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Fターム[5E343BB28]の内容

プリント配線の製造 (50,760) | 導体パターンの形状、構造・材料 (16,522) | 導体材料(サーメット等) (10,751) | 金属単体 (9,947) | 3B族 (433) | Al (418)

Fターム[5E343BB28]に分類される特許

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【課題】セラミックス基板と金属層との組立作業性を向上させることができ、強固な接合を得ることができるパワーモジュール用基板の製造方法および製造装置を提供する。
【解決手段】耐熱シート20上にセラミックス基板2及び金属板6,7を面方向に進退可能なガイド枠13により面方向に位置決めしながら積層する積層体積み重ね工程と、セラミックス基板2及び金属板6,7の積層体30の上に新たな耐熱シート20を載置する耐熱シート載置工程とを繰り返すことにより、積層体30を耐熱シート20を介して複数積み重ね状態とするとともに、積層体積み重ね工程から耐熱シート載置工程までの間は積層体30が載置される耐熱シート20の側縁部を上方から押圧し、耐熱シート載置工程後から次の積層体積み重ね工程までの間は最上段の耐熱シート20を上方から押圧状態とした後、耐熱シート20の側縁部の押圧を解除してガイド枠13を退避させる。 (もっと読む)


【課題】透明導電膜、透明導電膜付き基材、及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子、並びにその製造方法において、パターニング処理を簡易に行う。
【解決手段】透明導電膜3は、導電性を有する複数の金属細線7と、バインダーとしての透明樹脂層8と、を備える。光触媒活性を有する光触媒粒子9は、透明樹脂層8内に分散されている。この構成によれば、透明導電膜3上に紫外線が照射され、紫外線が照射された光触媒粒子9の光触媒作用により、透明導電膜3内の金属細線7を酸化して絶縁体とすることができ、これを選択的に行うことで、透明導電膜3のパターニング処理を行うことができる。従って、透明導電膜3上に紫外線を所定パターンで照射する簡易な工程により、透明導電膜3のパターニング処理を行うことができる。 (もっと読む)


【課題】配線基板に形成する配線をより微細化できる技術を提供すること。
【解決手段】絶縁層と導電層との少なくともいずれかによって形成した層を複数積層させて前記絶縁層および前記導電層を含む積層体を形成する積層体形成工程と、前記積層体形成工程において形成した前記積層体を、複数の前記層と交差する面に沿って切断する切断工程と、を含む配線基板の製造方法とした。 (もっと読む)


【課題】レーザー加工によるビア形成工程において基板樹脂内に発生するストレスに起因して発生する基板樹脂のダメージを防止し、信頼性の高い回路基板を得る。
【解決手段】ポリイミドフィルム16,17の両側に金属層2を有し、ポリイミドフィルムの両側の金属層をビア104を介して電気的に接続したポリイミド金属積層体51の製造方法であり、レーザーを用いて、ポリイミドフィルムにビアを形成するビア形成工程、レーザーでポリイミドフィルム内に発生したストレスをポリイミドのβ緩和により低減させるストレス緩和工程、湿式化学デスミア処理を行なう化学デスミア工程、ビア形成工程で形成したビアを介して、ポリイミドフィルムの両側を導通させる導通工程、とを有する。 (もっと読む)


【課題】セラミック部の表面に形成された金属層の密着強度が向上されたセラミック基盤を提供する。
【解決手段】セラミック部2と、セラミック部2の少なくとも1面に形成された、表面粗さ(Ra)が1um以上30um以下である表面処理層3と、表面処理層3の表面に、乾式めっき法によって形成された導電性金属からなる第1の金属層4と、第1の金属層4の表面に、乾式めっき法によって形成された導電性金属からなる第2の金属層5と、第2の金属層5の表面に、湿式めっき法によって形成された導電性金属からなる第3の金属層6と、からなるセラミック基板1とした。 (もっと読む)


【課題】電極または配線パターンを印刷する際に、微細なパターンを安定して印刷することができ、焼成後の電気的特性の低下が発生しにくい導電性ペースト用の溶剤を提供する。
【解決手段】導電性ペーストの溶剤成分として、(ポリ)アルキレングリコールモノテルペンエーテル化合物を含有する導電性ペースト。 (もっと読む)


【課題】基板等の回路にかかる力を緩和する能力を有する導電性微粒子、及び、基板間の距離を一定に維持する方法を提供する。
【解決手段】樹脂からなる基材微粒子の表面が1層以上の金属層に覆われてなる導電性微粒子であって、前記金属層の全ての層の熱膨張率がそれぞれ1×10−5〜3×10−5(1/K)であり、かつ、各金属層と前記基材微粒子との熱膨張率の比(基材微粒子の熱膨張率/金属層の熱膨張率)がそれぞれ0.1〜10である導電性微粒子。 (もっと読む)


