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Fターム[5E315AA03]の内容

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Fターム[5E315AA03]に分類される特許

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【課題】高い熱伝導率と高い電気絶縁性を有する樹脂硬化物を形成可能な樹脂組成物を提供する。
【解決手段】樹脂組成物を、ビフェニル骨格を有する2官能エポキシ樹脂と、フェノール樹脂と、重量累積粒度分布の小粒径側からの累積50%に対応する粒子径D50が7μm以上25μm以下である第1のアルミナ群、粒子径D50が1μm以上7μm未満である第2のアルミナ群、及び、粒子径D50が1μm未満である第3のアルミナ群と、を含み、第1から第3のアルミナ群の総質量中の、第1のアルミナ群の含有率が60質量%以上70質量%以下、且つ第2のアルミナ群の含有率が15質量%以上30質量%以下、且つ第3のアルミナ群の含有率が1質量%以上25質量%以下であり、第3のアルミナ群に対する第2のアルミナ群の含有比率(第2のアルミナ群/第3のアルミナ群)が、質量基準で1.2以上1.7以下であるように構成する。 (もっと読む)


【課題】導電性無機物層、絶縁層を有する枚葉の積層体のポリイミドの絶縁層をドライフィルムを用いたウェットエッチングにより電子部品を製造するのに、低コストで、廃棄処理に問題のある有機溶剤を使用することがなく製造する方法を提供する。
【解決手段】該積層体における絶縁層はウェットエッチング可能で、単層構造又は2層以上の絶縁ユニット層の積層構造であり、全ての層がポリイミド樹脂であり、前記ウエットエッチングによる絶縁層のパターニングは、ドライフィルムレジストのラミネート体に対してウエットエッチングする方法により行う。ドライフィルムレジストのラミネート体に露光、現像してパターニングした後、絶縁層のエッチャントに対するドライフィルムレジストの耐性を向上させる処理として、紫外線照射処理、加熱処理、及び紫外線照射処理と加熱処理の組合せから選ばれた処理を行う。 (もっと読む)


【課題】小型化を図ることができる制御基板を効率よく製造することができる制御基板の製造方法、および、かかる制御基板の製造方法により製造された制御基板を提供すること。
【解決手段】制御基板の製造方法は、回路基板2と、回路基板2上に配置された半導体素子3aおよび3bそしてコネクタ4と、蓋部材5とを備える制御基板1を製造する方法である。この製造方法は、回路基板2上に半導体素子3a、3bとコネクタ4をそれぞれ位置決めして固定し、組立体10を得る組立工程と、組立体10に蓋部材5を装着する装着工程とを有する。そして、蓋部材5は、半導体素子3a、3bのそれぞれの外形形状に対応し、装着工程で半導体素子3a、3bが入り込むような形状をなす半導体素子用凹部54a、54bと、コネクタ4の外形形状に対応し、装着工程でコネクタ4が入り込むような形状をなすコネクタ用凹部55とが予め形成されたものとなっている。 (もっと読む)


【課題】プリント基板に形成される回路層の回路配線の間にゾルゲル層を形成して放熱特性を向上させることができ、回路層の回路配線の間に発生する電気的短絡を防止することができるうえ、回路層の形成されていない金属基板の他面の陽極酸化層を除去することにより放熱効果を増加させることができるプリント基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のプリント基板は、金属基板10と、金属基板10を陽極酸化処理して形成される陽極酸化層20と、陽極酸化層20に形成される回路層30、31と、陽極酸化層20を露出させる、回路層30、31の回路配線の間に光触媒剤でコーティング処理した後、コーティング処理された光触媒剤を硬化させて形成される第1ゾルゲル層50とを含む。 (もっと読む)


