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【課題】発光素子を搭載した際に反射性、放熱性、絶縁性を同時に達成できるアルミニウム回路基板の製造方法、及びアルミニウム回路基板を提供する。
【解決手段】(a)アルミ基材上に光学増反射層を形成する工程、(b)配線部に相当する箇所以外に第1のレジスト膜からなるレジストパターンを形成する工程、(c)第1のエッチング液で配線部に相当する箇所の光学増反射層を除去してアルミ基材を露出させる工程、(d)露出した部分のアルミ基材にアルマイト皮膜を形成する工程、(e)金属導電層を形成する工程、(f)金属めっき層を形成する工程、(g)金属めっき層の配線部相当箇所に第2のレジスト膜を設けて配線部相当箇所以外の金属導電層及び金属めっき層をエッチング除去する工程、及び(h)第1及び第2のレジスト膜を除去する工程を備えたアルミニウム回路基板の製造方法であり、これにより得られたアルミニウム回路基板である。 (もっと読む)


【課題】優れた熱伝導性及び絶縁性が安定して得られ、且つ生産性にも優れる樹脂封止型半導体装置用基板、樹脂封止型半導体装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】金属ベース材2上に、少なくとも、エポキシ樹脂と、紫外線硬化型硬化剤及び熱硬化型硬化剤、又は熱紫外線硬化型硬化剤と、無機フィラーとを含有し、前記無機フィラーの含有量が50〜80体積%であるエポキシ樹脂組成物で、Bステージ状態の絶縁層2bを形成して、金属ベース基板1とする。 (もっと読む)


【課題】絶縁性及び熱放散性に優れた熱伝導性絶縁シート、金属ベース基板及び回路基板を提供する。
【解決手段】六方晶窒化ホウ素2が厚さ方向に配向している1又は複数の縦配向シート4上に、六方晶窒化ホウ素2が幅方向又は長さ方向に配向している1又は横配向シート3を積層し、熱伝導性絶縁シート1とする。その際、縦配向シート4の総厚が、横配向シート3の総厚よりも厚くなるようにする。また、金属ベース材上に、熱伝導性絶縁シート1と導体層とをこの順に、かつ横配向シート3が導体層側になるように積層して金属ベース基板とする。更に、金属ベース基板の導体層を加工して、金属ベース回路基板とする。 (もっと読む)


【課題】高い熱伝導性及び優れた流動性を両立する樹脂組成物、高い熱伝導性及び絶縁性を有する樹脂シート、プリプレグ、積層板、金属基板、及びプリント配線板を提供する。
【解決手段】本発明の樹脂組成物は、熱硬化性樹脂、熱伝導性フィラー及びナノ粒子を含む。前記熱伝導性フィラーは、重量累積粒度分布から求めた平均粒子径が0.2μm〜100μmであり、樹脂組成物の全固形分に対して60〜90体積%含有する。前記ナノ粒子は、重量累積粒度分布から求めた平均粒子径が1nm〜100nmであり、樹脂組成物の全固形分に対して0.01〜1体積%含有する。本発明の樹脂シート、プリプレグ、積層板、金属基板、及びプリント配線板は、前記樹脂組成物を用いて作製される。 (もっと読む)


【課題】アルミニウムを回路用金属板として用い、絶縁層としてアルミナ層を備えても、アルミナ層にクラックを生じることない、放熱性及び製造性に優れ、かつ安価な金属ベース基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】アルミニウムまたはアルミニウム合金からなるベース板1を準備し、ベース板1の全面に陽極酸化処理及び封孔処理を実施してアルミナ層2を形成した後、ベース板1の一方の面のアルミナ層2を研磨により除去して電子部品搭載部を形成する。 (もっと読む)


【課題】セラミックス基板とアルミニウム又はアルミニウム合金からなるアルミニウム層との界面強度が高く信頼性に優れたパワーモジュール用基板を効率よく生産することができるパワーモジュール用基板の製造方法、及び、パワーモジュール用基板を提供する。
【解決手段】セラミックス基板11の一方の面のうち少なくともアルミニウム層12が形成される領域に、Mg,Ca及びNiから選択される1種又は2種以上の添加元素を固着し、前記添加元素を含有する固着層24を形成する固着工程と、固着層24が形成されたセラミックス基板11を鋳型50内に配置し、この鋳型50内に溶融アルミニウムMを充填し、セラミックス基板11と溶融アルミニウムMとを接触させる溶融アルミニウム充填工程と、セラミックス基板11と接触した状態で溶融アルミニウムMを凝固させる凝固工程と、を備えていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】長期間の使用に耐え得る放熱性の良好な配線板を提供する。
【解決手段】アルミニウムの板からなる金属基板2の面を、1種または2種以上のアルコキシシランまたはクロルシランから誘導されるポリシロキサン構造を有する物質と、絶縁性および放熱性を有する無機粒子を含む配合物3で被覆し(図1(B))、配合物3を硬化する工程を有する。そして、硬化する工程の後、銅箔4を硬化した配合物3Aと固着し(図1(C))、銅箔4を部分的に除去して配線層5を形成する(図1(D))工程を有する。 (もっと読む)


