説明

Fターム[5E343DD56]の内容

Fターム[5E343DD56]に分類される特許

81 - 100 / 300


【課題】ソルダーバンプと配線パターンの整合度を向上させ、ソルダーバンプに別途のコイニング工程が不要なソルダーバンプを持つプリント基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁層120;前記絶縁層120の表面と同一の高さを持つように埋め込まれたソルダーバンプ116;前記ソルダーバンプ116の下面に形成された配線パターン118;及び前記配線パターン118に連結され、前記絶縁層120と同一の高さを持つように埋め込まれた回路層108aを含む。 (もっと読む)


【課題】Siを含有してなるセラミックス基板と金属部材とを接合させた際に充分な接合強度が得られ、熱サイクル時における接合信頼性が高められるセラミックス基板の製造方法及びパワーモジュール用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】Siを含有するセラミックス母材を焼結する工程S10と、前記セラミックス母材の表面にフッ化物イオンを含むガスを用いてドライエッチングを施す表面処理工程S20と、前記セラミックス母材の表面の酸化シリコン及びシリコンの複合酸化物の濃度を電子プローブマイクロアナライザを用いた表面測定で2.7Atom%以下とする工程S30と、を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】電気素子の端子電極と配線基板の配線回路層やビアホール導体と、ビアホールを加工することなく電気的接続を改善できる電気素子内蔵配線基板の製法を提供する。
【解決手段】前記複数の絶縁層1、3、5のうち、少なくとも1層の前記絶縁層5が導電性粒子19を含有し、前記電気素子17が前記導電性粒子19による凝縮部21を介して前記配線基板A側のビアホール導体11および/または配線回路層8、9、13、15と電気的に接続してなる。 (もっと読む)


【課題】異なる幅の転写パターンが混在する場合であっても、ブランケットにインクパターンを正確に転写できるようにすること。
【解決手段】、形成するパターンの位置に凹部31a、31bが設けられた版3であって、第1の幅を有する凹部31aと当該第1の幅より広い第2の幅を有する凹部31bとで、凹部31aより凹部31bの方が深く設けられたものを用い、この版3とブランケット1とを互いに向かい合わせ、これらを加圧接触させることにより、版3の凹部31a、31bに対応する部分のインク2のみをブランケット1側に残して転写させる第1転写工程と、第1転写工程後のブランケット1と、パターンを形成する基板4とを互いに向かい合わせるとともに、これらを加圧接触させることにより、ブランケット1上に残っているインク2を基板4上に転写させる第2転写工程とを有する転写パターン形成方法である。 (もっと読む)


【課題】微細パターンを破壊せずに被転写材料と母型との剥離を容易に行うことができ、母型の転写パターンが被転写材料に良好に転写され、しかも繰り返しの転写において母型の耐久性を長期間にわたって維持して転写構造体を製造する方法およびそれに用いる母型を提供する。
【解決手段】表面に転写パターンが形成された母型の表面に下記(I)で表されるシランカップリング剤の膜を形成し、被転写材料を付与して母型の表面のパターンを転写させ、被転写材料を母型から剥離させて被転写材料からなる転写構造体を得る。式(I)中、nは8、10、12、又は14の整数を示し、mは3又は4の整数を示し、X、Y、Zは、それぞれ独立してメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、又はハロゲン原子を表す加水分解性基である。
(もっと読む)


【課題】転写によって樹脂層に回路を設けるにあたって、樹脂層の転写面が損傷するのを防止することができるプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】プリント配線板の製造方法に関する。金属材1の表面に転写用回路3を設ける。この金属材1の表面及び転写用回路3の全面に金属皮膜2を設けることによって転写用基材4を作製する。この転写用基材4を樹脂層5に貼り合わせて金属皮膜2を介して転写用回路3を樹脂層5に埋め込む。その後、金属材1を剥離すると共に、樹脂層5に埋め込まれていない金属皮膜2をエッチングにより除去する。 (もっと読む)


【課題】転写によって樹脂層に回路を設けるにあたって、樹脂層の転写面が損傷するのを防止することができるプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】プリント配線板の製造方法に関する。金属材1の表面に金属皮膜2を設ける。この金属皮膜2の表面に転写用回路3を設けることによって転写用基材4を作製する。この転写用基材4を樹脂層5に貼り合わせて転写用回路3を樹脂層5に埋め込む。その後、金属材1を剥離する。金属皮膜2をエッチングにより除去する。 (もっと読む)


