【課題】電子放出特性に優れた電界放出型電極の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも金属又は半金属のいずれかを含む基板１１上に、粒子からなるバリア層１２を形成する。次にバリア層１２上に例えばＣＶＤ装置によって炭素から形成された電子放出膜１３を形成する。バリア層１２を形成することによって反応性の高い炭素が基板１１に拡散することを防ぐことができる。従って、良好な電子放出特性を有する電子放出膜１３を形成することができ、電子放出特性に優れた電界放出型電極の製造方法を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】電子エミッタ作製プロセスが含むバッファ層を生成するプロセスを省略可能とすることである。
【解決手段】本電子エミッタ用基材１０は、素材例である導電性ワイヤ１１の表面に直流プラズマによる炭素膜成膜の条件に適合したバッファ層としての黒鉛含有膜１２が付着している。本電子エミッタ用基材１０の製造方法は、導電性基材１６の表面に黒鉛含有ペースト２０を付着させる工程を含む。本電子エミッタ製造方法は、真空成膜室３２内で上記電子エミッタ用基材１０の基材温度を７００℃以上に昇温し炭素含有ガスを直流プラズマで分解し該基材表面に電界電子放出性能を有する炭素膜４２を成膜して電子エミッタ４４を製造する。 （もっと読む）

【課題】電子放出素子表面に電子放出材料を突出させるための前処理を行っても電子放出素子の構造を崩すことなく、電子放出素子上に多数の電子放出材料を突出させることができる電子放出素子用ペーストおよび、それを用いた電子放出素子を提供する。
【解決手段】電子放出材料、無機粒子、有機微粒子を含む電子放出素子用ペーストであって、有機微粒子の平均粒径が０．０１〜０．５μｍであり、有機微粒子の含有量が電子放出素子用ペーストに対し０．１〜２０重量％である電子放出素子用ペースト。 （もっと読む）

【課題】炭素ナノチューブで構成した３次元構造の長寿命電界放出エミッターを提供する。
【解決手段】広い面が互いに対向して対をなすように配置されている少なくとも二つの電極板と、電極板のそれぞれの両面に形成された炭素ナノチューブと、電極板のそれぞれの一側面が接触された状態で垂直に固定される基板と、基板から離間した状態で並列状に配列され、基板に対向する蛍光体を有するアノード電極と、アノード電極と電極板との間に直流電圧を印加する直流電源と、対をなす電極板のうちのいずれか他の一つに周期的に異なる大きさの電圧を有するパルス波を印加することによって、これらが交互にカソード電極とゲートの役割をなすようにするパルス波供給機とを具備する。 （もっと読む）

【課題】電界放出ディスプレイの三極管構造の製法を提供する。
【解決手段】マトリクスに配列された複数の陰極層は、陰極層を被覆して形成される。複数の縦延伸したゲートラインは誘電層上に形成され、各ゲート層は陰極層の２つの隣接した列間に設置される。 （もっと読む）

【課題】低電界の印加で所要の発光輝度を得ることが可能でかつカーボンナノチューブ１つ当たりの電子放出負荷を低減して電子エミッタとしての寿命特性が向上した電子エミッタの製造方法を提供する。
【解決手段】本電子エミッタの製造方法は、電極上に、カーボンナノチューブ集合体とカーボンナノチューブ単体群とをそれぞれ分散配置する工程と、上記カーボンナノチューブ集合体中のカーボンナノチューブを起毛処理する工程と、カーボンナノチューブ単体群中のカーボンナノチューブを起毛させるためにアルゴンガス雰囲気下で活性化処理する工程と、を含む。 （もっと読む）

陰極構造（１２）、陰極構造（１２）から離間された陽極構造（１３）および制御格子（１５）を含み、陰極構造（１２）および陽極構造（１３）は個別に形成されると共にスペーサ（１４）を挿設して一緒に接合され、ならびに、制御格子（１５）が陽極構造（１２）に組み込まれている、高周波、冷陰極、三極管タイプ、フィールドエミッタ真空管が本明細書において開示されている。
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【課題】選択成長させたカーボンナノチューブ電子放出源を用いた電子放出リソグラフィ装置及びそのリソグラフィ用電子放出エミッタの製造方法を提供する。
【解決手段】 チャンバの内部に配置される電子放出源と、この電子放出源から所定距離、離隔して試料１４を載置させるステージとを含む電子放出リソグラフィ装置であり、前記電子放出源を電子放出能を有するカーボンナノチューブ１１で構成し、リソグラフィ工程の電子放出源としてカーボンナノチューブ１１を使用する。その結果、非常に微細な線幅を極めて高い精度で具現できるリソグラフィ工程が可能になる。また、カーボンナノチューブ１１から放出される電子が１：１で対応する部位の電子ビームレジスト１５、１５’を露光するので基板１２の中心部と端部との間で生じ得る露光状態の偏差が低く抑えられる。本発明はこのようなリソグラフィを生産性よく行うことができる。 （もっと読む）