【課題】アルミニウム基板の上面にアルマイト層を形成した後、配線電極形成を行った場合、配線電極形成のプロセス時に発生する熱等によりアルマイト層の表面にクラック等が発生し、回路基板の絶縁性特性に対して悪影響が生じる。
【解決手段】アルミニウム基板3の上面にシードメタル層4を介して配線電極1を形成した後、所定の配線電極1の幅に対応した時間に応じて陽極酸化処理を行うことにより、配線電極1の下部も含めて、アルミニウム基板3の上層部全域に所定の厚みのアルマイト層を形成した回路基板であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】コールドスプレー法を用いてセラミックス基材に金属皮膜を形成させた場合に、セラミックスと金属皮膜との間の密着強度が高い積層体およびこの積層体の製造方法を提供すること。
【解決手段】絶縁性のセラミックス基材10と、金属を含む主成分金属層51、および金属または金属の酸化物もしくは水素化物からなる活性成分層52を有し、セラミックス基材10の表面に形成される中間層50と、中間層50の表面に、金属を含む粉体をガスと共に加速し、前記表面に固相状態のままで吹き付けて堆積させることによって形成された金属皮膜40と、を備えた。 (もっと読む)


【課題】電子部品の熱エネルギーの伝達速度を高めることができる回路板を提供すること。
【解決手段】回路板は、金属パターン層と、熱伝導板部材と、電気絶縁層と、少なくとも1つの電気絶縁材料とを備えている。熱伝導板部材は平面を有する。電気絶縁層は金属パターン層と平面との間に配置され、かつ平面を局所的に覆っている。電気絶縁材料は電気絶縁層に覆われていない平面を覆うとともに、熱伝導板部材に接触している。電気絶縁層は電気絶縁材料を露出させ、電気絶縁材料の熱伝導率は電気絶縁層の熱伝導率より大きい。 (もっと読む)


【課題】高い熱伝導率と高い電気絶縁性を有する樹脂硬化物を形成可能な樹脂組成物を提供する。
【解決手段】樹脂組成物を、ビフェニル骨格を有する2官能エポキシ樹脂と、フェノール樹脂と、重量累積粒度分布の小粒径側からの累積50%に対応する粒子径D50が7μm以上25μm以下である第1のアルミナ群、粒子径D50が1μm以上7μm未満である第2のアルミナ群、及び、粒子径D50が1μm未満である第3のアルミナ群と、を含み、第1から第3のアルミナ群の総質量中の、第1のアルミナ群の含有率が60質量%以上70質量%以下、且つ第2のアルミナ群の含有率が15質量%以上30質量%以下、且つ第3のアルミナ群の含有率が1質量%以上25質量%以下であり、第3のアルミナ群に対する第2のアルミナ群の含有比率(第2のアルミナ群/第3のアルミナ群)が、質量基準で1.2以上1.7以下であるように構成する。 (もっと読む)


【課題】金属ベース基板の製造時に生じ得る反りを抑制し得るとともに、ヒートシンクへの熱伝導性を向上させることができる、金属ベース基板を提供する。
【解決手段】金属ベース基板1は、互いに対向する第1および第2の主面2および3を有する金属板4と、第1および第2の主面2および3上にそれぞれ形成された第1および第2のセラミック層5および6とを備える。第1および第2の主面2および3の双方に形成されるセラミック層5および6は、反りを抑制する。第2のセラミック層6は、第2の主面3上における枠状領域に沿って位置する枠状部分8を少なくとも含むとともに、枠状部分8に囲まれた領域において第2の主面3の一部を露出させる開口9を有する。開口9は、金属板4にヒートシンクを接合することを可能にし、金属ベース基板1の放熱性を向上させる。 (もっと読む)


【課題】高い耐電圧と高いピール強度を同時に実現可能とする。
【解決手段】本発明の回路基板用積層板の製造方法は、支持体5上に形成され、電気絶縁性の樹脂3a’と電気絶縁性の無機充填材3bと任意に溶媒とを含有した絶縁層3’を、前記支持体5から金属箔上へと転写する工程と、前記絶縁層3’を間に挟んで前記金属箔と金属基板とを貼り合せる工程とを含んでいる。 (もっと読む)


