体層4上に設けられた保護膜5と、ゲート絶縁膜3上に設けられたソース電極6、及びドレイン電極7と、を備え、保護膜5を、金属材料の化成処理、又は陽極酸化によって形成する。 (もっと読む)


【課題】アクティブ動作中に外部電源による電位の制御を必要としない静電気保護回路を有するアクティブマトリクス基板を提供する。
【解決手段】本発明のアクティブマトリクス基板1は、複数のゲート配線22と、複数のソース配線21と、高電位側ESDリング31及び低電位側ESDリング32と、ゲート配線22及びソース配線21の各々に対応して配置されアノード電極が低電位側ESDリング32に接続されカソード電極がゲート配線22及びソース配線21のうちの一の配線に接続されたESDダイオード42と、アノード電極が当該一の配線に接続されカソード電極が高電位側ESDリング31に接続されたESDダイオード41と、2本以上のゲート配線22の各々に対応して配置されアノード電極が低電位側ESDリング32に接続されカソード電極が対応するゲート配線22に接続された低電位固定ダイオード43とを備える。 (もっと読む)


【課題】電気的な信頼性や歩留まりを向上させることが可能な電気光学装置、及び電子機器を提供する。
【解決手段】液晶装置100は、走査線駆動回路と、データ線駆動回路と、データ線駆動回路に電源を供給する第1VDD電源配線111と、走査線駆動回路に電源を供給する第2VDD電源配線112と、第1VDD電源配線111と第2VDD電源配線112とを電気的に共通化する共通配線と、を有し、共通配線は、導電体121,122と配線103aとコンタクトホールCNT131〜CNT134とを有する。 (もっと読む)


【課題】物理的形状変化を伴うユーザ操作に基づいて表示内容の切り替えを行う際に、優れた操作性を実現することが可能な表示装置および支持基板を提供する。
【解決手段】表示装置は、可撓性を有する支持基板と、支持基板上に設けられた表示部とを備え、支持基板は、その面内における端部側の少なくとも一部の第1領域において、端縁に向かって徐々に柔らかくなるように構成されている。表示装置全体のうち、端部側の局所的な部分をユーザが曲げたり捻ったりし易くなり、そのような曲げ動作を伴う入力操作を行い易くなる。 (もっと読む)


【課題】有機EL素子の劣化を抑制でき、かつ、下部電極と上部電極が短絡し難い、信頼性の高い発光装置を提供する。
【解決手段】第1の基板及び封止体に囲まれた空間内に、発光素子及び隔壁を含む発光部を備え、発光素子は、第1の基板上に設けられた第1の電極、第1の電極上に設けられた発光性の有機化合物を含む層、及び発光性の有機化合物を含む層上に設けられた第2の電極を備え、発光素子は、第1の基板上に設けられた第1の電極、第1の電極上に設けられた発光性の有機化合物を含む層、及び発光性の有機化合物を含む層上に設けられた第2の電極を備え、隔壁は、第1の電極の端部を覆い、かつ発光素子の発光領域と重なる位置に開口部が設けられ、隔壁は、最大粒径が1ナノメートル以上発光性の有機化合物を含む層の膜厚以下の物理吸着型乾燥剤を含む発光装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】TFTの特性ばらつきに起因する、画素間における発光素子の輝度のばらつきを低減し、信頼性が高く、画質の優れた表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】発光素子に接続するTFTを複数個、少なくとも2つ設け、それぞれのTFTの活性層を形成する半導体領域の結晶性を異ならせるものである。
当該半導体領域は、非晶質半導体膜をレーザーアニールにより結晶化させたものが適用されるが、結晶性を異ならせるために、連続発振レーザービームの走査方向を変えて、結晶成長の方向を互いに異ならせる方法を適用する。或いは、連続発振レーザービームの走査方向は同じとしても、個々の半導体領域間でTFTのチャネル長方向を変えて、結晶の成長方向と電流の流れる方向を異ならせる方法を適用する。 (もっと読む)