【課題】バックコンタクト型太陽電池用の配線シートが、絶縁性を有する基材と導電体との積層体からなり、生産性に優れ、且つ、高信頼性を有するバックコンタクト型太陽電池モジュールを生産することができる太陽電池用配線シートを提供する。
【解決手段】配線パターンを有する太陽電池用配線シートであって、セパレート基材の片面にオレフィン系樹脂と金属箔を順次積層する工程と、該金属箔を打ち抜く工程と、打ち抜いた金属箔を剥離除去する工程と、接着剤を介して絶縁性基材と積層する工程が順次施され、その後、セパレート基材とオレフィン系樹脂を剥離する工程からなることを特徴とする太陽電池用配線シート及びその製造方法である。 (もっと読む)


【課題】熱サイクル時における亀裂の進展が抑制されるとともに、焼結性および接合性に優れたパワーモジュール用基板を提供する。
【解決手段】回路層となる金属板と接合されてパワーモジュール用基板を形成するセラミックス基板であって、繊維状Si粒子と、非晶質Si粒子とが焼結されており、前記繊維状Si粒子が、0.05μm以上3μm以下の短軸径と3以上20以下のアスペクト比を有し、且つ、一つの断面における前記繊維状Si粒子のセラミックス基板に占める割合が、5面積%以上95面積%以下であり、前記非晶質Si粒子の平均粒子径が1nm以上500nm以下であることにより、前記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】凹パターンに導電材料が充填されてなるランド部において、特に、広い(アスペクト比の低い)凹パターンに凹みなく導電材料が充填されており、寸法安定性がよく信頼性の高い配線基板を提供する。
【解決手段】本発明の配線基板は、樹脂材料からなる基板2と、前記基板の一面側に設けられた凹パターン3A(3)と、前記凹パターンに導電材料5が充填されてなる導電部と、を備えた配線基板1であって、前記凹パターンの底面部に、前記樹脂材料からなり、前記底面部に対して凸状に設けられた突起部4を有すること、を特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高粘度の材料を射出して基板上にパターンを形成することができるパターン形成技術を提供する。
【解決手段】透明な基材41の表面に加熱により圧力を発生する圧力発生部材42を積層し、その層の上に複数の射出孔46を設けたノズルプレート45を接着している。複数の射出孔46には被射出材たる金属ペースト43を装填している。そして、レーザー光照射部60が基板Wに対して相対移動しつつ、レーザー光照射をオンオフして複数の射出孔46のうちの一部に対応する圧力発生部材42を加熱する。レーザー光照射によって加熱された圧力発生部材42の一部では、樟脳の昇華に起因した急激な体積膨張により圧力波が発生する。こうして発生した圧力により、射出孔46に装填された金属ペースト43を基板Wに向けて射出し、基板Wの表面に金属ペースト43のパターンを形成する。 (もっと読む)


【課題】高粘度の材料を射出して基板上にパターンを形成することができるパターン形成技術を提供する。
【解決手段】透明な基材41の表面に昇華性材料として樟脳を含む圧力発生部材42を積層し、その上に高粘度材料である金属ペースト43を積層して積層体Sを形成している。その積層体Sと処理対象となる基板Wとを相対向させて配置する。そして、レーザー光照射部60が基板Wに対して相対移動しつつ、レーザー光照射をオンオフして圧力発生部材42の一部を加熱する。レーザー光照射によって加熱された圧力発生部材42の一部では、樟脳の昇華に起因した急激な体積膨張により圧力波が発生する。こうして発生した圧力により、その直上の金属ペースト43を基板Wに向けて射出し、基板Wの表面に金属ペースト43のパターンを形成する。 (もっと読む)


【課題】アルミニウム板と銅めっき皮膜を同時かつ選択的にエッチングするという複雑な加工方法を必要とせず、かつエッチング時に高度な液管理技術も必要がないプリント配線基板及びこのプリント配線基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】コア用アルミニウム板10と、前記コア用アルミニウム板の少なくとも一方の表面に積層されるプリプレグ21、22と、前記プリプレグ21、22の表面に積層される回路形成用アルミニウム板31、32と、を有するプリント配線基板100において、コア用アルミニウム板10と、プリプレグ21、22と、回路形成用アルミニウム板31、32とを接着積層した積層板の最外層に配置される回路形成用アルミニウム板31、32をめっき工程より先にエッチングして導電パターンを形成する。 (もっと読む)


