【課題】低電界でビーム収束した電子放出を実現し、低電圧で高効率な電子放出が可能で、製造プロセスが容易な電界放出型の電子放出素子、電子源、及び画像表示装置を提供する。
【解決手段】電子放出素子の製造方法は、絶縁性または半導電性の層を備えた基体を予め用意する工程と、水素を含む中性ラジカルを含む雰囲気に前記層を曝す工程とを有し、当該絶縁性または半導電性の層が金属粒子を含有していること、当該絶縁性または半導電性の層が炭素を主成分とすること、当該水素を含む中性ラジカルが、Ｈ・、ＣＨ_３・、Ｃ_２Ｈ_５・、Ｃ_２Ｈ・、または、それらの混合気体であること、当該水素を含む中性ラジカルの濃度が、当該雰囲気中の荷電粒子の濃度と比較して１０００倍以上であること、及び、当該雰囲気に当該絶縁性または半導電性の層を曝す工程は、バイアスグリッドを設けたプラズマ装置を用いて、水素終端を施す工程であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 カーボンナノチューブ集合体の膜をレーザーにより均一にかつ高い電子放出能が得られるように起毛させる手段を提供する。
【解決手段】 上記課題は、カーボンナノチューブの純度が９０重量％以上のカーボンナノチューブ集合体の膜が付着している基板上に、略均一に孔が分布しているマスクを通して略平行のレーザービームを照射して略均一に電子放出させることを特徴とする、カーボンナノチューブの起毛方法によって解決される。 （もっと読む）

【課題】発光の均一性が良好な電子放出源を提供する。
【解決手段】カソード電極が形成された基板上に電子放出材料を含む層を形成する工程と、電子放出材料を含む層に機械的に表面処理する工程を有する電子放出源の製造方法であって、機械的に表面処理する工程が単繊維繊度が１．０×１０^−８ｄｔｅｘ以上１．０ｄｔｅｘ未満の極細繊維を含む研磨布によって研磨する工程である電子放出源の製造方法。 （もっと読む）

【課題】電界放出素子基板の製造プロセスを大幅に簡略化できる製造方法を提供する。
【解決手段】ビーズ６を含む塗膜７を形成する工程と、ビーズ６を除去する工程とをこの順に含む電界放出素子用絶縁層の製造方法であって、前記ビーズ６の粒径がビーズを含まない領域の塗膜の厚みより大きく、ビーズ６を含まない領域の塗膜から得られる絶縁層の空隙率が１０％以下である電界放出素子用絶縁層の製造方法。 （もっと読む）

【課題】エミッタの低閾値電界化、高電流密度化、大面積化、安定化、長寿命化、および、低価格化を実現可能とする素材を提供すること。
【解決手段】 ナノスケールのシリコン微細針状突起群が形成された基板であって、当該シリコン微細針状突起の先端には略球状の炭素系微粒子が形成されている電界電子放出用素材である。ここで、炭素系微粒子がダイヤモンドを主成分とする微粒子であることが好ましく、これは、メタンガスプラズマＣＶＤにより形成できる。 （もっと読む）

【課題】電子源として用いるダイオード素子の絶縁膜の形成方法を改善して画像表示装置の残像現象を抑制する。
【解決手段】ダイオード素子は、平坦な基板上に形成された下部電極、絶縁層、および上部電極をこの順で重ねて構成された金属−絶縁層−金属型のダイオード素子を構成する。上記絶縁層は、上記下部電極の表面を陽極酸化処理で形成した非晶質な酸化膜からなり、上記下部電極が、アルミニウムあるいはアルミニウム合金層を含む積層膜からなり、かつ上記陽極酸化処理が、始めに定電流モードにより所定の電圧である第１の電圧Ｖ０(例えば、４Ｖ)まで酸化膜成長を行ったのち、定電圧モードとして上記第１の電圧よりも低い第２の電圧Ｖ１（例えば、０Ｖ)をそれぞれ一定期間印加し、上記第１の電圧と第２の電圧とを一定の周期で交互に印加する。 （もっと読む）

【課題】電子放出素子の製造方法、電子放出素子及び電子放出素子を備えた発光装置を提供する。
【解決手段】基板上で一方向に沿って互いに距離をおいて離隔配置された複数の第１電極と、前記一方向に沿って前記第１電極の間に配置される複数の第２電極を平行に交互に形成し、隣接する前記第１電極と前記第２電極の間で電子放出層を形成し、前記電子放出層の一部を除去して電子放出層間にピッチを形成する電子放出素子の製造方法及び当該製造方法で製造された電子放出素子である。 （もっと読む）

