【課題】アクティブマトリクス型の表示装置の作製工程又は完成品における静電気による不良の発生を抑制する。
【解決手段】本発明に係る表示装置は、アクティブマトリクス回路の角の部分に隣接して、前記アクティブマトリクス回路に接続されていない格子状の放電パターンが形成されていることを特徴とする。また、本発明に係る表示装置は、アクティブマトリクス回路の周辺に、前記アクティブマトリクス回路を構成するゲイト線又はソース線と交わる放電パターンが形成され、前記放電パターンの長さは、前記アクティブマトリクス回路の画素ピッチよりも長いことを特徴とする。これらにより、各種静電破壊によるアクティブマト
クス型表示装置の不良の発生を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】安定した特性を有するセルフアライン構造の薄膜トランジスタを備えた表示装置、およびこの表示装置を備えた電子機器を提供する。
【解決手段】薄膜トランジスタ１の第１酸化物半導体膜２０のソース領域２０Ｓおよびドレイン領域２０Ｄの上面から深さ方向における少なくとも一部に、チャネル領域２０Ａよりも酸素濃度が低い第１低抵抗領域２１を設ける。基板１１の薄膜トランジスタ１が設けられた領域以外の領域に第２酸化物半導体膜８０を設け、上面から深さ方向における少なくとも一部に、チャネル領域２０Ａよりも酸素濃度が低い第２低抵抗領域８１を設ける。薄膜トランジスタ１，第２酸化物半導体膜８０および基板１１を高抵抗膜５０で覆い、この高抵抗膜５０のうち、第１低抵抗領域２１に接する領域に第１透光領域５１を設け、第２低抵抗領域８１に接する領域に第２透光領域５２を設ける。 （もっと読む）

【課題】通常のタッチパネル作製よりさらに熱がかかる、静電容量型のタッチパネル電極とカラーフィルタを同一の透明基板の表裏にこの順で形成した場合においても、黄変（ｂ＊値上昇）等の製品の品位低下の問題を軽減した優れた液晶パネル用のカラーフィルタ基板を提供する。
【解決手段】同一の透明基板の、表面に静電容量型のタッチパネル電極と、裏面にカラーフィルタと、が形成されたカラーフィルタ基板において、前記静電容量型のタッチパネル電極の保護膜が、青色系色材を添加した感光性透明樹脂で形成されている。 （もっと読む）

【課題】引出配線が複数の層のそれぞれに形成された場合において、同じ層に形成された隣接する引出配線間の短絡を簡易な構成で確実に検出することができるアクティブマトリクス基板を提供する。
【解決手段】アクティブマトリクス基板２は、引出配線６１₁，６１₃，６１₅，６１₇が接続されたゲート端子５１に接続される第１接続配線６４₁，６４₃，６４₅，６４₇と、引出配線６１₂，６１₄，６１₆が接続されたゲート端子５１に接続される第２接続配線６４₂，６４₄，６４₆と、互いに隣接する２本の第１接続配線および第２接続配線を１本に束ねる束配線６５₁〜６５₄と、束配線のうちで互いに隣接しない束配線６５₂，６５₄へ検査信号を入力可能な第１検査配線６６と、束配線のうち第１検査配線６６が接続されておらずかつ互いに隣接しない束配線６５₁，６５₃へ検査信号を入力可能な第２検査配線６７とを備える。 （もっと読む）

【課題】特性の良好な半導体装置（薄膜トランジスタ）を製造する。
【解決手段】本発明は、（ａ）基板ＳＵＢの上方に、第１金属酸化物を含有する半導体からなる導電層を形成する工程と、（ｂ）導電層上に第２金属酸化物を含有する半導体からなる犠牲層ＳＬを形成する工程と、（ｃ）導電層と犠牲層ＳＬとの積層膜を加工する工程と、（ｄ）上記（ｃ）工程の後、犠牲層ＳＬ上に、金属膜を形成する工程と、（ｅ）上記（ｄ）工程の後、上記金属膜の第１領域をドライエッチングにより除去する工程と、（ｆ）上記（ｅ）工程の後、上記第１領域の上記犠牲層ＳＬをウェットエッチングにより除去する工程と、を有し、上記（ｃ）工程と、上記（ｆ）工程との間に、（ｇ）導電層に熱処理を施し、導電層を結晶化し、導電層ＣＬｃとする工程を有する。かかる工程によれば、ドライエッチングにより生じた犠牲層ＳＬのダメージ領域ＤＲを除去できる。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置の作製工程においてマスク枚数を追加することなく、反射電極の散
乱構造を作製する。
【解決手段】層間膜に感光性樹脂膜を用いる。フォトマスク１００の第１の透光部１０１
を通して露光してパターニングしてコンタクトホール１０３〜１０６を得る。フォトマス
ク１００の第２の透光部１０２を通して露光すると、感光性樹脂膜が解像不能となり、感
光性樹脂膜の表面に凹凸ができる。これにより一枚のフォトマスクでコンタクトホール形
成と層間膜表面に凹凸を有する散乱構造とができる。 （もっと読む）

