説明

Fターム[5E343BB40]の内容

Fターム[5E343BB40]に分類される特許

61 - 80 / 217


【課題】より細線化され、電気抵抗の増大が抑制され、且つ密着強度に優れた配線パターンを有する配線板、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】配線板の基材の表面に多孔膜部14が形成されている。多孔膜部14には、インクジェット方式により、径が多孔膜部14の平均孔径よりも大きい第1導電体粒子18と、径が多孔膜部14の平均孔径よりも小さい第2導電体粒子20とを含むペーストが供給される。第1導電体粒子18は多孔膜部14の表面よりも上に残留する。第2導電体粒子20の一部分は多孔膜部14の表面よりも上に残留して各第1導電体粒子18の隙間をうめる。第2導電体粒子20の大部分は多孔膜部14の内部に浸透し、焼結されることで結合材として機能する。 (もっと読む)


【課題】基板の一面に印刷によって印刷体を形成してなる印刷基板の製造方法において、基板を加工することなく、1回の印刷で平面内の印刷体の膜厚を変える。
【解決手段】印刷体21、22として、第1の印刷体21および第1の印刷体21よりも薄い第2の印刷体22を形成するものであり、マスク30として、第2の印刷体22を形成するための貫通穴42の側面が、マスク30の板厚方向とは平行ではなく且つ面の向きがマスク30の他面32側を向いている非平行面42aとなっているものを用いて、ペースト供給工程、スキージ塗布工程を行い、その後、マスク除去工程では、マスク30を基板11の一面12の上方に移動させたときに、第2の印刷体22を形成するための貫通穴42の内部に位置するペースト50の一部を、非平行面42aによってすくい上げ、マスク30とともに基板11から除去する。 (もっと読む)


【課題】凹版オフセット印刷法等によって精度のよい導電パターンを形成できる上、短時間の焼成で導電性に優れた面抵抗の小さい導電パターンを形成できる導電性ペーストを提供する。
【解決手段】熱分解性を有するバインダ樹脂100質量部あたり、5〜40質量部の可塑剤、700〜1500質量部の導電性粉末、20〜100質量部の黒色金属酸化物、5〜100質量部のガラスフリット、および溶剤を配合した導電性ペーストである。 (もっと読む)


【課題】配線パターン表面の変色、配線パターンの剥れによるフクレといった不具合の生じない金属配線パターンを形成できる、メタライズド配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】窒化物セラミックス焼結体基板10上に、配線パターンとして高融点金属層20、ニッケル層30、貴金属層40がこの順で積層されてなるメタライズド配線基板の製造方法において、窒化物セラミックス焼結体基板10上に、高融点金属層20を積層した第一の積層基板の高融点金属層20上に、ニッケル粉を含むペースト層を積層した後、焼成することにより高融点金属層20上にニッケル層30を形成して第二の積層基板を製造する工程、および、前記工程で得られた第二の積層基板のニッケル層30上に、貴金属層40を形成する工程、を含む、メタライズド配線基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】凹部の側面にメッキ層を形成する場合、凹部内に存在するメッキ液の入れ替えが困難であるため、いわゆるエッジ効果により、凹部側面のうち、凹部の底部に近い部分におけるメッキ層の厚みよりも、凹部の開口部に近い部分におけるメッキ層が小さくなってしまう。
【解決手段】主面上に凹部を有する絶縁性基体と、前記凹部の側面上に配設された配線導体と、前記配線導体上に配設され、前記凹部の側面から前記凹部の中心軸に向かって(1,1,0)方向に配向したNiを主成分とするメッキと、を備えた配線基板とする。 (もっと読む)


【課題】基板上に定着性に優れるインク受容層を形成後、該基板上に金属微粒子分散液をパターニングして、焼成する導電性と密着性に優れる、導電材の形成方法を提供する。
【解決手段】ガラス、又は予め表面がコロナ処理等された樹脂基板上に、シランラップリング剤等を含むコーティング液を塗布後、乾燥して基板上にインク受容層を形成し、該インク受容層上に金属微粒子分散液を吐出手段等により、パターン化された液膜を形成し、該基板上のパターン化された液膜を焼成して、焼結導電層を形成することを特徴とする導電材の形成方法。 (もっと読む)


【課題】 基板上に被覆されたレジストに形成された単数または複数のマイクロメートルオーダー、特に100μm以下の素地露出部の幅を有する高さ3μm以上の開口部を短時間で埋設することができる無電解金めっき液を提供する。
【解決手段】 微細部析出促進剤を含み、100μm以下の微細パターンを形成する、無電解金めっき液。 (もっと読む)


