説明

Fターム[5E339DD03]の内容

プリント配線の製造 (8,867) | エネルギー線の種類 (414) | 光、可視光 (246) | レーザー (121)

Fターム[5E339DD03]に分類される特許

41 - 60 / 121


【課題】レジストのはく離性に優れ、密着性及び解像度を向上させることが可能な感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、及びプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】(A)バインダーポリマー、(B)エチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する光重合性化合物及び(C)光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物であって、前記(A)バインダーポリマーが、特定の化学式で表される重合性単量体を含み、前記(B)エチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する光重合性化合物が、特定の化学式で表される化合物を含む感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】感度、解像性、密着性及びレジスト形状に優れ、且つ剥離特性を十分に満足するレジストパターンを形成し得る感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】(A)アルカリ可溶性基含有バインダーポリマー、(B)光重合性化合物、及び(C)光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物であって、水晶振動子上に形成された前記感光性樹脂組成物の硬化膜を、25℃、1質量%炭酸ナトリウム水溶液に浸漬し、浸漬直後の水晶振動子マイクロバランス(QCM)の指示値を0Hzとしたとき、浸漬後60秒における振動数変化量が、硬化膜の膜厚1μmあたり−80Hz以上−20Hz以下である、感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】プラスチック成形体に対して、プラスチック成形体に密着し且つプラスチック成形体との接触面が平滑な配線パターンを形成する製造方法およびプラスチック成形体を得る。
【解決手段】本発明の製造方法は、表面部2に金属元素含有微粒子3を分散させたプラスチック成形体1を用意することと(図1(A))、プラスチック成形体1についての配線パターン4の輪郭の領域に対してレーザ光10などの電磁波を照射して、電磁波が照射された表面部2または表面部2に分散した金属元素含有微粒子3を選択的に除去することと(図1(B))、除去処理後のプラスチック成形体1を、アルコールを含む無電解めっき液に常圧下で浸漬して、配線パターン4の形状に無電解めっき膜を形成することとを含む(図1(C))。 (もっと読む)


【課題】余分なフォトリソグラフィー工程を省略し高生産性を実現すると同時に高品質の多層薄膜を実現できるようにする。
【解決手段】透明導電膜が成膜された基板を配置し、局所排気を行う排気孔が開けられた局所排気手段の一面を、上記基板に成膜された透明導電膜に近接して設置する。そして、透明導電膜のレーザ光照射面近傍の雰囲気を排気孔より排気し、この排気により局所的に減圧された雰囲気下でレーザ光を照射し、透明導電膜のレーザ光照射部分を基板上から除去してパターニングする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、簡単な制御で、加速状態及び減速状態でも、等速状態と同一の距離ピッチで、且つ1回当たりのエネルギー量を略同じにして走査できる回路基板の製造装置及びその製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】レーザ発振器1と、スキャナ2と、レーザ走査制御部3とを備える。スキャナ2は、パルス状レーザを走査させるに際し、加速状態と等速状態と減速状態と停止状態との4つの状態に順次移行させながら行う。レーザ走査制御部3は、スキャナ2が前記4つの状態の内のいずれかの状態から次の状態に移行したか否かの判定を行い、加速状態又は減速状態に移行したとの判定をした場合に、等速状態で走査する際における距離ピッチ及び1回当たりのエネルギー量と略同じになるようにパルス周波数情報を生成してレーザ発振器に送信する。 (もっと読む)


【課題】金属板との密着性、耐エッチング液性、およびアルカリ剥離性に優れた硬化物を与え、かつインクジェットで安定して吐出が可能なインクジェット用インキ組成物を提供する。
【解決手段】活性エネルギー線により重合可能な重合性モノマーを含むエッチングレジスト用インクジェットインキ組成物。前記重合性モノマーは全モノマー中に、一般式(I)で表される重合性エステル化合物1〜30質量%と、分子内に2個以上のエチレン性二重結合基を有し、リン酸エステル基を有さない多官能性モノマーであって、前記エチレン性二重結合基量が4×10−3〜8×10−3mol/gである多官能性モノマーを10〜75質量%と、分子内に1個のエチレン性二重結合基を有し、リン酸エステル基とカルボキシル基を有さない単官能性モノマーを10〜75質量%を含む。前記インキ組成物25℃における粘度は、3〜50mPa・sである。
(もっと読む)


【課題】走査器における走査ビームに対する走査対象表面の位置を判定する方法を提供する。
【解決手段】少なくとも2個の穴150を有する表面を供給するステップと、前記穴の近傍においてビームで表面を走査するステップと、前記ビームが前記穴を通る位置にあれば、そのビームを検出するステップと、ビームが穴の縁部に臨む位置において、走査器基準フレームにおけるビーム位置を判定するステップと、穴の縁部の位置の判定結果に基づいて走査器基準フレームにおける穴の位置を判定するステップを有する。 (もっと読む)