【課題】表示装置に含まれるＴＦＴのゲート電極と、ソース電極及びドレイン電極との間の絶縁耐圧が低くなる場合がある。
【解決手段】表示装置であって、基板上に形成されるゲート電極と、前記ゲート電極上に、前記ゲート電極を覆うように形成されたゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜上に形成された半導体層と、前記半導体層上に形成されたソース配線と、前記半導体層上に形成されたドレイン配線と、を有し、前記半導体層は、前記ゲート電極の上方に形成されたチャネル層と、前記チャネル層の両側に、それぞれ前記ソース配線またはドレイン配線を介して分離して形成されたエッチング防止層と、を有する、ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表示装置に信号を入力する端子の信頼性を向上させることが可能な技術を提供することである。
【解決手段】
複数の走査信号線と前記走査信号線に交差する複数の映像信号線とが形成される表示領域と、前記表示領域の外側に形成され、前記複数の走査信号線と前記複数の映像信号線とのうちの何れかに第１の端子配線を介して信号を供給する複数の端子からなる端子群と、を備える表示装置であって、前記端子は、前記第１の端子配線の端部に形成され、面状の端子表面が露出される第１部分と、前記第１部分に隣接し、前記第１部分の周りに形成される第２部分と、で構成されており、前記第２部分は、絶縁膜で覆われる前記第１の端子配線と同層又は前記絶縁膜で覆われる前記第１の端子配線と異なる導電性薄膜からなり、前記第１の端子配線と前記第１の電極との接続部から離間した位置において、前記第１の端子配線と電気的に接続される表示装置である。 （もっと読む）

【課題】 層間絶縁膜を挟んでゲート電極と容量電極が対向してできる容量の占有面積を小さくする。
【解決手段】 チャネル領域上の層間絶縁膜が周囲よりも膜厚が薄く、その部分で容量電極がゲート電極と対向して容量を形成している半導体装置。 （もっと読む）

【課題】液晶容量の変化の検出感度を向上させることができる容量変化検出回路を提供する。
【解決手段】静電容量の変化を検出する容量変化検出回路であって、一方の電極が電圧供給線に接続された第１の可変容量と、前記第１の可変容量の他方の電極に直列に接続された第２の可変容量と、前記第２の可変容量の前記第１の可変容量とは他方の電極に接続され、前記第１の可変容量、及び前記第２の可変容量の容量値に応じた電気信号を出力するスイッチング素子とを備える。 （もっと読む）

【課題】トランジスタの作製に用いるフォトリソグラフィ工程を従来よりも少なくし、且つ、信頼性の高い半導体装置を提供する。
【解決手段】第１の基板上に酸化物半導体層を有するトランジスタを含む回路と、当該第１の基板とシール材で固定された第２の基板とを有し、当該シール材、当該第１の基板、及び当該第２の基板で囲まれる閉空間は、減圧状態、或いは乾燥空気を充填する半導体装置に関する。当該シール材は、少なくとも前記トランジスタを囲み、閉じられたパターン形状を有する。また当該回路は、酸化物半導体層を有するトランジスタを含む駆動回路である。 （もっと読む）

【課題】ＥＬ膜、陰極の断線を防止する技術を提供することを課題とする。陰極と陽極に挟まれた部分で、ＥＬ膜の膜厚が局所的に薄くなることを抑えることができ、ＥＬ膜に局所的に電界が集中することを防ぐことができる。
【解決手段】絶縁表面上に形成された第１の電極と、第１の電極の端部を覆って形成された絶縁膜と、絶縁膜及び第１の電極を覆って形成されたＥＬ膜と、第１の電極上で、且つ、ＥＬ膜上に形成された第２の電極を有する発光装置であって、絶縁膜は、第１の電極上の下端部で下に凸の曲面状の断面を有し、下端部と上面の間に中央部を有し、中央部と上面の間に上に凸の曲面状の断面を有する発光装置。 （もっと読む）

【課題】 製造コストが低減し、製造工程が単純化するディスプレイパネル及びこれを含むディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】 本発明に係る液晶層を含むディスプレイパネルは、相対向して配置される第１基板及び第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間のいずれか一面上に形成され、入射する光の第１偏光成分が、互いに異なるカラーの光として出射されるように、互いに異なるピッチで配列されている第１金属線形格子を含むカラーフィルタ偏光層と、前記第１基板及び前記第２基板との間の他面上に形成されている第２金属線形格子を含む偏光層と、を含み、前記第１金属線形格子に含まれている金属と前記第２金属線形格子に含まれている金属の特性は、互いに異なる。 （もっと読む）

