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Fターム[5E346DD33]の内容

多層プリント配線板の製造 (97,916) | 各層形成の方法 (10,210) | 配線パターン形成の方法 (3,161) | アディティブ法型 (696)

Fターム[5E346DD33]に分類される特許

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【課題】本発明は、電気的信頼性を向上させる要求に応え配線基板の製造方法及びその実装構造体の製造方法を提供するものである。
【解決手段】本発明の一形態にかかる配線基板の製造方法は、ポリイミド樹脂を含む第1樹脂層10aの一主面を金属層12で被覆する工程と、金属層12上に部分的に複数の導電層11を形成する工程と、アルカリ性の水溶液を用いて、導電層11の表面を粗化する工程と、導電層11の露出した表面を粗化する工程の後、第1樹脂層10aの一主面を露出させるために、平面視にて導電層11同士の間に配された前記金属層12の一部をエッチングする工程と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、電子部品との接続信頼性を向上させる要求に応える配線基板およびその実装構造体を提供するものである。
【解決手段】
本発明の一形態にかかる配線基板3は、基体11と、該基体11の上面側のみに積層された複数の絶縁層14と、基体11の下面に部分的に形成された第1接続パッド7aと、基体11と該基体11に隣接する絶縁層14との間に部分的に形成された第1導電層10aと、隣接した絶縁層14同士の間に部分的に形成された第2導電層10bと、最上層に位置する絶縁層14の上面に部分的に形成された第2接続パッド7bと、を備え、基体11および絶縁層14の平面方向の熱膨張率は、第1接続パッド7a、第1導電層10a、第2導電層10bおよび第2接続パッド7bの平面方向の熱膨張率よりも小さく、絶縁層14の平面方向の熱膨張率は、基体11の平面方向の熱膨張率よりも小さい。 (もっと読む)


【課題】 半田バンプをファインピッチに配置することができるプリント配線板を提供する。
【解決手段】 半田パッド158L1の周囲にリング状のダミーパターン158L2が設けられているので、プリント配線板を搭載する器機が落下等により衝撃を受けた際に、プリント配線板の表面上を振動が伝わるが、振動の伝達をダミーパターン158L2が食い止め、内側の半田パッド158L1へ伝わるのを防ぐ。このため、接続信頼性を高めることができる。また、半田パッド上の半田バンプがダミーパターンの外側まで延在することが無く、半田量の多い高さの有る半田パッドをファインピッチに設けても、半田バンプが他の半田バンプと短絡することが無い。 (もっと読む)


【課題】電気検査用のプローブを半導体素子接続パッドに良好に接触させることが可能であるとともに、半導体素子の電極と半導体素子接続パッドとを良好に接続することが可能であり、かつ配線導体と保護用の樹脂層とが強固に密着し、両者間に剥がれが発生することが有効に防止された配線基板を提供すること。
【解決手段】絶縁基板1の上面に複数の半導体素子接続パッド6を含む配線導体3が埋入されているとともに絶縁基板1の上面および配線導体3上に半導体素子接続パッド6およびその周囲の絶縁基板1を露出させる樹脂層4が被着されて成る配線基板であって、配線導体3は樹脂層4の絶縁基板1側の面にセミアディティブ法により被着形成されたものであり、樹脂層4およびその下の絶縁層2の一部が半導体素子接続パッド6の上面より低い位置まで除去されて半導体素子接続パッド6およびその周囲の絶縁基板1が露出している。 (もっと読む)


【課題】配線回路基板において、コンタクト抵抗の上昇を抑制し、熱応力による断線を防止することのできるコンタクト構造を提供する。
【解決手段】 配線回路基板は、第1配線層(5)、第2配線層(7)、及び前記第1配線層と前記第2配線層を電気的に接続するコンタクト配線(6)を有する。前記コンタクト配線は、前記第1配線層のコンタクト面を被覆する第1被覆部(6a)と、前記第2配線層のコンタクト面を被覆する第2被覆部(6c)と、前記第1被覆部と前記第2被覆部の間に延びるプラグ部(6b)を有する。前記第1被覆部、前記プラグ部、及び前記第2被覆部は、同一の導電性材料で一体的に形成された内部に界面のないコンタクト配線である。 (もっと読む)


【課題】多層プリント基板の配線パターンを半導体装置の端子の位置によって制限されることなく高密度に設計することができる多層プリント基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】端部が自由端であるフレキシブル配線層14bを含む半導体パッケージ1が内蔵され、フレキシブル配線層14bがプリント基板の内層配線層24cと電気的に接続される多層プリント基板2を提供する。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、電気的信頼性を向上させる要求に応える配線基板を提供するものである。
【解決手段】
本発明の一形態にかかる配線基板4は、貫通孔P1が形成された樹脂層7aと、該貫通孔内P1に配された貫通導体8aと、樹脂層7aと貫通導体8aとの間に介された介在膜9Aとを備え、該介在膜9aは、樹脂層7aに当接した第1酸化チタン膜14aと、該第1酸化チタン膜14aよりも前記貫通導体8a側に配され、第1酸化チタン膜14aに当接したチタン膜15とを有する。 (もっと読む)


