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Fターム[5E346GG06]の内容

Fターム[5E346GG06]に分類される特許

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【課題】クラック、断線、短絡等の発生が防止された、信頼性の高い導体パターンを備えた信頼性の高い配線基板を提供すること、また、前記配線基板の製造に好適に用いることのできるセラミックス成形体を提供すること。
【解決手段】本発明のセラミックス成形体は、金属粒子を含む導体パターン形成用インクが付与された後に焼結され、配線基板の製造に用いられるものであって、セラミックス材料とバインダーとを含む材料で構成され、少なくとも表面付近の一部に分散性低下剤を含むことを特徴とする。前記分散性低下剤は、乳酸のアルキルエステル、1,3−プロパンジオール、1,2−プロパンジオールおよびエチレンジアミン四酢酸(EDTA)よりなる群から選択される少なくとも1種であるのが好ましい。 (もっと読む)


【課題】導通不良の発生が防止された信頼性の高い配線基板を効率よく製造することが可能な配線基板の製造方法を提供すること、および、信頼性の高い配線基板を提供すること。
【解決手段】セラミックス材料とバインダーとを含む材料で構成されたセラミックス成形体15を用意するセラミックス成形体用意工程と、セラミックス成形体15上に、金属粒子と分散媒とを含む導体パターン形成用インク1を液滴吐出法により吐出して、導体パターン前駆体10を形成する導体パターン前駆体形成工程と、導体パターン前駆体10上に、分子内に硫黄原子を有する化合物を含有した硫黄含有インク2を付与する硫黄含有インク付与工程と、複数のセラミックス成形体15を積層して積層体17を得る積層工程と、積層体17を焼結して、導体パターンおよびセラミックス基板とを有する配線基板を得る焼成工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】クラック、断線、短絡等の発生が防止された、信頼性の高い導体パターンを備えた信頼性の高い配線基板を効率よく製造することのできる製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の配線基板の製造方法は、セラミックス材料とバインダーとを含む材料で構成されたセラミックス成形体を用意する工程と、セラミックス成形体に、金属粒子と前記金属粒子が分散する分散媒とを含む導体パターン形成用インクを液滴吐出法により吐出して、導体パターン前駆体を形成する工程と、少なくとも、セラミックス成形体の導体パターン形成用インクが付与された部位に、導体パターン形成用インク中における金属粒子の分散性を低下させる分散性低下剤を含む組成物を付与する工程と、複数のセラミックス成形体を積層して積層体を得る工程と、積層体を焼結して、導体パターンおよびセラミックス基板とを有する配線基板を得る工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】
樹脂基板上に導電性ペーストを用いた配線が形成される配線基板においては、導電性ペーストを焼結させる時の熱が樹脂基板に伝熱されてしまい、樹脂基板に耐熱温度の低い材料を使用できない。さらに、焼結時の長時間の加熱により、樹脂基板の反りや機械的特性の劣化などの不具合がある。
また、樹脂基板の反りや機械的特性の劣化を防ぐために、低温で焼結を行うと、導電性ペーストの焼結が不完全で、焼結後の配線において導通の抵抗が高くなる不具合もある。
【解決手段】
配線と樹脂基板の間に、酸化物セラミックスからなる層を設ける。 (もっと読む)


異種金属組成物間の電気的接続における界面の影響を最小限にするために、遷移ビアおよび遷移配線導体を形成するための組成物が、開示される。この組成物は、(a)(i)20〜45重量%の金および80〜55重量%の銀と、(ii)100重量%の銀−金の固溶体合金とからなる群から選択される無機成分、および(b)有機媒体を含む。この組成物は、(c)組成物の重量に対して1〜5重量%の、Cu、Co、MgおよびAlからなる群から選択される金属の酸化物または混合酸化物、および/または、主として高融点酸化物を含む高粘度ガラスをさらに含む。この組成物は、ビア充填での多層膜組成物として使用され得る。遷移ビアおよび遷移配線導体を形成するために、この組成物を使用して、LTCCの回路およびデバイスなどの多層膜回路がさらに形成され得る。
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【課題】 貫通導体パターンがセラミックスラリーを塗布する際に倒れるのを抑制し、ホットメルト組成物を含む貫通導体パターンが溶融によって変形するのを抑制する配線基板の製造方法および配線基板を提供する。
【解決手段】 本発明の配線基板の製造方法は、支持フィルム1の上に導体粉末およびホットメルト組成物を含む導体ペーストによる貫通導体パターン2を形成し、支持フィルム1を覆うように第1のセラミック粉末およびホットメルト組成物の溶融温度よりも低い温度で硬化する熱硬化性樹脂を含む第1のセラミックスラリーによる被膜3を形成し、熱硬化性樹脂を硬化させ、第1のセラミック粉末と同一組成であり第1のセラミック粉末よりも平均粒径の大きい第2のセラミック粉末および有機バインダを含む第2のセラミックスラリーを、第1のセラミックスラリーによる被膜3の上面を覆い、かつ部分的に厚みを異ならせて平坦な上面が形成されるように塗布する。 (もっと読む)