【課題】本発明は、低剛性なサスペンション用基板を歩留まり良く製造することができるサスペンション用基板を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、金属基板と、前記金属基板上に形成された絶縁層と、前記絶縁層上に形成されたシード層と、前記シード層上にパターン状に形成された金属めっき層からなる配線パターン層と、を少なくとも有し、前記配線パターン層の最大膜厚部および最小膜厚部の差が、2μm以下であるスペンション用基板であって、前記絶縁層には開口部が形成されており、カバー材を用いて前記配線パターン層上に形成され、前記配線パターン層の表面の一部が露出する配線パターン層露出開口部を有するカバー層を有し、前記カバー層の配線パターン層上の最大膜厚部および最小膜厚部の差が、1μm以下であることを特徴とするサスペンション用基板を提供することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】放熱性、絶縁性及びピール強度に優れた金属ベース回路基板の実現に有利な技術を提供する。
【解決手段】本発明の回路基板用積層板1は、金属基板2と、前記金属基板2上に設けられ、液晶ポリエステルと50体積%以上の無機充填材とを含有し、前記無機充填材は窒化アルミニウム及び酸化アルミニウムの少なくとも一方と窒化硼素とからなり、前記無機充填材に占める前記窒化硼素の割合は35乃至80体積%の範囲内にある絶縁層3と、前記絶縁層上に設けられた金属箔4とを具備している。 (もっと読む)


【課題】本発明は、銅箔層の錆を防止するとともに配線において短絡が発生するのを防止することができる配線回路用積層体を、提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、金属支持層と、上記金属支持層上に形成された絶縁層と、上記絶縁層上に形成された銅箔層と、を有する配線回路用積層体であって、上記銅箔層が、メッキ銅から構成された導体層と、上記導体層上に形成され、ZnおよびCrを含有する防錆層と、を有し、上記銅箔層において、上記防錆層の上面からの深さが2nm〜8nm(SiO換算)の領域におけるZnの含有量およびCrの含有量のうちの大きい方が、1.7at%〜19.8at%であることを特徴とする配線回路用積層体を、提供することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】本発明は絶縁接着層中にマイクロボイドが残存しない、高品質且つ高放熱である基板及び金属ベース回路基板を効率良く生産する製造方法を提供する。
【解決の手段】金属ベース材、絶縁接着層、導体箔よりなる基板の製造方法であり、絶縁接着剤の各組成物を均一に分散する工程、ロール状である導体箔を連続的に繰り出しながら、前記導体箔上に絶縁接着層を連続成形する工程、連続的に供給される導体箔上の絶縁接着層を加熱することで、Bステージ状態まで硬化させる工程を有することを特徴とする。更に、絶縁接着剤が少なくともエポキシ樹脂及び無機フィラーを主成分とし、Bステージ状態の絶縁接着剤の反応開始温度が60℃以上であり、Cステージ状態の絶縁接着層の熱伝導率が1.0W/(m・K)以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】電気特性を向上させると共に容易に製造することができるサスペンション用基板を提供する。
【解決手段】サスペンション用基板は、絶縁層10と、絶縁層10の一方の面に設けられ、導電性を有するバネ性材料層11と、絶縁層10の他方の面に設けられた複数の配線とを備えている。このうち一の配線が、ヘッド部から延びるヘッド側配線部と、ヘッド側配線部から分岐する複数の分割配線部22a、22bとを有している。バネ性材料層11は、本体用バネ性材料部40と、本体用バネ性材料部40に溝43を介して区画された配線用バネ性材料部41とを有している。絶縁層10には、絶縁層10を貫通する導電接続部34が設けられている。この一の配線の各分割配線部22a、22bは、導電接続部34を介して、配線用バネ性材料部41に接続されている。 (もっと読む)


【課題】金属基板と絶縁フィルムと導電箔とを有する金属ベース回路基板において、絶縁フィルムの熱伝導性および密着性を改善する。
【解決手段】液晶ポリエステルと溶媒と熱伝導充填材とを含み、この熱伝導充填材が体積平均粒径10μm以上の窒化ホウ素である液状組成物を調製する。この液状組成物の流延物から溶媒を除去して絶縁フィルム3を形成する。金属基板2の表面に絶縁フィルム3を積層し、絶縁フィルム3の表面に導電箔5を積層して、3層構造の金属ベース回路基板1を形成する。これにより、液晶ポリエステルに熱伝導充填材を高充填する場合であっても、絶縁フィルム3の熱伝導率および密着強度が増大する。 (もっと読む)