【課題】発光素子を具備する表示装置において、色再現範囲を向上させる。
【解決手段】複数の絵素を有する表示領域を有し、絵素は、ＣＩＥ−ＸＹ色度図のｘが０．５０以上の領域に座標を有する発光素子Ｒ１及びＲ２を具備する第１の画素２０１及び第２の画素２０２と、色度図のｙが０．５５以上の領域に座標を有する発光素子Ｇ１及びＧ２を具備する第３の画素２０３及び第４の画素２０４と、色度図のｘが０．２０以下、ｙが０．３５以下の領域に座標を有する発光素子Ｂ１及びＢ２を具備する第５の画素２０５及び第６の画素２０６と、で構成されており、第１の画素に設けられた発光素子Ｒ１と第２の画素に設けられた発光素子Ｒ２、第３の画素に設けられた発光素子Ｇ１と第４の画素に設けられた発光素子Ｇ２、第５の画素に設けられた発光素子Ｂ１と第６の画素に設けられた発光素子Ｂ２は、互いに異なる発光スペクトルを有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】信頼性の高いＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】アクティブマトリクス型のＥＬ表示装置において、ＥＬ素子はシール材とフレーム材により封止されており、ＥＬ素子の上部電極とフレキブルプリントサーキット（ＦＰＣ）とは接続配線により電気的に接続される。接続配線は、下部基板とシール材及びフレーム材との間を、上面がシール材と接するように設けられ、トランジスタのソース電極及びドレイン電極と同一層から形成される。この構造によりＥＬ素子の劣化を防止するとともに、ＦＰＣとの電気的接続もスムーズに行うことができる。 （もっと読む）

【課題】同一の層間膜上に画素電極と、ゲート配線を形成した半導体装置において、マス
ク枚数を追加することなく、液晶の焼きつきや特性劣化を低減する。
【解決手段】ゲート配線上に絶縁膜を設けることで、ゲート配線が非選択の期間に液晶に
かかるゲート電圧の絶対値を減少させることができる。絶縁膜は遮光性樹脂膜、柱状スペ
ーサーで形成すると、マスク枚数の増加を抑えることができる。また、絶縁膜上に画素電
極を形成し、ゲート配線と画素電極が重なり合うようにすることで、画素電極の電界遮蔽
効果によって、液晶にかかるゲート電圧を減少させることができる。 （もっと読む）

【課題】目盛の視認性を高めることを目的とする。
【解決手段】第１光透過性基板１２には開口部２２内に第１目盛部２４が形成され、第２光透過性基板３２には第２目盛部４４が形成されている。第２光透過性基板３２には、第１金属層３４、半導体層３６及び第２金属層３８が積層され、薄膜トランジスタ５０は、第１金属層３４の一部、半導体層３６の一部及び第２金属層３８の一部を含むように構成され、第２目盛部４４は、第２金属層３８の他の一部から構成され、第２目盛部４４の下に、第２目盛部４４からはみ出すように、半導体層３６の他の一部が形成され、第２目盛部４４及び半導体層３６の下に、第１金属層３４の他の一部が、開口部２２を遮蔽する大きさで形成されている。 （もっと読む）

【課題】表示品位を改善することが可能な表示装置及び表示装置用アレイ基板を提供する。
【解決手段】 絶縁基板と、前記絶縁基板の上に配置され可視光領域での透過率が０．５以上の下地層、前記下地層より厚い膜厚を有するとともに前記下地層の上に積層された透明材料からなる透明層、及び、前記透明層の上に積層された主配線材料からなる主配線層の積層体によって形成された信号配線と、を備え、前記透明層の膜厚をｄ（ｎｍ）とし、前記透明層の屈折率をｎとしたとき、積ｎ×ｄが４００より小さいことを特徴とする表示装置用アレイ基板。 （もっと読む）

【課題】表示パネルに設けられるパッド部として適した構造を提供することを目的の一と
する。酸化物半導体の他、絶縁膜及び導電膜を積層して作製される各種用途の表示装置に
おいて、薄膜の剥がれに起因する不良を防止することを目的の一とする。
【解決手段】走査線と信号線が交差し、マトリクス状に配列する画素電極層と、該画素電
極層に対応して設けられた画素部を有し、該画素部に酸素の含有量が異なる少なくとも二
種類の酸化物半導体層とを組み合わせて構成される逆スタガ型薄膜トランジスタが設けら
れた表示装置である。この表示装置において画素部の外側領域には、走査線、信号線を構
成する同じ材質の導電層によって、画素電極層と対向する共通電極層と電気的に接続する
パッド部が設けられている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、アクティブマトリクス型の表示装置において、配線の断面積を増大させることなく、相性の悪い２つの膜（ＩＴＯ膜とアルミニウム膜）からなる配線や電極等を接続し、且つ、大画面化しても低消費電力を実現することを課題とする。
【解決手段】本発明は、上層と、上層よりも広い幅を有する下層とからなる２層構造とする。ＴｉまたはＭｏからなる第１導電層を設け、その上に電気抵抗値の低いアルミニウム単体（純アルミニウム）からなる第２導電層を設ける。上層の端面から突出させた下層部分と、ＩＴＯとを接合させる。 （もっと読む）