【課題】配線板の製造によって生じる廃棄物を減らし、地球環境にとって好ましい支持体金属箔付き複合金属層、これを用いた配線板とその製造方法、この配線板を用いた半導体パッケージの製造方法を提供する。
【解決手段】支持体金属箔である最下層金属層と2層以上の金属層とからなる複数の金属層が、隣合った金属層間に剥離層を介して積層されてなる支持体金属箔付き複合金属層であって、最下層金属層と最上層の金属層との間に位置する各金属層Aと、その上面の剥離層を介して隣接する金属層Bとの間の剥離強度が、金属層Aと、その下面の剥離層を介して隣接する金属層Cとの間の剥離強度よりも小さいことを特徴とする支持体金属箔付き複合金属層、これを用いた配線板とその製造方法、この配線板を用いた半導体パッケージの製造方法である。 (もっと読む)


【課題】製造工程の簡略化が可能であり、製造コストの削減か可能となると共に、連続生産にも対応可能なフレキシブル配線板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のフレキシブル配線板の製造方法は、アルカリ可溶性樹脂組成物を含む樹脂層11の一方の主面上に貫通孔形成部位を有する銅箔12を形成する導電層形成工程と、銅箔12を介してブラインドビア形成部位12a〜12cの樹脂層11を溶解除去して貫通孔15a〜15cを形成する貫通孔形成工程と、貫通孔15a〜15cが形成された樹脂層11の他方の主面上に銅箔16を設けてブラインドビア17a〜17cを形成するブラインドビア形成工程と、ブラインドビア17a〜17cに銅めっき18を施して銅箔12と銅箔16とを電気的に接続するめっき工程とを具備する。 (もっと読む)


【課題】微細な内層配線パターンであっても横倒れや剥がれが起こりにくく、樹脂絶縁層との間に十分な密着性が付与されている多層配線基板を提供すること。
【解決手段】本発明の多層配線基板K1は、複数の樹脂絶縁層16,17,30,31を積層してなり、基板主面32a及び基板裏面33aを有する基板本体20を備える。隣接する樹脂絶縁層16,17,30,31間には、基板本体20の面方向に沿って延びかつめっき層41,42からなる内層配線パターン28,29が挟まれるようにして配置されている。内層配線パターン28,29は、上面43及び底面44を有するとともに、上面43側にて接する樹脂絶縁層30,31及び底面45側にて接する樹脂絶縁層16,17の両方に対して埋まっている。 (もっと読む)


【課題】 表面電極とこの表面電極が設けられている誘電体基体との密着性が良好であると共に、電気的特性の優れたセラミック電子部品を提供すること、及び前記特性を有するセラミック電子部品を備えた配線基板を提供することを課題とする。
【解決手段】 この発明のセラミック電子部品における表面電極は内側層と前記内側層を被覆する外側層とを有し、前記内側層は誘電体基体の主成分と同じ成分を含むセラミック部を含み、誘電体基体上にある内側層におけるセラミック部の体積割合がビア導体上にあるセラミック部の体積割合よりも大きいことを特徴とする。この発明の配線基板は前記セラミック電子部品を内蔵して成る。 (もっと読む)


【課題】部品内蔵によっても配線板としての信頼性が低下しにくい部品内蔵配線板およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】端子を有する電気/電子部品と、電気/電子部品の表面の少なくとも一部に密着して該電気/電子部品の少なくとも一部分を埋め込んだ板状絶縁層と、この板状絶縁層の上面上に設けられた第1の配線パターンと、板状絶縁層の上面に対向する下面上に設けられた、電気/電子部品の実装用のランドを含む第2の配線パターンと、電気/電子部品の端子と第2の配線パターンのランドとを電気的、機械的に接続する、すずおよび金を含むはんだ接続部材と、を具備し、第2の配線パターンが、基層と、該基層上位置選択的に積層された、はんだ接続部材と該基層との間に挟まれて位置するニッケル金属層とを有する。 (もっと読む)


【課題】 表面配線を小さくしても表面配線と表面ビア導体とを確実に接続することができ、浮遊容量を小さくすることで、より高速な素子の検査や、高速の検査ができる高信頼性の配線基板を提供する。
【解決手段】 セラミックスから成る複数の絶縁層1aが積層された絶縁基体1と、絶縁基体1の下面に形成された外部電極2と、外部電極2に接続されて絶縁基体1の上面に導出された、ビア導体を含む内部配線3とを有し、内部配線3のうち最上層の絶縁層1aを貫通して上端面が絶縁基体1の上面に露出した表面ビア導体3aが上面視で配線基板4の中心からの放射線の方向に沿った形状である配線基板である。表面ビア導体3aが位置ずれしても位置ずれ方向と反対方向に延在する部分が存在するので、表面配線5の大きさを小さくしても表面ビア導体3aと確実に接続でき、表面配線5の浮遊容量を低下させることができる配線基板となる。 (もっと読む)