【課題】温度上昇時に反りやクラックが発生するのを防止し得る絶縁層を備えるアルミニウム基板その他の高熱伝導性基板を提供すること。
【解決手段】金属製の基材から成るベース層12を備える金属ベースの基板10であって、該ベース層の少なくとも片方の面に絶縁層20が形成されており、該絶縁層はベース層に接する多孔質層22と該多孔質層上に形成される緻密層24とを有しており、ここで該多孔質層は、ガラスで構成されるマトリックスと無機フィラーとを有しており、ベース層に接する部位における多孔率が少なくとも30%であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】金属板上に形成した低温焼結セラミック層を焼成時に平面方向に収縮しないようにしつつ、すべてのセラミック層を緻密化させることで、いずれのセラミック層にも回路パターンを問題なく形成することができるようにした、金属ベース基板の製造方法を提供する。
【解決手段】金属板4上に、低温焼結セラミック材料を含む第1のセラミック層5となる第1のセラミックグリーン層と、難焼結性セラミック材料を含む第2のセラミック層6となる第2のセラミックグリーン層とを配置し、これらを同時焼成して、金属ベース基板2を得る。第2のセラミックグリーン層は、第1のセラミックグリーン層の0.05倍以上かつ0.4倍以下の厚みとされ、焼成工程において、低温焼結セラミック材料を焼結させるとともに、低温焼結セラミック材料の一部を第2セラミックグリーン層に流動させて、第2セラミックグリーン層を緻密化させる。 (もっと読む)


【課題】電子回路基板の製造工程において、熱伝導性および密着性に優れた液晶ポリエステルフィルムを形成する技術を提供する。
【解決手段】放熱用基板101と絶縁フィルム102と導電箔103とを有する電子回路基板100を製造する際に、絶縁フィルム102を次の手順で形成する。まず、溶媒と液晶ポリエステルと熱伝導充填材とを少なくとも含み、所定温度以下の状態で粘度が3000cP以上である液晶ポリエステル組成物を、所定温度以下の温度で、導電箔103上に流延する。その後、所定温度以下の温度で、溶媒の残存量が30質量%以下になるまで、液晶ポリエステル組成物を乾燥する。これにより、熱伝導充填材の沈降が抑制されるので、液晶ポリエステルフィルムの熱伝導性および密着性が向上する。 (もっと読む)


【課題】金属支持基板と接触する導体パターン以外の導体パターン形成エリアが限られてしまうことを防止して導体パターンのデザイン自由度を高い状態で維持しつつ、金属支持基板と導体パターンの密着面積を大きく保つこと。
【解決手段】配線回路基板は、金属支持基板30と、金属支持基板30上に配置され、貫通孔21aが設けられた第一絶縁層21と、所定のパターンで配置されるとともに貫通孔21a内で金属支持基板30に接触するように形成された導電接続用の導体パターン10と、を備えている。貫通孔21aは、横断面において、下端の長さが上端の長さよりも短くなり、金属支持基板30が延在する方向に対して所定の角度θで傾斜している。貫通孔21a内の導体パターン10は、横断面において、下端の長さが上端の長さよりも短くなり、金属支持基板30が延在する方向に対して所定の角度θで傾斜している。 (もっと読む)


【課題】熱放出特性がさらに優れ、製造費用が低い陽極酸化金属基板モジュールを提供する。
【解決手段】本発明による陽極酸化金属基板モジュールは、金属プレートと、上記金属プレート上に形成された陽極酸化膜と、上記金属プレート上に実装された熱発生素子と、上記陽極酸化膜上に形成された電気的配線とを含む。金属プレートは、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなってもよい。熱発生素子は、少なくとも一つのLEDを含んでもよい。 (もっと読む)