【課題】転写によって樹脂層に回路を設けるにあたって、樹脂層の転写面が損傷するのを防止することができるプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】プリント配線板の製造方法に関する。金属材1の表面に金属皮膜2を設ける。金属材1の表面を露出させずに金属皮膜2の所定箇所を厚み方向に除去して薄膜部6を形成し、この薄膜部6以外の部分で転写用回路3を形成することによって転写用基材4を作製する。この転写用基材4を樹脂層5に貼り合わせて転写用回路3を樹脂層5に埋め込む。その後、金属材1を剥離する。薄膜部6をエッチングにより除去する。 (もっと読む)


【課題】直線性に優れた金属パターンを形成する方法、およびその方法に使用することができる転写フィルムを提供すること。
【解決手段】支持フィルム上に、(A)レジスト層、(B)圧延により形成された金属箔、および(C)粘着層がこの順に積層されてなり、前記レジスト層(A)の形成時の流れ方向が、前記金属箔(B)の圧延方向と略平行であることを特徴とする金属パターン形成用転写フィルム。 (もっと読む)


【課題】 単純な構成であるにもかかわらず、また単純な手法であるにもかかわらず、容易に極薄な金属箔を得ることができる、支持体付き金属箔及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 基材でありかつ支持体となる高分子樹脂フィルムの表面に、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、珪素又はチタンの酸化物の何れか1つ又は複数による剥離層と、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、又はチタンの何れか又は複数による導電性を有する金属による金属層と、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、又はチタンの何れか又は複数による金属メッキ層と、をこの順に積層してなる支持体付き金属箔とした。 (もっと読む)


【課題】パターンの粗密や押圧条件、塗布インキの溶液特性によらず、高精細かつ平坦性に優れた画像パターンを形成することが可能な画像パターン形成方法を提供する。
【解決手段】画像パターン形成方法は、転写ブランケット1の主表面1aにインキ材料を塗布するインキ塗布工程と、前記インキ塗布工程を経た前記主表面1aを、インキ親液部5とインキ撥液部4とが所望のパターンで互いに区分された印刷版3に密着させることによって、前記主表面1aに塗布された前記インキ材料のうち前記インキ親液部5に対応する領域に塗布されていたものを前記印刷版3に転写させる部分的インキ除去工程と、前記部分的インキ除去工程を経た前記主表面1aを被印刷基材に密着させることによって、前記主表面1a上に残存している前記インキ材料を前記被印刷基材の表面に転写するインキ転写工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】一つの基板に信号系配線とパワー系配線とを併設すると共に細線化、小型化が可能な配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】転写用基材1の一面にパターン状の金属膜2を形成した後、この金属膜2表面の所定位置に金属個片3を接合する。次いで前記転写用基材1の前記金属膜2及び金属個片3を設けた面に仮保持層13を前記金属膜2及び金属個片3が埋設されるように積層して形成する。次いで転写用基材1を剥離し、前記仮保持層13の金属膜2が露出する面に絶縁層4を積層して形成した後、仮保持層13を除去することにより、絶縁層4の同一面側に、金属膜2にて構成される薄肉導体配線7と、互いに接合された金属膜2及び金属個片3にて構成され前記薄肉導体配線7よりも厚みの厚い厚肉導体配線6とを形成する。 (もっと読む)


【課題】プリント配線板の製造方法において、狭ピッチの配線回路をサブトラクティブ法で形成することである。
【解決手段】プリント配線板10の製造方法は、第1基材と第1導体層とを有する第1積層板の第1導体層をエッチングして、配線回路16の配線ピッチより大きい配線ピッチで第1予備配線回路を形成し、第1予備配線回路に熱可塑性絶縁樹脂を被覆した後、第1基材を除去して第1予備配線回路材を成形し、第2基材と第2導体層とを有する第2積層板の第2導体層をエッチングして、配線回路16の配線ピッチより大きい配線ピッチで第2予備配線回路を形成して第2予備配線回路材を成形し、第1予備配線回路面と第2予備配線回路面とを対向させて配置し、第1予備配線回路を第2基材に転写するとともに第2予備配線回路を加熱軟化した熱可塑性絶縁樹脂に埋め込んで配線回路材を成形し、配線回路材から第2基材を除去し保護層18を形成する。 (もっと読む)


【課題】部品実装のランド等の導電層を作成する際のレジスト剥離工程を少なくして、部品実装基板を少ない工程数で安価に製造する。
【解決手段】第1の工程により、基板体2上の第1のめっきレジスト層7の開口部6にはんだ濡れ性の悪い金属からなる第1の導電層3をめっき形成し、第2の工程により、第1のめっきレジスト層7および第1の導電層3の上層として第1の導電層3上に開口部9を有する第2のめっきレジスト層8を形成し、開口部9に第1の導電層3よりもはんだ濡れ性に優れた金属からなる第2の導電層4aをめっき形成し、第2の導電層4aの形成後、第3の工程により、第1、第2のめっきレジスト層7、8を一括して除去し、その後、第4の工程により、第2の導電層4a上に回路部品5を実装し、レジストの剥離を第3の工程の1回だけ行って、部品実装基板1aを製造する。 (もっと読む)