【課題】低い電気抵抗を維持しながら、広い波長範囲で十分な透明性を得ることができる金属電極、半導体発光素子及び光学素子を提供する。
【解決手段】実施形態に係る金属電極は、部材の主面上に設けられ、金属細線と、前記金属細線により形成される複数の開口部と、を有する金属層である。金属細線は、前記主面に対して平行な第1方向に沿う複数の第1直線部と、前記主面に対して平行で前記第1方向と交差する前記第1方向とは異なる方向に沿う複数の直線部と、を有する。前記複数の第1直線部の前記第1方向に沿う長さの最大値及び前記複数の第2直線部の前記第1方向とは異なる方向に沿う長さの最大値は、可視光の波長以下である。前記主面の法線方向にみた前記金属層の面積に対する前記法線方向にみた前記金属細線の面積の比は、20パーセントを超え80パーセント以下である。 (もっと読む)


【課題】EL表示パネルは自己発光による光により、また、カソード電極を光透過電極とすることにより、画素トランジスタが内外光を受けて特性等が変化し、良好な画像表示を実現できない。
【解決手段】トランジスタ11aとトランジスタ11bを同一極性のトランジスタとし、トランジスタ11bをマルチゲートとする。画素に映像信号を書き込むときは、トランジスタ11bをオンさせて、トランジスタ11dをオフさせてコンデンサ19に安定に信号を書込み、EL素子15を発光させる時は、トランジスタ11bをオフし、トランジスタ11dをオンさせて安定にEL素子15に電流が流れるように制御する。 (もっと読む)


【課題】改善された有機発光ダイオード表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に定義され、映像を表示する表示領域と、表示領域を囲むように定義され、表示領域に含まれたピクセルに信号を提供する非表示領域と、基板の非表示領域に形成された第1薄膜トランジスタと、基板の表示領域に形成された第2薄膜トランジスタと、第1および第2薄膜トランジスタの上部に形成された平坦化膜140と、非表示領域内の平坦化膜上に形成され、少なくとも1つの第1開口を含む第1電極175と、平坦化膜上に形成され、第2薄膜トランジスタの電極に連結される第2電極145と、第2電極と第1電極の上に形成され、第2電極の一部を露出させるように構成され、第1電極に隣接するように配置されたバンクパターン150と、第2電極上に形成された有機発光層155と、有機発光層上に形成された第3電極160とを含む。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置において、より安定した電気的特性を付与し、信頼性の高い半導体装置を提供する。また、当該半導体装置の作製方法を提供する。
【解決手段】ゲート電極と、ゲート電極上に形成されたゲート絶縁膜と、ゲート絶縁膜上に形成された酸化物半導体膜と、酸化物半導体膜上に形成されたソース電極およびドレイン電極と、保護膜と、を有し、該保護膜は金属酸化膜を有し、該金属酸化膜は、膜密度が3.2g/cm以上である。 (もっと読む)


【課題】気密性の優れた封止体の作製方法を提供する。また、当該封止体で封止した発光装置の作製方法を提供する。
【解決手段】低融点ガラスを用いた封止体、発光装置について、ガラス粉末を溶融させガラス層にする加熱工程で、所望の表面形状にするため第3の基板を押付ける。低融点ガラスの表面と対向基板が気密性よく封止されるように、第3の基板の表面形状がなされており、その表面形状が対向基板と溶着するときまで保持できる。よって、気密性の高い封止体および当該封止体で封止した信頼性のある発光装置を作製することが出来る。当該発光装置の作製方法を、特に有機EL素子に適用した場合、信頼性の高い有機EL発光装置が作製できる。 (もっと読む)


【課題】液晶等の電気光学素子若しくは発光素子等を表示媒体として用いる表示装置及びその駆動方法を提供する。
【解決手段】劣化しやすいトランジスタのゲート電極に、オンしたトランジスタを介して信号を入力することで、劣化しやすいトランジスタのしきい値電圧のシフト及びオンしたトランジスタのしきい値電圧のシフトを抑制する。すなわち、高電位(VDD)がゲート電極に印加されているトランジスタを介して(若しくは抵抗成分を持つ素子を介して)、交流パルスを劣化しやすいトランジスタのゲート電極に加える構成を含んでいる。 (もっと読む)