【課題】作製したＣＮＴを回収し、さまざまな基板材料上に低温で塗布または分配できるようにしたいという明らかな要求、電界放出特性を最適化することを目的として、ＣＮＴの密度を制御できるようにしたいという要求に対する解決手段の提供。
【解決手段】（１）ａ）基板、およびｂ）カーボンナノチューブと粒子との混合物を含む電界放出カソード材料
を含む電界放出カソードであって、１つの実施形態において、カーボンナノチューブは、単層カーボンナノチューブ、二層カーボンナノチューブ、多層カーボンナノチューブ、バッキーチューブ、カーボンフィブリル、化学修飾されたカーボンナノチューブ、誘導体化されたカーボンナノチューブ、金属性カーボンナノチューブ、半導体性カーボンナノチューブ、メタル化カーボンナノチューブ、およびそれらの組み合わせからなる群から選ばれる、カソード。 （もっと読む）

【課題】フィールドエミッションランプに用いる陰極の量産性を向上すること。
【解決手段】本成膜方法は、大気に開放してある反応炉１２内に基板２０を配置し、基板２０に直流電源２６から直流負バイアスを印加し、反応炉１２内に炭化水素系ガスと酸素系ガスとを導入し、反応炉１２内に設置した触媒金属材を含む放電電極対１８によりスパーク放電を発生させることにより、基板２０の表面に電界電子放出用の炭素膜３６を成膜する。 （もっと読む）

【課題】より低温環境で、所望の構造を有する電子放出部を確実に構成可能な電子放出物質の製造方法および表示装置を提供する。
【解決手段】 導電性を有する触媒導電層１２上に、カーボン材料を含み繊維状または管状を成すとともに側部にグラフェンシート２２の端面２２ａが露出しているグラファイトナノチューブ２１を形成することを特徴とする電子放出素子の製造方法であって、前記導電触媒層１２を加熱し、減圧雰囲気下において、導電触媒層１２の周囲に混合ガスを導入し、プラズマを発生させてＣＶＤを行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電子放出源（エミッタ）の信頼性を大きく向上させることができる電界放出ディスプレイ用のＣＮＴエミッタの製造方法を提供すること。
【解決手段】まず、ＣＮＴパウダーと有機バインダーと感光物質とモノマーとナノサイズの金属粒子４３２ａとを溶媒に分散させてＣＮＴペーストを製造する。ＣＮＴペーストを基板４１０上に形成された電極４２０上に塗布する。電極上に塗布されたＣＮＴペーストを露光して微細パターニングする。微細パターニングされたＣＮＴペーストを焼成する。焼成されたＣＮＴペーストの表面が活性化されるように、ＣＮＴペーストの表面を処理する。このような構成により、数μｍ程度の微細パターニングが可能であり、１つのピクセル内に複数のＣＮＴエミッタ領域を形成することができるので、電子放出の均一度を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】電子放出源用のカーボン系物質、それを含む電子放出源及び該電子放出源を備えた電子放出素子、並びに該電子放出源の製造方法を提供する。
【解決手段】４８８±１０ｎｍ、５１４．５±１０ｎｍ、６３３±１０ｎｍまたは７８５±１０ｎｍの波長を有するレーザを照射して得たラマンスペクトルは、１３５０±２０ｃｍ^−１及び１５８０±２０ｃｍ^−１のラマンシフト範囲にある第２ピーク及び第１ピークを有し、第２ピークと第１ピークの相対強度ｈ２とｈ１とがｈ２／ｈ１＜１．３であるか、第２ピークと第１ピークの半幅値ＦＷＨＭ２とＦＷＨＭ１とがＦＷＨＭ２／ＦＷＨＭ１＞１．２であるか、あるいはｈ２／ｈ１＜１．３であり、ＦＷＨＭ２／ＦＷＨＭ１＞１．２である電子放出源用のカーボン系物質、それを含む電子放出源及び該電子放出源を備えた電子放出素子、並びに該電子放出源の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】電界放出素子のエージング方法を提供する。
【解決手段】互いに平行に配置されたカソード電極とアノード電極、アノード電極に電子を放出できるようにカソード電極上に形成された電子放出用エミッタ及び、電子放出用エミッタに隣接してカソード電極上に設けられたゲート電極を備える電界放出素子のエージング方法において、カソード電極とゲート電極との間のショートした部分が過電流によって損傷されない程度の電圧を前記アノード電極に印加する。 （もっと読む）