【課題】導電性膜の間隙長が長く、十分な量の電子放出が得られ、特性バラツキの少ない電子放出素子を製造する。
【解決手段】導電性膜２を屈曲部７を有するＶ字形状とし、間隙５を形成する工程においてＶ字の内側の点Ｂに電流を集中させてより低消費電力で、該点Ｂを基点に間隙５を形成する。 （もっと読む）

【課題】 ナノ繊維を含む電界電子放出材料を用いて、良好な起毛処理を行うことにより、電子放出能力の高い電界電子放出源を製造すること。
【解決手段】 カーボンナノツイストを含む電界電子放出材料１０３を陰極基板１００表面に形成し、陰極基板１００の表面に０．１ａｔｍから２ａｔｍの圧力範囲で発生させた大気圧プラズマ２６１を照射して、電界電子放出材料１０３に含まれるカーボンナノツイストの起毛処理を行い、電子放出能力を向上させた電界電子放出源を製造する。 （もっと読む）

【課題】電子エミッタ構造製造方法、上記製造方法により製造される電子エミッタ構造、上記電子エミッタ構造を内蔵する電界電子放出表示装置および電界電子放出バックライト電界電子放出表示装置において、またはＬＣＤ表意装置用の電界電子放出バックライトにおいて用いられる電子エミッタ構造を形成する手順を提供する。
【解決手段】マスク素子２０を薄いＡｌ基板１０上に堆積し、マスク素子２０間のギャップを通してＡｌ基板を化学的にエッチングし、したがってスパイク１３を基板上に形成することにより、電子エミッタ構造は形成される。次にこのスパイク１３は電子エミッタ材料２１で覆われる。スパイク１３は所望のピッチ／高さ比を有するように形成可能である。 （もっと読む）

【課題】ヘリカルカーボンナノファイバを用いて電子放出能力の高い電界電子放出源を製造すること。
【解決手段】ビーカ２０４にカーボンナノコイルを含む炭素物質２０１と過酸化水素水２０２を入れて混合し混合液２０３を作成し、ビーカ２０４をホットプレート２０５で２０℃〜２００℃の範囲で１５分から６０分間加熱した。次に、蒸留水でカーボンナノコイル２０１を洗浄しながら、吸引濾過器２０６を用いてカーボンナノコイルを含む炭素物質２０１と過酸化水素水を分離して、カーボンナノコイルを含む炭素物質２０１の水溶液２０７を得た後、該水溶液２０７を電気炉２０８で空気中で乾燥させて、アッシング処理されたカーボンナノコイルを含む炭素物質を得る。このようにして得られたカーボンナノコイルを含む炭素物質を電界電子放出源の陰極に使用する。 （もっと読む）

【課題】簡易かつ安価な方法で、カーボンナノチューブを高密度かつ均一に形成可能なカーボンファイバー製造法、高出力電流密度のカーボンファイバー電子源、高電流密度で高輝度、大容量を有するＦＥＤ装置を提供する。
【解決手段】
基板上に配置されたカソード電極１０と、カソード電極１０上に配置された絶縁膜１２と、絶縁膜１２上に配置され,カソード電極１０と直交するゲート電極１４と、絶縁膜１２中にカソード電極１０表面まで形成されたホール（１１）からなる電界放出マトリックス電極構造をメッキ槽（３４）内に配置する工程と、カーボンナノチューブ４の成長の核となる触媒微結晶核２９を電着させる際、ホール（１１）内への触媒電着は、ホール底のカソード電極１０を陰極、ゲート電極１４を陽極として電着させる工程とを有するカーボンファイバー製造法、カーボンファイバー電子源、およびＦＥＤ装置。 （もっと読む）

【課題】簡易かつ安価な方法で、電極配線金属からの異常成長を防止し、カーボンナノチューブを高密度かつ均一に形成可能なカーボンファイバー製造法、高出力電流密度のカーボンファイバー電子源、高電流密度で高輝度、大容量を有するＦＥＤ装置を提供する。
【解決手段】基板１８上にカソード電極１０を形成する工程と、カソード電極１０上に第１絶縁膜１２を形成する工程と、第１絶縁膜１２上にゲート電極１４を形成する工程と、第１絶縁膜１２中にカソード電極１０表面まで到達するホール（１１）を形成する工程と、ホールの底面に触媒微結晶核２９を形成する工程と、ゲート電極１４表面上に第２絶縁膜５０を形成する酸化工程と、触媒微結晶核２９上にカーボンナノチューブ４を形成する工程とを有することを特徴とするカーボンファイバー製造法、カーボンファイバー電子源、およびＦＥＤ装置。 （もっと読む）