【課題】本発明では、信頼性の高い表示装置を低いコストで歩留まり良く製造するこ
とができる技術を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、画素電極層上にスペーサを形成し、電界発光層形成時のマス
クから画素電極層を保護する。また、透水性を有する有機材料を含む層を表示装置の中に
シール材で封止し、かつシール材と有機材料を含む層が接しないため、発光素子の水等の
汚染物質による劣化を防ぐ事ができる。シール材は表示装置の駆動回路領域の一部に形成
されるため表示装置の狭額縁化も達成できる。 (もっと読む)


【課題】回路基板形成後の工程数が削減された表示パネルおよびそれを備えた表示装置を提供する。
【解決手段】表示パネルは、有機EL素子および画素回路を画素ごとに備えている。画素回路は、映像信号を書き込む書き込み用の第1トランジスタと、第1トランジスタによって書き込まれた映像信号に基づいて有機EL素子を駆動する駆動用の第2トランジスタとを有している。第2トランジスタは、ゲート、ソースおよびドレインを有しており、有機EL素子は、アノード、有機層およびカソードを有している。ゲートは、透明導電層の単体、または透明導電層および金属導電層の積層体となっている。アノードは、透明導電層と同層に形成されると共に透明導電層と同一の材料によって形成された層を有している。 (もっと読む)


【課題】画素部に形成される画素電極やゲート配線及びソース配線の配置を適したものとして、かつ、マスク数及び工程数を増加させることなく高い開口率を実現した画素構造を有するアクティブマトリクス型表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】絶縁表面上のゲート電極及びソース配線と、前記ゲート電極及びソース配線上の第1の絶縁層と、前記第1の絶縁膜上の半導体層と、前記半導体膜上の第2の絶縁層と、前記第2の絶縁層上の前記ゲート電極と接続するゲート配線と、前記ソース電極と前記半導体層とを接続する接続電極と、前記半導体層と接続する画素電極とを有することを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】EL素子の色のバランスが良く、なおかつ発光輝度のバランスが良い、色鮮やか
な画像を表示することが可能な表示装置を提供する。
【解決手段】EL素子に流す電流を大きくしたい画素ほど、該画素のEL素子に電圧また
は電流を供給する引き回し配線の幅を大きくした。これによって、EL素子に流す電流を
大きくしたい画素ほど、該画素のEL素子に電圧または電流を供給する引き回し配線の配
線抵抗が小さくなる。配線抵抗が小さくなると、引き回し配線における電位降下が小さく
なり、EL素子に流す電流を大きくすることが可能になる。なお実際のパネルでは、引き
回し配線を配置するスペースは限られているので、各色における引き回し配線の幅の比を
変えることで、各色のEL素子に流れる電流の大きさのバランスを取ることが可能である
(もっと読む)


【課題】自動立体画像3次元表示装置またはマルチビュー表示を可能にする指向性表示装置を提供する。
【解決手段】少なくとも2つの画像を同時に提供する指向性表示装置に、特に適合する3つの主要色またはマルチ主要色サブピクセル反復グループのいくつの実施形態のうち、何れか1つを実質的に含む表示パネルで構成される。画像を示す入力画像データは、サブピクセルレンダリング動作を使用する示されたサブピクセルレンダリンググループの内、何れかの1つを利用する装置にレンダリングされる。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体層を用いた表示装置に代表される半導体装置において、画面サイズの大型化や高精細化に対応し、表示品質が良く、安定して動作する信頼性のよい半導体装置を提供する。
【解決手段】引き回し距離の長い配線にCuを含む導電層を用いることで、配線抵抗の増大を抑える。また、Cuを含む導電層を、TFTのチャネル領域が形成される酸化物半導体層と重ならないようにし、窒化珪素を含む絶縁層で包むことで、Cuの拡散を防ぐことができ、信頼性の良い半導体装置を作製することができる。特に、半導体装置の一態様である表示装置を大型化または高精細化しても、表示品質が良く、安定して動作させること
ができる。 (もっと読む)


81 - 100 / 4,164