【課題】配線パターンを形成する工程を効率化し、配線パターンを高精度に形成し、配線基板の製造コストの削減を図る。
【解決手段】配線層あるいは絶縁層を所定パターンに形成する際に、レジストによりワークの表面を被覆し、前記レジストを所定のパターンに露光し、現像してレジストパターンを形成する工程を備える配線基板の製造方法において、前記レジスト15を露光する工程として、ガラスマスクを用いて露光する方法と、レーザ光を利用して描画露光する方法とを併用する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、基板上に光架橋性樹脂層を形成した後、アルカリ水溶液による光架橋性樹脂層の薄膜化処理を含む金属パターンの作製方法において、支持層フィルムを用いることなく露光を行っても、光架橋性樹脂層によるフォトツールの汚染、レジスト層剥離等の問題が生じない金属パターンの作製方法を提供するものである。
【解決手段】サブトラクティブ法によって金属パターンを形成する方法において、基板上に光架橋性樹脂層を形成し、アルカリ水溶液による光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行った後、回路パターンの露光、現像、エッチング処理を行う金属パターンの作製方法であって、前記薄膜化処理工程において光架橋性樹脂層表面をエンボス化することを特徴とする金属パターンの作製方法。 (もっと読む)


【課題】ドライフィルム作成時の相溶性が良好で、i線、h線の両方のタイプの露光機で露光した場合に同等の感度を示し、かつ解像度、及び密着性に優れ、アルカリ性水溶液によって現像し得る感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(a)α,β−不飽和カルボキシル基含有単量体を共重合成分として含む、酸当量で100〜600、重量平均分子量が5,000〜500,000の熱可塑性共重合体:20〜90質量%、(b)少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマー:5〜75質量%、(c)トリアリールイミダゾリル二量体を含む光重合開始剤:0.01〜30質量%、及び(d)特定のピラゾリン化合物:0.001〜10質量%、を含有する感光性樹脂組成物であって、上記(b)少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマーが、特定の化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物を用いる。 (もっと読む)


導電パターンを特徴とする回路基板の製造方法であって、i)最終生産物のための所望領域(3a)と最終生産物における導電性領域間の狭小領域(3c)とを備える金属箔(3)などの導電層の一部は、ボンド(2)によって基板物質(1)に接着され、
例えば金属箔(3)などの導電層において後に除去されるさらに広範囲の領域(3b)は、基板物質と実質的に非接着状態で残っており、除去領域(3b)は、続く工程ii)でパターン化される予定の縁部分よりも小さい部分、可能であれば、続く工程iii)の前に除去領域が解放されるのを防ぐ領域にて、基板物質と接着するように、金属箔(3)などの導電層を基板物質(1)へ選択的に接着する工程と、ii)導電パターンを確立するために、所望の導電性領域(3a)間の微小ギャップと、固体状態で除去可能な領域(3b)の外側周囲から、材料を除去することにより、金属箔(3)などの導電層をパターン化する工程と、iii)工程ii)において除去領域の外側周囲から除去された導電層の縁領域が、基板物質と縁が接着している除去領域(3b)をもはや保持しなくなった後に、基板物質(1)に付加されていない除去領域(3b)を金属箔(3)などの導電層から除去する工程、とを備える回路基板の製造方法。
(もっと読む)


【課題】配線基板の製造方法において、配線回路間の短絡を防止することである。
【解決手段】配線基板10を製造する方法において、コネクタ端子部に置かれる絶縁基板16に、銀ペーストで複数のリード配線層31〜37を形成し、リード配線層を形成した絶縁基板16に導電性ペーストを被覆して導電層20を形成するとともに、コネクタ端子部の回路基板本体側に形成される導電層を凹凸状にして、各々リード配線層の間に凹部42を形成し、凹凸状に形成された導電層におけるコネクタ端子部の回路基板本体側に絶縁性ペーストを被覆して保護層22を形成するとともに、凹部42におけるコネクタ端子部の先端側を露出させて絶縁溝44を形成し、各々リード配線層の間に形成された導電層をレーザ加工により所定幅で除去して絶縁路46〜49を形成し、絶縁路を絶縁溝44に接続させて各々リード配線層を絶縁する。 (もっと読む)


【課題】ドライフィルムレジスト積層体の画像形成方法に関する。
【解決手段】前記ドライフィルムレジスト積層体は、剥離可能な最上層、ドライフィルムレジスト層、透明又は半透明コーティング層、及び剥離可能な最下層をこの順で含む。前記最上層が、積層体から剥離され、前記積層体が熱及び圧力で表面に貼り付けられる。その後、画像形成ドライフィルムレジスト層に形成された画像、及びレジストが現像されて、透明又は半透明コーティング層と共にフォトレジスト層の未硬化部分が除去される。 (もっと読む)