【課題】電界放出素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 絶縁層及びゲート電極を囲繞するように保護層を蒸着した後、絶縁層及びゲート電極の上部にのみ保護層が残存するようにパターニングする第１段階と、ウェル及び開口部を充填して保護層状に積層されるように炭素ナノチューブペーストを塗布する第２段階と、基板の背面から光を照射して炭素ナノチューブペースト及び保護層を露光させた後、現像して露光されていない炭素ナノチューブペースト及び保護層をリフトオフして炭素ナノチューブカラムを形成する第３段階と、炭素ナノチューブカラムを焼結して高さを低めた後、表面処理して炭素ナノチューブカラムの表面に炭素ナノチューブチップが整列される電界放出源を形成する第４段階と、を含むことを特徴とする三極構造を有する炭素ナノチューブを備えた電界放出素子の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】下地膜を有する膜パターンの製造に際し、得られる膜パターンが基板全面で下地膜とのパターンの位置ズレを発生させることなく均一に得られるようにする。
【解決手段】下地膜上に、成膜成分を含む溶液を吸収可能な樹脂パターンを形成し、この樹脂パターンに成膜成分を含む溶液を吸収させ、高温乾燥して樹脂パターンを硬化させた後、樹脂パターンを保護膜にして下地膜をエッチングしてから樹脂パターンを焼成して膜パターンを得る。 （もっと読む）

【課題】得られる膜パターンの密着性のバラツキの発生を抑制し、得られる膜パターンの密着性を向上させる。
【解決手段】基板上に形成される膜パターンを、抵抗を有する金属もしくは金属酸化物と抵抗を阻害する金属酸化物で構成し、抵抗を有する金属もしくは金属酸化物の膜と抵抗を阻害する金属酸化物の膜を各々別々の膜で存在させ、膜間の境界面に、各々の膜に対して濃度勾配をもたせた膜パターンとする。 （もっと読む）

【課題】電子放出源、電子放出素子及び電子放出源の製造方法を提供する。
【解決手段】カーボン系物質と、カーボン系物質の劣化防止物質とを有し、カーボン系物質の劣化防止物質と外部酸素との結合エネルギーが、カーボン系物質と外部酸素との結合エネルギーより大きい電子放出源、該電子放出源を具備した電子放出素子及び該電子放出源の製造方法であり、これにより、該電子放出源は、すぐれた電界放出効率及び長寿命を有することができる。 （もっと読む）

【課題】低電圧で電子を放出することが可能で、動作が安定しており信頼性が高い電子源、この電子源の作製方法、および、この電子源を使用する冷陰極放電灯等の放電装置を提供する。
【解決手段】電子源１において、基板２と、基板２上に形成されたダイヤモンド結晶微粒子３の集合体と、ダイヤモンド結晶微粒子３の表面に形成された白金微粒子４と、を備え、さらに、電子源１を、冷陰極放電灯等の放電装置に使用すること、を特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、低コストで簡便に電子放出素子を提供することを課題とする。
【解決手段】下部電極であるアルミニウム基材表面に一定ピッチで形成された、先端形状が尖鋭型形状を有するアルミナの柱状体からなる電子銃と、該電子銃を囲むように形成された絶縁隔壁、および該絶縁隔壁上部に形成されたゲート電極からなり、電極間に電圧を印加することにより作動させることを特徴とする電子放出素子。また、前記アルミナが陽極酸化アルミナ（アルマイト）であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来の電子放出素子よりも少ない工程で製造され、単位面積あたり均一に電子を放出する電子放出素子を提供する。
【解決手段】長さ３μｍを超える金属酸化物からなる突起形状が、金属酸化物面上の１ｍｍ×１ｍｍの面積あたり５〜１０００００個の密度で存在し、かつ長さ３μｍを超える金属酸化物からなる任意の突起形状１００個の和平均長さをχ、標準偏差をσとした場合、χ≧５μｍ、かつχ＋σ／２以上の長さを持つ突起形状の最大長さをＬ_max 、最小長さをＬ_min とした場合、１≧Ｌ_min ／Ｌ_max ≧１／３であることを特徴とする金属酸化物からなる電界放出型電子放出素子。 （もっと読む）