【課題】電界放出素子の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上１１０にカソード電極１１２及び光遮断層１２０を順次に形成した後、遮断層ホール１２１を形成する工程と、光遮断層１２０上に絶縁層１３０及びゲート物質層を順次に形成した後、ゲート電極１４０を形成し、ゲート電極１４０にゲート電極ホールを形成する工程と、ゲート電極１４０上にフォトレジスト１７０を塗布した後、これを露光現像して、ゲート電極ホールの内側にレジストホール１７１を形成する工程と、レジストホール１７１を通じて絶縁層１３０を等方性エッチングして絶縁層ホール１３１を形成する工程と、絶縁層ホール１３１に露出されたゲート電極１４０をエッチングしてゲートホール１４１を形成した後、フォトレジスト１７０を除去する工程と、遮断層ホール１２１を通じて露出されたカソード電極１１２上にエミッタを形成する工程と、を含む電界放出素子の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】電界放出素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板１１０と、基板１１０上に形成されるものであり、基板１１０を露出させるスロット状のカソードホール１１３を持つ複数のカソード電極１１２と、カソードホール１１３それぞれを通じて露出された基板１１０上に設けられるものであり、カソードホール１１３の両側から離隔してカソードホール１１３の長手方向に沿って形成されるエミッタ１３０と、カソード電極１１２を覆うように基板１１０上に形成されるものであり、カソードホール１１３と連通する絶縁層ホール１１５を持つ絶縁層１１４と、絶縁層１１４上に形成されるものであり、絶縁層ホール１１５と連通するゲートホール１１７を持つ複数のゲート電極１１６と、を備える電界放出素子。 （もっと読む）

【課題】本発明は、電子放出素子の製造方法に関し、特にカーボンナノチューブを利用する電子放出素子の製造方法に関する。
【解決手段】本発明の電子放出素子の製造方法は、導電基板と、カーボンナノチューブを含むペーストと、導電ペーストと、を準備する第一段階と、前記導電基板に前記導電ペーストを塗布した後、該導電ペーストを乾燥させて導電層を形成する第二段階と、前記導電層に前記カーボンナノチューブを含むペーストを塗布した後、該カーボンナノチューブを含むペーストを乾燥させて、カーボンナノチューブを含む電子放出層を形成する第三段階と、前記導電基板と、前記導電層と、前記カーボンナノチューブを含む電子放出層と、を乾燥させて焙焼する第四段階と、を含む。 （もっと読む）

【課題】電界放出素子の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１１０上にカソード電極１１２、絶縁層１１４、及びゲート物質層を順次に形成する工程と、前記ゲート物質層の上面にメタル犠牲層を形成する工程と、前記メタル犠牲層及び前記ゲート物質層に絶縁層１１４を露出させる貫通孔を形成する工程と、貫通孔を通じて露出された絶縁層１１４にカソード電極を露出させるエミッタホール１３０を形成する工程と、エミッタホール１３０の上部壁をなすゲート物質層をエッチングしてゲート電極１１５を形成する工程と、貫通孔の下部に位置するカソード電極１１２の上面にカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）からなるエミッタ１５０を形成する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】電子放出部の電子放出特性が良好で、駆動電圧の低い電界放出型カソード基板およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の電界放出型カソード基板１００は、基板１０と、基板１０の上に設けられたカソード電極２０と、カソード電極２０の上に設けられた触媒層３０と、触媒層３０の上に設けられた電子放出部４０と、を含む。そして、電子放出部４０は、繊維状物質の凝集体が複数集合して形成され、前記凝集体の下部は、連続しており、前記凝集体の上部は、離れており、前記凝集体の頂部４２は、互いに１．２μｍ以上の距離で離間している。 （もっと読む）

【課題】応答速度が高速であり、及び／または生産コストが低い電子エミッタが提供される。
【解決手段】ナノワイヤ電子エミッタを用いた電界効果型の電子放出装置であって、ナノワイヤ電子エミッタを絶縁層の細孔内で成長させ、及び／またはナノワイヤ電子エミッタの少なくとも一部を細孔から露出させた電子放出装置が開示される。電界効果型の電子放出装置の製造方法もまた開示される。電界効果型の電子放出装置は表示装置の中で使用することができる。 （もっと読む）