【課題】回線電極を有する回路基板間の電気的接続において、低温接続性及び接続信頼性に優れる硬化剤付き回路基板並びに接続構造体を提供すること。
【解決手段】回路電極上に、フィルム形成性樹脂、硬化剤及び該硬化剤により硬化しない粘着性付与樹脂を含む硬化剤層と、保護フィルムから成る保護フィルム層とが順に形成されていることを特徴とする硬化剤付き回路基板。 (もっと読む)


【課題】非パターン形成部の絶縁性に優れ、微細かつ均一な幅又は厚みの導体パターンを形成できる方法を提供する。
【解決手段】基板上に導体パターンが形成されたパターン基板の製造プロセスを、(1)基板表面のうち、導体パターンの位置に対応するパターン部の上に導電性ペースト(A)を印刷する第1の印刷工程と、(2)形成された導電性ペースト(A)の凸部間に、導電性ペースト(A)よりも基板に対する密着性の低い焼結体を形成可能な導電性ペースト(B)を印刷する第2の印刷工程と、(3)第2の印刷工程を経た基板を焼結処理する焼結工程と、(4)導電性ペースト(A)及び導電性ペースト(B)の焼結体表面を平面化する平面化工程と、(5)基板表面のうち、パターン部を除く部分に対応する非パターン部の上に形成された導電性ペースト(B)の焼結体をエッチングするエッチング工程とで構成する。 (もっと読む)


【課題】 従来のインクジェット法による電極形成方法では、開口部からの濡れ広がりを利用していたため導電膜の膜厚にむらが生じやすく膜厚均一性が十分ではなかった。
【解決手段】 本発明は金属微粒子を含有するインクを微細孔の内壁に着弾塗布してインク膜を形成するため、膜厚の均一性を精度よく制御することができ、膜厚均一性の良い低抵抗な導電膜を微細孔に形成する。 (もっと読む)


【課題】金属箔不要領域を粘着フィルムから容易に除去できるようにした金属箔の型抜き方法を提供する。
【解決手段】金属箔の型抜き方法は、粘着フィルム11上に金属箔12を積層する積層工程と、金属箔に刃部の先端を押し当てて、金属箔の厚さ方向Zに平行に見たときに、押し当てた刃部の先端により規定される分離線により金属箔を切断するとともに金属箔を分離線を中心として所定の範囲で粘着フィルムから剥離させ、金属箔の金属箔必要領域と金属箔不要領域とを分離する分離工程と、金属箔不要領域に刃部の先端を押し当てて、押し当てた刃部の先端により規定される細断線により金属箔不要領域を切断するとともに金属箔不要領域を細断線を中心として所定の範囲で粘着フィルムから剥離させる細断工程と、を備え、それぞれの細断線から隣り合う細断線または分離線までの距離は微細な長さ以下になるように設定されている。 (もっと読む)


【課題】コールドスプレー法を用いてセラミックス基材に金属皮膜を形成させた場合に、セラミックスと金属皮膜との間の密着強度が高い積層体およびこの積層体の製造方法を提供すること。
【解決手段】絶縁性のセラミックス基材10と、金属を含む主成分金属層51、および金属または金属の酸化物もしくは水素化物からなる活性成分層52を有し、セラミックス基材10の表面に形成される中間層50と、中間層50の表面に、金属を含む粉体をガスと共に加速し、前記表面に固相状態のままで吹き付けて堆積させることによって形成された金属皮膜40と、を備えた。 (もっと読む)


【課題】フレキシブル多層回路基板を安定して製造することができるフレキシブル多層回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】フレキシブル多層回路基板の製造方法は、ベースフィルム15、25上に第1、第2回路層が形成された第1、第2転写用回路基板16、26、及び、貫通孔31a、31bが形成された絶縁フィルム30を準備する準備工程と、貫通孔31a、31bと第1接続部11a、11bと第2接続部21a、21bとが重なるようにして、絶縁フィルム30の両面に第1、第2転写用回路基板16、26を貼り合わせる貼り合せ工程と、ベースフィルム15、25を第1、第2回路層から剥離する剥離工程と、貫通孔31a、31bにおいて絶縁フィルム30の両面の第1、第2回路層同士を溶接により接続する接続工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】基材として耐熱性の低い材料を用いることができ、実用上十分な導電性を有し、かつ基材と導電性薄膜の密着性が高い導電性基板を提供すること。
【解決手段】基材上に導電性薄膜を有する導電性基板の製造方法であって、該導電性基板は、該導電性薄膜の少なくとも最表面は金属微粒子が融着しており、該導電性薄膜の少なくとも基材と接する面は微粒子が粒子形状を維持しており、基材上に金属又は金属化合物の微粒子の分散液を印刷し、焼成することによって少なくとも最表面の金属微粒子を融着することを特徴とする、導電性基板の製造方法である。 (もっと読む)


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