【課題】 パワー素子の放熱性に優れた金属ベース回路基板を簡素な工程で得る。
【解決手段】金属ベース回路基板10は、第5の回路基板半製品10Eと放熱用の金属ベース35とを絶縁層45を介して接合してなる。基板11は、熱伝導性を有するエポキシ樹脂等の合成樹脂に、高い熱伝導性を有するフィラーを混在させてなる。各配線部13,15,17,19,21は、導体配線積層41,43で形成され、所定の回路配線パターンを形成してなる。絶縁層45は、電気絶縁性を有するエポキシ樹脂等の合成樹脂に、高い熱伝導性を有するフィラーを混在させてなる。絶縁層45は、回路基板接合の初期に高い流動性を備えている。 (もっと読む)


【課題】 金属ベースプリント基板に放熱部の放熱面積を増加して、発熱が大きい電子部品等を実装しても効率よく放熱させることができる放熱部付き金属ベースプリント基板を提供する。
【解決手段】 放熱部付き金属ベースプリント基板1は、熱伝導率が良好な金属板2の一方面2aに絶縁性の接着剤層を介して金属箔が貼り合わされている。金属板2の他方面2bには、起立形成された複数の肉薄な板状の放熱フィン5bが並列配置され、これら複数の放熱フィンの5b各隣接間に冷却流体が流通する流通路5cが形成された放熱部5が一体に設けられ、複数の放熱フィン5bは流通方向に沿って複数の曲部を有する蛇行状に屈曲形成されている。さらに、隣接する放熱フィン5bの間に形成される底面2eの板厚を金属板2の板厚よりも小さく形成する。 (もっと読む)


【課題】放熱性のさらなる向上がなされた電子部品である。
【解決手段】電子部品は、金属板1と、金属板1の一方の面に積層された絶縁層2と、絶縁層2の上に積層された回路用の導体層3とを有する回路基板4と、金属板1の他方の面に積層されたスペーサ10と、スペーサ10の露出面から回路基板4の表面まで貫通した貫通孔6と、貫通孔6に挿入された導電性を有する棒状体7とを有する。棒状体7の一方端が導体層3と電気的に接続されている。 (もっと読む)


【課題】電子部品を金属ベ−スに直付けして放熱性を高め、より高密度実装の進展を可能としながら、安価に加工でき、傷発生等を抑制することを可能とする。
【解決手段】金属ベース3の他側面から肉厚方向の途中までパンチ16を打ち込み金属ベース3の一側面にダイ19の穴17内へ押し込まれて先端周縁部23aの断面が湾曲形状の凸部23を半抜き形成しダミーの銅箔パターン21の有る箇所で絶縁層5及びダミーの銅箔パターン21の一部を打ち抜く凸部形成工程S1と、打ち抜かれた絶縁層5及びダミーの銅箔パターン21の一部である抜きカス27を凸部23の湾曲形状を利用して剥離除去し凸部23先端を露出させる剥離工程S2と、凸部23をプレス成型して電子部品搭載部9を形成する搭載部形成工程とを備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 使用時に発塵が抑制された電子回路部品用積層体、特に、ハードディスクドライブ用ワイヤレスサスペンション用の積層体を提供する。
【解決手段】 第1無機物層−絶縁層−第2無機物層、又は、無機物層−絶縁層からなる層構成の積層体をウエットエッチングすることによりパターニングし、該パターニングされることにより該第1無機物層、第2無機物層及び無機物層の少なくとも一部が除去されて露出した絶縁層に対してプラズマ処理する電子回路部品用の積層体の製造方法である。該絶縁層は、単層構造又は2層以上の積層構造の、絶縁ユニット層であり、該絶縁ユニット層の材料は、ポリイミドである。 (もっと読む)


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