【課題】金属板上に形成した低温焼結セラミック層を焼成時に平面方向に収縮しないようにしつつ、すべてのセラミック層を緻密化させることで、いずれのセラミック層にも回路パターンを問題なく形成することができるようにした、金属ベース基板の製造方法を提供する。
【解決手段】金属板4上に、低温焼結セラミック材料を含む第1のセラミック層5となる第1のセラミックグリーン層と、難焼結性セラミック材料を含む第2のセラミック層6となる第2のセラミックグリーン層とを配置し、これらを同時焼成して、金属ベース基板2を得る。第2のセラミックグリーン層は、第1のセラミックグリーン層の0.05倍以上かつ0.4倍以下の厚みとされ、焼成工程において、低温焼結セラミック材料を焼結させるとともに、低温焼結セラミック材料の一部を第2セラミックグリーン層に流動させて、第2セラミックグリーン層を緻密化させる。 (もっと読む)


【課題】放熱性が高く、反り及び反りのばらつきが小さく、且つ低コストで作成できる金属−セラミックス複合基板を提供する。
【解決手段】金属ベース板1に少なくとも1個以上の強化材3を接合し且つ前記強化材3の一部を前記金属ベース板1から露出せしめる。金属−セラミックス接合基板の製造方法においては、注湯口を備えた鋳型内にセラミックス基板5と、1個以上の強化材を設置した後、前記セラミックス基板5および前記強化材3に接触するように金属溶湯を注湯口から鋳型内に注湯し、鋳型を冷却して溶湯を固化させることにより、前記セラミックス基板5の一方の面に金属板8を接合し、セラミックス基板の他方の面に金属ベース板1を接合せしめる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、信頼性向上の要求に応える配線基板を提供するものである。
【課題を解決するための手段】本発明の一形態にかかる配線基板3の製造方法は、導電性領域を有し、該導電性領域が表面に露出した基体7を準備する工程と、基体7を、無機絶縁粒子が分散した溶液13中に浸漬する工程と、基体7の導電性領域に電圧を印加することにより、表面に露出する導電性領域に無機絶縁粒子を凝集させて、露出部を無機絶縁粒子で被覆してなる無機絶縁層8を形成する工程と、無機絶縁層8上に導電層10を形成する工程と、を備えたことを特徴とする配線基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 本発明の課題は、従来技術における欠点を取り除くことである。具体的にはシンプルで費用対効果のある製造可能な基板について述べる。この基板は高い熱伝導率λを有している。更に、このような基板を製造するための方法についても述べる。
【解決手段】 本発明は、少なくとも1つのコンポーネント(4)、特にパワー半導体を受け止めるための基板に関する。基体(1)は、少なくとも前面及び/或いは反対側の背面に導電層(3、3a、3b)を設けられている。導電層(3、3a、3b)からの熱の放散を改善するために、本発明に従い提案されるのは、基体(1)と導電層(3、3a、3b)との間に電気絶縁されている接続層(2、2a、2b)が設けられることである。これらの接続層(2、2a、2b)は、プレセラミックポリマーから形成されている熱硬化性マトリックスを有している。 (もっと読む)


【課題】無機質系のプリント配線板に実装された搭載部品からプリント回路板を経由する放熱性を向上できるプリント回路板を提供する。
【解決手段】プリント回路板2は無機質系のプリント配線板3とLED(搭載部品)4を具備する。プリント配線板3は、金属製のベース5、熱拡散層6、絶縁層7、及び導体パターン8を有する。熱拡散層6はベース5よりも高い熱伝導率を有する金属材料を主成分として形成され、この熱拡散層6をベース5の一面に積層する。絶縁層7は無機材料を主成分として形成され、この絶縁層7を熱拡散層6上に積層する。金属製の導体パターン8を絶縁層7にプリント配線により設ける。LED4は通電中発熱を伴うものであって、このLED4を導体パターン8に接続して絶縁層7上に実装したことを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】高周波の大電流が流れても、渦電流による損失を抑えるとともに、放熱性を維持することのできる電力用回路装置を提供する。
【解決手段】金属板1上に絶縁性の磁性体層5を介して高周波の大電流が流れる配線部材2を取り付けるとともに、配線部材2上に電子部品3及びスイッチング素子4を取り付けるようにすることにより、配線部材2を流れる電流により発生する磁束は磁気抵抗の小さな磁性体層5に流れ、金属板1には磁束が届かないように遮蔽することで、金属板1における渦電流の発生を抑え、又金属板1により放熱性は確保できる。 (もっと読む)


【課題】高周波電流が流れる回路を備えた半導体回路装置において、配線回路からの発熱を抑え、高電流化と高信頼化が可能な半導体回路装置を提供することである。
【解決手段】金属基体と、金属基体の表面に設けられた絶縁層と、絶縁層の表面に設けられ、且つスイッチング素子が搭載される配線導体とで形成される回路基板を備えた半導体回路装置であって、配線導体が、複数の入力側配線導体と、高周波電流が通電され、且つ底面部と側壁部とを備える複数の出力側配線導体と、複数の制御側配線導体とで形成され、複数の出力側配線導体における、隣り合う出力側配線導体の側壁部が互いに略平行に近接配置されているものである。 (もっと読む)


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