【課題】本発明は印刷回路基板製造装置を提供する。
【解決手段】印刷回路基板製造装置は、シートタイプの基板10を供給する供給機110と、該供給機110から供給された該基板10上に予備バンプを印刷して形成する第1の印刷機120と、該第1の印刷機120の一側に配設され、該予備バンプを仮乾燥する仮乾燥機130と、該仮乾燥機130の一側に該第1の印刷機120と直列に配設され、該予備バンプ上にペーストを印刷する第2の印刷機140と、該第2の印刷機140の一側に配設され、該予備バンプを乾燥及び硬化してバンプ11を形成する乾燥機160、170と、該乾燥機160、170の一側に配設され、該バンプ11をプリプレグに貫通させて該プリプレグと該基板10とを合着する貫通機180とを含む。 (もっと読む)


【課題】クラック、断線、短絡等の発生が防止された、信頼性の高い導体パターンを備えた信頼性の高い配線基板を提供すること、前記配線基板を効率よく製造することのできる製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の配線基板の製造方法は、セラミックス材料とバインダーとを含む材料で構成されたセラミックス成形体を用意するセラミックス成形体用意工程と、セラミックス成形体上に、金属粒子と分散媒とを含む導体パターン形成用インクを液滴吐出法により吐出して、導体パターン前駆体を形成する導体パターン前駆体形成工程と、導体パターン前駆体上に、多価アルコールを含む多価アルコール含有インクを付与する多価アルコール含有インク付与工程と、複数のセラミックス成形体を積層して積層体を得る積層工程と、積層体を焼結して、導体パターンおよびセラミックス基板とを有する配線基板を得る焼成工程とを有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】素子搭載部材ウエハの収縮の影響を抑えた生産性のよい素子搭載部材ウエハの製造方法を提供する。
【解決手段】複数の素子搭載部材となる部分が設けられる素子搭載部材ウエハを焼結させる焼結工程と、レーザーを用いて焼結された素子搭載部材ウエハのそれぞれの素子搭載部材となる部分に貫通孔を設ける貫通孔形成工程と、焼結された素子搭載部材ウエハのそれぞれの素子搭載部材となる部分に設けられている貫通孔に導電材料を埋め込む埋め込み工程と、焼結された素子搭載部材ウエハのそれぞれの素子搭載部材となる部分に配線パターンを設ける配線パターン形成工程と、電解めっきを用いて焼結された素子搭載部材ウエハのそれぞれの素子搭載部材となる部分に設けられている配線パターンにめっき金属膜を設けるめっき工程からなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 絶縁樹脂層とセラミック配線基板との間に熱応力発生したとしても、配線が破断してしまう可能性がより低減された高信頼性の配線基板を提供すること。
【解決手段】 セラミック配線基板1の上面に複数の絶縁樹脂層2と複数の配線層3とが交互に積層され、絶縁樹脂層2の上下に位置する配線層3・3間がビア導体4で接続され、最下層の絶縁樹脂層2に形成された複数のビア導体4と、セラミック配線基板1の内部から上面に引き出された複数の内部配線5の端部とが電気的に接続されており、ビア導体4と内部配線5の端部との接続部の周囲が絶縁樹脂層2の絶縁樹脂よりもヤング率の大きい固定材料9で覆われている配線基板。比較的接続強度の弱いビア導体4と内部配線5の端部との接続部は、周囲が固定材料9によって固定されて変形し難いので、接続部で破断してしまう可能性が低減された高信頼性の配線基板となる。 (もっと読む)


【課題】平滑で配線幅の整った良好な配線が形成可能な平滑かつ均一な表面性状を有する絶縁層と、該絶縁層上に形成された配線(配線層)からなる複合層、前記複合層を用いた回路基板、半導体パッケージを提供する。
【解決手段】基板上に印刷法により形成した硬化性絶縁樹脂(絶縁層)上に、Cu、Ag、Au、Al、Ni、Co、Pd、Sn、Pb、In、Gaの内少なくともひとつ以上の元素を含む配線(配線層)を印刷法により形成した、絶縁層と配線層の複合層。 (もっと読む)


