【課題】 磁気記録媒体等に用いられる軟磁性膜形成用のＦｅ−Ｃｏ―Ｔａ系スパッタリングターゲット材において、スパッタリング時に発生するパーティクルを極力抑止することが可能なスパッタリングターゲット材を提供する。
【解決手段】 Ｆｅ−Ｔａ粉末とＣｏ−Ｔａ粉末と純Ｔａ粉末とを混合して混合粉末を得る工程と、前記混合粉末を焼結温度１１００〜１４００℃、圧力１２５〜２００ＭＰａで１〜１０時間の加圧焼結をする工程とを有するＦｅ−Ｃｏ−Ｔａ系スパッタリングターゲット材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】垂直磁性層の高い垂直配向性を維持し、更なる高記録密度化を可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも非磁性基板の上に、軟磁性下地層と、直上の層の配向性を制御する配向制御層１１と、磁化容易軸が非磁性基板に対して主に垂直に配向した垂直磁性層とを積層してなる磁気記録媒体の製造方法であって、垂直磁性層を２層以上の磁性層から構成し、各磁性層を構成する結晶粒子が配向制御層１１を構成する結晶粒子と共に厚み方向に連続した柱状晶を形成するように各層を結晶成長させる際に、配向制御層１１をＣｏＣｒ合金で形成し、この配向制御層１１をスパッタリングガスに窒素を混合した反応性スパッタリングにより成膜すると共に、成膜時に前記非磁性基板に対して負のバイアス電圧を印加する。 （もっと読む）

【課題】磁気記録膜用スパッタリングターゲットに対して、スパッタリング中のパーティクル発生を抑制し、かつバーンイン時間の短縮化が可能であり、漏洩磁束が大きく、マグネトロンスパッタ装置でスパッタする際に安定した放電が得られるスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Ｃｒ：２０ｍｏｌ％以下、Ｐｔ：３０ｍｏｌ％以下、残余がＣｏとするＣｏを主成分とする磁性合金と導電性酸化物からなる焼結体スパッタリングターゲットであって、焼結体ターゲット中に平均粒子径が１０〜１００μｍの範囲の導電性酸化物が分散されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体の信号雑音比が向上され及び面記録密度が増強された記録層を得る為のスパッタリングターゲット、及び該スパッタリングターゲットから形成された磁気記録媒体の記録材料を提供する。
【解決手段】ＣｏＰｔ又はＣｏＣｒＰｔ又はＣｏＣｒＰｔＢに基づく合金及び酸化物組合せを含み、前記酸化物組合せが、酸化銅（ＣｕＯ）と、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、及び酸化ハフニウム（ＨｆＯ２）からなる群から選択される少なくとも１つの酸化物とを含むスパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】高品位および高記録密度の記録層を形成する多重酸化物を含有するスパッタターゲット、およびハードディスクの記録材を提供する。
【解決手段】コバルト−白金（ＣｏＰｔ）、コバルト−クロム−白金（ＣｏＣｒＰｔ）または、コバルト−クロム−白金−ホウ素（ＣｏＣｒＰｔＢ）の合金を基本とし、スパッタリングプロセスの間に酸素欠損に対して酸素を提供する酸素供給剤として、シリカ酸化物（ＳｉＯ_２）およびＣｒ_２Ｏ_３を付加したスパッタターゲットで、シリカ酸化物（ＳｉＯ_２）の量は４からの８原子％の範囲であり、酸化クロム（Ｃｒ_２Ｏ_３）の量は０．８原子％から５原子％の範囲である。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体の製造に、より生産効率の高い埋め込み層の形成方法を適用すること。
【解決手段】基板上に設けられた記録磁性層の有する凹凸パターンに対して、高周波スパッタリング法により埋め込み層を成膜する際に、引き込み電界によりプラズマ中の正イオンを基板に引き込みながら、引き込み電界を形成しない時と比較した成膜速度比が９０％以下となる条件で埋め込み層を成膜する。 （もっと読む）

【課題】 磁気記録層が所定のパターンに加工された磁気記録媒体において、良好な記録再生特性を得る。
【解決手段】 磁気記録層が、面内方向に規則的に配列された、コバルト及びプラチナを含む記録部と、記録部間に設けられ、イットリウム、ランタン、及びセリウムからなる群から選択される少なくとも一種の軽希土類金属及びホウ素を含有する非記録部とを含む。 （もっと読む）