【課題】 この発明は、基板のコア部に、ファインピッチのCSP実装ランド部と、ラフピッチの単品部品実装ランド部を有するバンプ付き基板の製造方法に関する。
【解決手段】コア基板にエポキシ系樹脂のPSRを塗布して第1レジスト層を形成し、単品部品実装ランド部の第1レジスト層を露光、現像処理で除去し、上記基板上に非光感応性レジストを塗布して第2レジスト層を形成し、前記CSP実装ランド部は前記第1レジスト層の上に第2レジスト層を被覆し、単品部品実装ランド部は第2レジスト層のみで被覆し、前記CSP実装ランド部の第1および第2レジスト層の上に高エネルギービームを照射して孔を穿設し、該孔の底面の残渣を除去し、該孔底面に露出するランド表面をソフトエッチングして半田部材を装着し、該半田ぺーストを溶融してCSP実装ランド部に半田バンプを成形し、前記第2レジスト層を溶解処理により除去してなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】2つのプリント配線基板を、機械的かつ電気的に接続する構造において、一般的
にコネクタあるいはケーブルで配線基板同士を接続すると、コネクタあるいはケーブルに
よる電気特性の悪化により高速信号伝送に問題が生じやすい。また、コネクタあるいはケ
ーブルによるコスト増加も問題となる。
【解決手段】一方の基板の表面辺部に電源種および複数信号分の電極端子を設け、他方の
基板には内壁に前記電源種および複数信号に対応する電極端子を持つ長穴を設け、前記の
辺部に電極端子を設けた基板を、他方の基板の電極端子を持つ長穴に挿入することで機械
的に接続し、電極端子を押し付けによる接触、あるいは半田付けすることで電気的に接続
することで、高速信号伝送に対して良好な電気的特性を有し、且つコネクタやケーブルを
使わないことでコストダウンできる接続構造を実現する。 (もっと読む)


【課題】従来例における導体パターンに比較して積層基板の表面に形成される表面導体層の形状や配置の自由度を高くする。
【解決手段】第1〜第4絶縁層31〜34の間に形成されている第1〜第3内層導体層41〜43を介して下地層6aに給電することにより電気めっきを行い、めっき層6bを厚付けすることにより表面導体層6を形成する。その結果、電気めっきの給電用導体層が絶縁基材の表面にしか形成し得ない従来例に比較して、積層基板2の表面に形成される表面導体層6の形状や配置の自由度が高くなる。 (もっと読む)


【課題】導電性物質を備えた面領域が設けられた被印刷体を印刷技術によって実現する可能性を広げ、あるいは完全なものにする。
【解決手段】被印刷体処理機械10は、被印刷体44の形状自体を変化させるか、または印刷インキを塗布することで被印刷体44を変化させる少なくとも1つの処理ユニット18を有しており、被印刷体44は面領域を有し、面領域の上には導電性物質が設けられているか、または面領域の上へ被印刷体処理機械10の塗布ユニット20によって導電性物質が塗布される。被印刷体処理機械10はレーザ処理ユニット22を有しており、レーザ処理ユニット22のレーザの少なくとも1つの集光レーザビームを用いて、導電性物質を少なくとも部分的に変化させるかまたは除去することで、被印刷体44上に設けられた導電性物質が構造化される。 (もっと読む)


【課題】レーザ光を加工対象物に照射してパターン加工する際に加工対象物から発生する加工飛散物を効率よく除去し、加工対象物に付着するデブリを削減する。
【解決手段】レーザ光3を利用して基板4上に形成される樹脂膜又は金属膜26のパターン加工を行なう際、レーザ光3を透過する透過窓19と、樹脂膜又は金属膜26のレーザ光照射部近傍に気体C1,C2,C3,C4を流入させることで渦気流Bを発生させる渦発生機構23aと、入射レーザ光3が通過できる開口部42aを備え加工飛散物の流れを遮る遮蔽手段42とを有するデブリ回収手段22を用いてデブリ回収を行う。まず、デブリ回収手段22を加工対象膜26に近接させ、レーザ光3を照射する。そして、レーザ光3照射により発生した加工対象膜26に堆積する前及び堆積した後の加工飛散物を、上記渦気流に巻き込み、遮蔽手段42の開口部42aを通して外部に排気する。 (もっと読む)


【課題】窒化アルミニウム基板1の表面に正確に回路パターンを形成する回路パターン形成方法を提供する。
【解決手段】窒化アルミニウム基板1の表面に導電性薄膜2、3aを形成する工程と、高エネルギービーム4を照射して導電性薄膜2、3aを選択的に除去することにより回路パターンを形成する工程と、を備える回路パターン形成方法において、高エネルギービーム4を照射したことにより窒化アルミニウム基板1の一部が導体化して形成されるアルミニウム5を除去する工程を更に備える。 (もっと読む)


【課題】露光光として波長400〜440nmの光を使用する場合において、増感剤の溶剤に対する溶解性が良好であり、且つ、十分な感度及び十分な解像度を得ることができる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】(A)バインダーポリマーと、(B)少なくとも1つの重合可能なエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、(C)光重合開始剤と、(D)下記一般式(1)で表される三級アミノ化合物と、を含有する感光性樹脂組成物。
(もっと読む)


41 - 60 / 121