【課題】 生産性よく、パターンが施された金属箔を製造する方法により得られた金属箔を提供する。
【解決手段】 (イ)導電性基材の表面に絶縁層が形成されており、その絶縁層に開口方向に向かって幅広で導電性基材が露出している凹部が形成されているめっき用導電性基材の表面にめっきにより金属を析出させる工程、(ロ)上記めっき用導電性基材の表面に析出させた金属を剥離する工程を含むパターンが施された金属箔の製造方法。絶縁層は幾何学図形を描くように又はそれ自身幾何学図形を描くように形成されており、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)又は無機材料からなることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】接続用パッドの小型化を実現するとともに、接続用パッドとセラミック基板との接続強度および接続用パッドと外部接続端子との接続強度の低下を抑制できる配線基板を提供する。
【解決手段】配線基板(1)は、ガラス成分を含む絶縁基板(2)と、絶縁基板(2)に設けられた配線導体(3)とを有する。配線導体(3)は、絶縁基板(2)の内部に設けられ、ガラス成分を含む第1導体層(3a)と、該第1導体層(3a)上に設けられ、一部が絶縁基板(2)の表面に露出する第2導体層(3b)とを有する。第2導体層(3a)は、ガラス成分を含まない、又は第1導体層(3a)よりも質量濃度の小さいガラス成分を含む。 (もっと読む)


【課題】 本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、搬送ロールに蓄えられる静電気が、離型層表面に傷を発生させる主要因となっていることを見出し、離型層中に帯電防止剤を含有させることにより、搬送中に生じる離型層表面の傷発生を防止し得ることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明は以下の内容を含む。
【解決手段】 支持体層上に帯電防止剤を含有する離型層が形成され、該離型層上に金属膜層が形成されている金属膜付きシート。 (もっと読む)


【課題】光学レンズ等の部品を搭載する平面の平坦度を向上させるとともに、セラミック破砕に起因したダストの発生を抑え、CCD等のイメージセンサ用のセラミック配線基板を提供する。
【解決手段】部品を搭載するための平面領域を含むセラミック配線基板の製造方法であって、前記セラミック配線基板の、上記平面領域を研磨加工して平坦化する工程と、前記セラミック配線基板に熱処理を施し、前記研磨加工によって破断した前記面のセラミック破砕を融着させる工程と、を具える。 (もっと読む)


【課題】金属凸部を有するポリマー材料の製造方法を提供する
【解決手段】ポリマー基板上に1個又は2個以上の金属凸部を有するポリマー材料の製造方法であって、下記工程(1)〜(5):
(1)ポリマー基板上の紫外線硬化型組成物により形成されたアクリル樹脂層表面をプラズマ処理する工程、
(2)プラズマ処理を行った該アクリル樹脂層表面に、無電解めっき法により金属皮膜を形成する工程、
(3)リソグラフィ処理により、1個又は2個以上の開口部を金属皮膜上に有するめっき用レジスト皮膜を形成する工程、
(4)電解めっき処理により、めっき用レジスト皮膜の開口部の金属皮膜上に金属を析出させる工程、及び
(5)めっき用レジスト皮膜を除去する工程
を含むポリマー材料の製造方法 (もっと読む)


【課題】線幅の細線化および線厚の増大といった要望に応え得る配線導体の能率的な形成方法を提供する。
【解決手段】基材1上に金属膜3を形成し、金属膜3の上方から、パルス幅が1ピコ秒未満のフェムト秒レーザー光4を照射することによって、基材1に溝5を形成するとともに、金属膜3を構成していた金属を溶融させながら、溶融した金属を溝5に充填し、次いで、金属を冷却・固化することによって、基材1に埋設された配線導体2を得る。その後、必要に応じて、溝5を除く基材1の表面上に残存している金属膜3を除去する工程が実施される。上記のレーザー光照射工程において、レーザー光4の焦点は、基材1上に合わされることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、微細な形状を有し、基材との密着性や形状精度、信頼性に優れ、複雑、高価な設備、工程を必要とせずに形成する導電膜パターン及びその形成方法を提供することにある。
【解決手段】シランカップリング剤、チタンカップリング剤、ジルコニアカップリング剤、およびアルミニウムカップリング剤、からなる群より選択される少なくとも一種のカップリング剤による膜が形成されている基材と、前記カップリング剤による膜が形成されている基材上に無電解めっきの触媒としての機能を発現する組成物を含有するインクをインクジェット装置を用いて所定のパターンに配置することによって形成された触媒層と、前記触媒層上に無電解めっき処理によって形成された金属層と、を有する導電膜パターン。 (もっと読む)