【課題】導体層と樹脂絶縁層とをそれぞれ少なくとも一層有する配線基板をいわゆるダマシン法を用いて製造するに際し、樹脂絶縁層に対して配線溝を形成し、この配線溝内に導体層を配線層として形成する際に、配線溝の加工形状及び加工深さのばらつきを抑制し、配線溝内に形成する配線層の形状及び厚さの変動を抑制して、設計値通りのインピーダンスを有する配線層を得、配線基板の製造歩留まりを抑制する。
【解決手段】導体層と樹脂絶縁層とをそれぞれ少なくとも一層有する配線基板において、 前記樹脂絶縁層に対し、レーザを面照射することにより、前記樹脂絶縁層に前記配線溝を形成する。次いで、前記配線溝に少なくとも一部が埋設するようにして前記導体層を形成し、前記配線溝内に配線を形成する。 (もっと読む)


【課題】配線基板における樹脂材との密着性を向上することができる配線基板内蔵用コンデンサを提供すること。
【解決手段】セラミックコンデンサ101のコンデンサ本体104における側面106a〜106dには、セラミック誘電体層105を構成するセラミックが露出するとともに、コンデンサ本体104の厚さ方向に延びる凹部107が複数形成されている。コンデンサ本体104の側面106aにおける複数の凹部107は、厚さ方向に沿った長さがコンデンサ本体104の厚さよりも小さく、側面側から見たときの基端部107aの幅が先端部107bの幅よりも大きい。凹部107の先端部107bは、側面側から見て丸みを帯びた形状を有している。 (もっと読む)


【課題】効率の良い新規なプリント配線板の製造方法を提供すること
【解決手段】このプリント配線板(図3A)の製造方法は、2組の支持板を用意するステップ(図4A)と、前記2組の支持板を張り合わせるステップ(図4B)と、前記貼り合わせた支持板の両面にランドを夫々形成するステップ(図4E)と、前記支持板の両面に、第1の樹脂層を夫々形成し、ビアホール用の穴を開口してビアホールを形成するステップ(図4G)と、前記貼り合わせた支持板を分離するステップ(図4N)とを含んでいる。 (もっと読む)


【課題】半導体素子を搭載する配線基板において、コア用の絶縁板に形成されたスルーホール直上にビルドアップ用のビアホール形成ができ、コア用の配線導体においてもその幅や間隔を20μm以下とした高密度な微細配線を有し、かつ厚みが140μm以下のコア用の絶縁板を使用可能な薄型の配線基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】スルーホール7を有するコア用の絶縁板1のスルーホール7内壁のみにスルーホール7と同軸の貫通孔を有するように第1のめっき導体層13を被着させ、次に貫通孔内および絶縁板1の上下面に、貫通孔内を充填するとともにコア用の絶縁板1の上下面において配線導体4を形成する第2のめっき導体層14を被着する。 (もっと読む)


【課題】 実装する複数のICチップ間を短い配線長で接続できるプリント配線板を提供する。
【解決手段】 CPU901の信号用パッド901b、メモリ902の信号用パッド902bを一辺側に配置し、それら信号パッドを配置した辺側を対向させた状態でビルドアップ多層配線板11に実装させ、耐熱基板80の信号線83を介してCPUの信号用パッド901bとメモリの信号用パッド902bとを接続する。耐熱基板80の短い信号線43によりCPU−メモリ間を接続することで、CPU−メモリ間で大容量、高速伝送を可能にできる。 (もっと読む)


【課題】各種電子機器に採用することが可能な可撓性を確保しつつ、電子部品からの配線とパッド電極との接続を確実に行うことができるフレキシブル基板及び、該フレキシブル基板を備える回路モジュールを提供する。
【解決手段】フレキシブル基板2は、可撓性を有する基材21と、基材21の表面に設けられ、電子部品3からのワイヤ(配線)32に振動を加えて接続するパッド電極23と、基材21に埋め込まれ、パッド電極23と接合するビア(第1ビア)25とを備える。ビア(第1ビア)25は、基材21に比べて剛性の高い材料で形成してある。 (もっと読む)


【課題】接続端子の密着強度を十分に高めることができ、信頼性の高い多層配線基板を提供する。
【解決手段】多層配線基板10の配線積層部30において、上面31側には複数の開口部35,36を有するソルダーレジスト25が配設され、ソルダーレジスト25に接している最外層の樹脂絶縁層23にICチップ接続端子41及びコンデンサ接続端子42が埋設されている。ICチップ接続端子41及びコンデンサ接続端子42は、主体をなす銅層44と銅以外の2種の金属からなるめっき層46とにより構成される。銅層44の主面側外周部はソルダーレジスト25により覆われ、銅層44の主面側中央部に存在する凹所にはめっき層46が埋まり込むようにして設けられる。めっき層46の金めっき層46bが複数の開口部35,36を介して露出している。 (もっと読む)


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