【課題】記録再生ヘッドの浮上性を確保しつつ、ヘッド位置決め制度がよく、ＳＮ比が良好で、高温多湿環境下でも高い信頼性を示す磁気記録媒体を製造できる方法を提供する。
【解決手段】基板上に磁気記録層を製膜し、前記磁気記録層の記録部に対応する領域にマスクを形成し、前記マスクに覆われていない領域の磁気記録層の一部をＣ含有ガスを含むイオンビーム照射で失活して非記録部を形成し、全面に保護膜を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録媒体の磁気記録層に注入するイオンの垂直方向の濃度分布を、イオンを注入する層に応じた適切なものにすることで、書き込み特性および読み出し特性を向上させる。
【解決手段】垂直磁気記録媒体１００の製造方法は、ディスク基体１１０上に、磁気記録層１２２を成膜する磁気記録層成膜工程と、磁気記録層の上にレジスト層１３０を成膜するレジスト層成膜工程と、レジスト層を加工することで当該レジスト層の厚みを部分的に変化させ凹部と凸部を有する所定のパターンを形成するパターニング工程と、レジスト層を介在させた状態で磁気記録層を含む複数の層にイオンを注入するイオン注入工程と、を含み、イオン注入工程において、イオンを注入するエネルギー量を調節してイオンを注入する層を決定し、そのエネルギー量を保持する時間を調節して各層へ注入されるイオンの総量を決定する。 （もっと読む）

【課題】 プロセスダメージや工程増加を招くことなく、表面凹凸を小さくできる磁気記録媒体を製造する。
【解決手段】 基板上に強磁性記録部を所望のトラックパターン又はビットパターンに形成した磁気記録媒体の製造方法であって、基板４０上に強磁性体膜４４を形成した後、強磁性体膜４４をトラック間又はビット間で分離するための領域にＢ薄膜５１を形成する。次いで、Ｂ薄膜５１にイオンを照射することにより、強磁性体膜４４のＢ薄膜５１が形成された部分を、Ｂ含有量を１５at％以上にして非磁性化する。 （もっと読む）

【課題】プロセスダメージや工程増加を招くことなく、表面凹凸を小さくできる磁気記録媒体を製造する。
【解決手段】基板上に強磁性記録部を所望のトラックパターン又はビットパターンに形成した磁気記録媒体の製造方法であって、基板４０上に強磁性体膜４４を形成した後、強磁性体膜４４上に該膜４４をトラック間又はビット間で分離するための領域上に開口を有するマスク４５を形成する。次いで、Ｂ系ガスを照射することにより、強磁性体膜４４のガスが照射された部分を、Ｂ含有量を１５at％以上にして非磁性化する。 （もっと読む）

【課題】グラニュラ構造の垂直磁性層をスパッタリング法で形成するに際し、形成する磁性粒子を微細化し、また磁性粒子の粒界幅を広げ、今まで以上に高記録密度化に対応可能な電磁変換特性に優れた磁性層を形成可能とするターゲットを提供する。
【解決手段】磁気記録媒体のＣｏ系磁性層をスパッタリング法で形成するために用いるターゲットを、ＣｒまたはＣｒ合金を５モル％以上含み、ＣｏＯを５モル％以上含み、融点が８００℃以下の酸化物を合計で３モル％〜２０モル％の範囲内で含み、気孔率が７％以下とする。またターゲットに、ＳｉＯ_２、ＴｉＯ、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、Ｃｒ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、ＣｅＯ₂からなる群から選ばれる何れか１種を含有させる。 （もっと読む）