【課題】 鋳型のパターン形状が精密に転写されており、かつ、導体層と樹脂層との密着性に優れた回路配線基板を効率良く製造する。
【解決手段】 凹凸パターンを有する鋳型に、金属イオン含有ポリアミド酸溶液を塗布し、乾燥させてポリアミド酸層を形成した後、これを鋳型から剥離して凹凸面を有するポリアミド酸フィルムとする。このポリアミド酸フィルム中の金属イオンを還元して凹凸面の表面に金属析出層を形成させる。この金属析出層の上に、無電解めっきおよび/又は電気めっきを施して導体層を形成した後、ポリアミド酸フィルムが部分的に露出するまで導体層および金属析出層を削り、パターン化導体層を形成する。ポリアミド酸フィルムのポリアミド酸は熱処理によってイミド化してポリイミド樹脂層とする。 (もっと読む)


【課題】 鋳型のパターン形状が精密に転写されており、かつ、導体層と樹脂層との密着性に優れた回路配線基板を効率良く製造する。
【解決手段】 凹凸パターンを有する鋳型に、ポリアミド酸溶液を塗布し、乾燥させてポリアミド酸層を形成した後、これを鋳型から剥離して凹凸面を有するポリアミド酸フィルムとする。このポリアミド酸フィルムに金属イオンを含浸させた後、金属イオンを還元して凹凸面の表面に金属析出層を形成させる。この金属析出層の上に、無電解めっきおよび/又は電気めっきを施して導体層を形成した後、ポリアミド酸フィルムが部分的に露出するまで導体層および金属析出層を削り、パターン化導体層を形成する。ポリアミド酸フィルムのポリアミド酸は熱処理によってイミド化してポリイミド樹脂層とする。 (もっと読む)


【課題】基材に導電体の配線パターンを一連の処理で高効率に形成し、且つ、高導電率で高精度の配線パターンを確実に形成するパターン形成装置等を提供する。
【解決手段】基材に導電体の配線パターンを形成するパターン形成装置1において、窒素ドープしたDLCの表面に電極13を対向して配設し、当該電極13を正電位として当該DLC薄膜との間に放電が生じる電位差未満の電位差による電界を印加する電圧印加部11と、電界が印加された状態で、前記電極13を前記DLC薄膜との間で所定の距離を保って走査させて当該DLC薄膜の表面に潜像を形成する移動制御部12と、潜像が形成されたDLC薄膜を含む潜像対象物2を銅イオンが含まれるめっき液6に浸漬する浸漬部21と、浸漬後に潜像が形成された面に、転写基材7を接着させて導電体を転写する転写部30とを備える。 (もっと読む)


【課題】貫通孔を生産性良く形成するとともに、貫通孔へのめっき形成を安定化できる回路部品内蔵基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】配線基板101と、前記配線基板101上に形成された第1の絶縁樹脂102と、前記第1の絶縁樹脂102内に埋設された形状の異なる複数の回路部品103、104と、前記第1の絶縁樹脂102上に形成された配線を備え、前記複数の回路部品は前記絶縁樹脂表面より略等しい位置に部品表面がそろえられ、前記絶縁樹脂に形成されたビアによって前記配線に電気的に接続されている。 (もっと読む)


【課題】インクジェット法を用いた吐出時における液滴の広がりを抑制する配線基板を提供する。
【解決手段】複数層の配線基板であって、導電性ナノ粒子を主たる材料として含み、いずれか1つの層の可溶性の多孔膜部材6´に形成されたインクジェット配線パターン7と、導電性ナノ粒子を主たる材料として含まない転写配線パターン4とを備え、複数層のうちの1層は、電気絶縁性の基材2であり、複数層のうちの他の1層は、他の1層の領域の一部に多孔膜部材6´を含む多孔膜処理部材層6であり、インクジェット配線パターン7は多孔膜処理部材層6に形成され、転写配線パターン4は、基材2に形成されている、配線基板である。 (もっと読む)


【課題】ビアを形成するためのホール加工を容易に行うことができ、高い設計自由度を得ることができる印刷回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による層間導通のためのビアを含む印刷回路基板の製造方法は、キャリアの一面に回路パターンを形成する工程と、キャリアの一面にビアに対応する穴を加工する工程と、キャリアの一面を絶縁体の一面に圧着する工程と、キャリアを除去する工程と、穴の位置に対応して絶縁体にビアホールを加工する工程と、ビアホールの内部に導電性物質を形成する工程と、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


81 - 100 / 300