【課題】本発明は、金属配線の形成方法及びこれを利用して形成された金属配線に関する。
【解決手段】本発明による金属配線の形成方法は、金属ナノ粒子及び上記金属ナノ粒子を分散された状態に維持するための分散剤を含むインク組成物で配線を印刷する段階と、真空または不活性雰囲気下において上記配線を焼成することによって粒子成長を抑制する1次焼成段階と、上記真空または不活性雰囲気を解除して上記配線を焼成することによって粒子成長を促進する2次焼成段階と、を含む。本発明による金属配線の形成方法は、金属ナノ粒子の焼成過程において金属ナノ粒子の成長を誘導することができる分散剤を、金属ナノ粒子の成長駆動力が高い温度で迅速に除去して非正常粒子成長を誘導する。これにより金属配線は、粒子の平均粒径が大きい稠密な構造を有し、電気的特性及び機械的特性に優れる。 (もっと読む)


【課題】導電性材料の利用効率が良好なパターン形成層を効率よく形成でき、該パターン形成層とオーバーコート層をフレキシブルフィルム基板に転写可能な転写用紙及び該転写用紙の製造方法、並びに該転写用紙を用いた機能性薄膜の製造方法の提供。
【解決手段】原紙面上に遅水性再湿糊層と速水溶性再湿糊層とを含む転写用紙基材上に、分散安定剤で表面が被覆された金属微粒子、高分子成分、及び分散安定剤を捕捉可能な化合物を含有するパターン形成層用液を付与してパターン形成層を形成するパターン形成層形成工程と、前記パターン形成層が形成された転写用紙基材を加熱する加熱工程と、前記パターン形成層上にオーバーコート層を形成するオーバーコート層形成工程とを含む転写用紙の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】配線基板の小型化が進んでいるため、レーザー加工による接続配線の露出面を小さくする必要がある。このように露出面が小さくなった場合、エッチングに掛かる時間が増加することから、金属パッドへの影響が大きくなる可能性がある。
【解決手段】絶縁性基体と、該絶縁性基体の表面に配設された金属パッドと、前記絶縁性基体の表面に配設されたフローティングパッドと、少なくとも一部が前記絶縁性基体に埋設され、前記フローティングパッドと電気的に接続された第1の接続配線と、少なくとも一部が前記絶縁性基体に埋設され、前記金属パッドと電気的に接続された第2の接続配線と、を備え、前記第1の接続配線と前記第2の接続配線とが互いに離隔し、前記第1の接続配線及び前記第2の接続配線が、前記金属パッドを構成する主成分よりもイオン化傾向の大きい成分を主成分とする配線基板とする。 (もっと読む)


【課題】基板の一面上にスクリーン印刷により導体を形成してなる配線基板において、限られた導体形成領域の中で従来よりも導体の抵抗を低減できるようにする。
【解決手段】スクリーン印刷において導体形成領域の幅の範囲で導体20の幅を変えていったときに、当該幅が大きくなるにつれて導体20の膜厚が大きくなって最大値となり再び小さくなっていくような幅と膜厚の関係を有し、この関係においては、導体形成領域の幅の範囲に収まる導体20の最大幅Wsは、最大膜厚Tpとなる導体20の幅Wpよりも大きいものであり、導体20は、幅Wspである配線部21が複数個並列接続された集合体よりなり、個々の配線部21の幅Wspと最大幅WsとはWsp×N<Ws(Nは2以上の整数)なる関係とされ、個々の配線部21の幅Wspは、導体20の幅と膜厚との関係において膜厚が最大幅Wsにおける膜厚Tsよりも大となる幅である。 (もっと読む)


【課題】金属接合層上に配設された配線導体が、絶縁性基板から剥がれる可能性を低減することができる配線基板、プローブカード、または配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】配線基板1は、主面2aを有する絶縁性基板2と、絶縁性基板2の主面2a上に配設され、絶縁性基板2と接合する第1金属接合層3aと、第1金属接合層3a上に配設された配線導体4と、絶縁性基板2の主面2a上に配設され、絶縁性基板2aと接合する第2金属接合層3bと、第2金属接合層3b上に配設された金属体5と、絶縁性基板2に形成され、第1金属接合層3aと第2金属接合層3bとを接続する接続配線6とを備え、金属体5を構成する主成分は、第1金属接合層3aおよび第2金属接合層3bを構成する主成分よりもイオン化傾向が小さく、配線導体4を構成する主成分は、金属体5を構成する主成分よりもイオン化傾向が小さい。 (もっと読む)


【課題】 ビフェニルテトラカルボン酸系のポリイミドフィルム表面に金属薄膜を形成した金属薄膜積層ポリイミドフィルムを加熱条件下あるいは加湿条件下に置いた後でも剥離強度の低下が少ないポリイミドフィルムの表面処理方法、および金属薄膜を有するポリイミドフィルムを提供する。
【解決手段】 ビフェニルテトラカルボン酸成分を有するポリイミドフィルムの表面を過マンガン酸カリウムおよび/または過マンガン酸ナトリウムと水酸化カリウムおよび/または水酸化ナトリウムとを含む溶液で処理した後、酸処理することによって金属との接着力を改善する表面処理方法。 (もっと読む)


61 - 80 / 217