【課題】優れた記録再生特性と長期保存特性とを有し、高記録密度の磁気記録テープを提供する。
【解決手段】本発明の磁気記録テープは、非磁性基板と、前記非磁性基板の上に形成された非磁性下地層と、前記非磁性下地層の上に形成された多層構造軟磁性層と、前記多層構造軟磁性層の上に形成された非磁性中間層と、前記非磁性中間層の上に形成されたグラニュラ磁性層と、前記グラニュラ磁性層の上に形成された保護層とを含み、前記非磁性下地層、前記多層構造軟磁性層、前記非磁性中間層、前記グラニュラ磁性層及び前記保護層は、対向ターゲット式スパッタリング法によって形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 飽和磁束密度と透磁率を高いレベルで両立可能なアモルファス構造を有する磁気記録媒体用の軟磁性裏打ち層膜を提供する。
【解決手段】 Ｃｏ−Ｆｅ系合金でなる磁気記録媒体用の軟磁性裏打ち層膜であって、該軟磁性裏打ち層膜における原子％で表されたＣｏとＦｅの組成の比率が８８：１２〜９２：８の範囲内にあり、添加元素として３．０原子％以上のＺｒと、２．０原子％以上Ｂ、Ｙ、Ｎｂ、Ｈｆ、Ｔａの群から選ばれる１種または２種以上の元素と、をいずれも含有し、かつ、前記添加元素の含有量の合計が５．０〜９．０原子％の範囲内にある磁気記録媒体用の軟磁性裏打ち層膜である。また、上記と同組成の磁気記録媒体の軟磁性裏打ち層膜形成用スパッタリングターゲット材およびそのスパッタリングターゲット材を用いてスパッタリング法により形成される磁気記録媒体用の軟磁性裏打ち層膜の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】磁性粒子のサイズの低減と磁性粒子間の距離を狭めることとを両立して、高記録密度化及び高ＳＮ比を達成すること。
【解決手段】本発明の垂直磁気記録媒体は、基板上に少なくとも磁性層を含む積層膜を有する垂直磁気記録媒体であって、前記磁性層は、グラニュラー構造を有する磁性材料と、Ｍｇを含むセラミックス間化合物を含む非磁性粒界と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】グラニュラ構造の磁性層の磁性粒子を微細化し、また磁性粒子の粒界幅を広げ、今まで以上に高記録密度化に対応可能な電磁変換特性に優れた磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【解決手段】スパッタリング工程によって基板上にグラニュラ磁性層を形成した磁気記録媒体において、グラニュラ磁性層を、Ｃｏ合金を含む複数の磁性粒子及び複数の磁性粒子を分離する酸化物から構成し、スパッタリング工程は、酸化コバルトを含み金属ＣｒまたはＣｒ合金を含まないターゲットを用いることにより、グラニュラ磁性層の磁性粒子の平均粒径を６ｎｍ以下、磁性粒子の平均粒界幅を１．５ｎｍ以上とする。 （もっと読む）

【課題】表面の平坦性が高く、安定な記録書き込み再生が可能な磁気記録媒体、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】サーボ領域２を有し、前記サーボ領域２は、第１の領域２４及び第２の領域２５がパターンをなす磁気記録層７で形成され、前記第1の領域２４は磁化の向きが第１の方向を向いた複数の第１の磁性粒子２６とその周囲の非磁性体マトリックス２８とを含み、前記第２の領域２５は磁化の向きが前記第１の方向とは反対の方向を向いた複数の第２の磁性粒子２７とその周囲の非磁性体マトリックス２８とを含み、前記第1の磁性粒子２６の大きさは、前記第２の磁性粒子２７の大きさよりも小さいことを特徴とする磁気記録媒体。 （もっと読む）

【課題】シリカ粒子等の無機酸化物粒子の飛散を低減できるスパッタリングターゲット及びその製造方法等を提供することを目的とする。
【解決手段】Ｃｏ及びＰｔを含む金属相と、金属相に分散したシリカ粒子又はチタニア粒子と、を備えるスパッタリングターゲットであって、シリカ粒子又はチタニア粒子は、スパッタリングターゲットの主表面に垂直な断面において、スパッタリングターゲットの主表面に平行な方向に延びる扁平な形状を有するスパッタリングターゲットである。 （もっと読む）

【課題】塗布型磁気記録媒体に適用可能な磁性材料であって、高い結晶磁気異方性と優れた記録性を兼ね備えた磁性材料を提供すること。
【解決手段】硬磁性粒子表面に該硬磁性粒子と交換結合した状態で軟磁性体が被着してなる磁性粒子の集合体からなることを特徴とする磁性粉末およびその製造方法。六方晶フェライトの表面に、遷移金属および遷移金属と酸素との化合物からなる群から選ばれる被着物が被着してなる磁性粒子の集合体からなることを特徴とする磁性粉末。 （もっと読む）

【課題】 ＰＴＦを改善することができる磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 非磁性酸化物、ＣｒおよびＰｔを含有し、残部：Ｃｏおよび不可避不純物からなる成分組成を有するスパッタリングターゲットであって、その組織が、ＣｏとＣｒとＰｔとを含むＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ粒相４と、ＰｔとＣｏとＣｒと非磁性酸化物とを含む結合相であるマトリックス相３との複合組織からなり、マトリックス相３のＣｏ濃度が、２５質量％以下である。 （もっと読む）