【課題】電子モジュールの基板上にESD保護部品を実装することにより、電子モジュールの当初の特性がずれ、ESD保護効果が薄れてしまうという問題を解消する。
【解決手段】電子部品内蔵基板1は内部に少なくとも1つの電子部品素子を内蔵した電子部品内蔵基板1の内部に、更にESD保護素子を設け、そのESD保護素子2を、少なくとも、その電子部品内蔵基板の内部に形成された空洞部と、空洞部内において対向して形成された一対の放電電極とで構成し、かつ、ESD保護素子2を、電子部品素子と一体的に形成するようにした。 (もっと読む)


【課題】セラミック多層基板のまま部品実装ができるようにし、生産性の向上ができるセラミック多層基板装置とその製造方法を提供する。
【解決手段】層間接続用導体1と内層導体2をもつグリーンシート積層体9から複数の子基板グリーンシート10をくり抜き、その後、くり抜いた前記子基板グリーンシート10を元の位置にはめ込む子基板グリーンシート再設置工程と、前記子基板グリーンシート10を元の位置にはめ込んだ前記グリーンシート積層体9の表裏面に分割形成層21となる分割形成層用グリーンシート15を介して、無収縮層16を配置した後、焼成して無収縮層付セラミック多層基板17を形成する焼成工程と、前記無収縮層付セラミック多層基板17から無収縮層16を取り除く無収縮層除去工程とを有し、セラミック多層基板装置22の電極19をセラミック多層基板18の上下面に形成した。 (もっと読む)


【課題】構成を簡素化でき、製造工程を簡略化できるとともに、耐屈曲性や耐屈折性に優れ、かつ薄型化が容易な多層フレキシブル配線板を提供すること。
【解決手段】本発明の多層フレキシブル配線板は、絶縁基板14と、絶縁基板14の両面に設けられた一対の導電層15、16と、一対の導電層15、16上にそれぞれ設けられた一対の絶縁層17、19と、一対の絶縁層17、19上にそれぞれ設けられ、めっき及び/又は導電ペーストにより、一対の導電層とカバーレイを介さずに電気的に接続された少なくとも1層の外層回路L3(18)、L4(20)と、を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】電極パターンの位置精度を向上することができるセラミック基板の製造方法を提供する。
【解決手段】
本発明に係るセラミック基板の製造方法は、あらかじめ先行セラミック基板を作製し、先行セラミック基板を作製する工程までの先行セラミック基板と先行電極パターンの変形度を把握しておく。そして、セラミックグリーンシートに、先行セラミック基板と先行電極パターンの変形度から計算した電極パターンを形成することで、電極パターンの位置精度を向上することができる。 (もっと読む)


【課題】グリーンシートの印刷・積層プロセスにおけるグリーンシートの配置ミスを防止し、併せて積層精度を向上させる方法を提供する。
【解決手段】印刷に先立ち、グリーンシートに印刷および積層における配置指標として、グリーンシートの印刷範囲外に、第1と第2の基準穴H1、H2を第3の基準穴H3を設け、印刷装置のステージに、グリーンシートが正しく固定された状態で第3の基準穴と連通する検知用吸引孔を設けるとともに、印刷装置に、吸引孔の空気を吸引する吸引手段と、吸引孔における圧力状態を検知するセンサとを設け、センサが負圧を検知したときにステージに被印刷物が正しく配置されていないと判定するようにする。 (もっと読む)


【課題】 デラミネーションが発生するのを抑制するとともに、導体ペーストによる配線パターンを印刷にじみ無く印刷できるとともに剥離性に優れた配線パターン付きセラミックグリーンシートを形成するための支持フィルムおよびこれを用いた配線基板の製造方法、ならびに配線基板を提供する。
【解決手段】 本発明の支持フィルム1は、支持フィルム本体11の上面に、離型剤層12を介して、熱可塑性樹脂および無機フィラーを含有し、離型剤層12によって吸収されない溶剤を吸収する溶剤吸収層13が形成されており、溶剤吸収層13の上面に配線パターン付きセラミックグリーンシートが形成されることを特徴とするものである。 (もっと読む)


【課題】導電性ペースト等を用いた層間接続手段における積層精度が向上し、高密度で品質の優れた回路基板を提供するものである。
【解決手段】回路基板の製造過程において、剥離きっかけ部の形成を貫通孔加工から導電性ペースト充填工程までの間に行うことにより、剥離きっかけ部形成時のプリプレグシートの破壊を防止するとともにプリプレグシートの寸法ばらつきを改善することができる。これにより、導電性ペーストによる層間接続手段による電気的接続が安定した、高品質の回路基板を提供できるものである。 (もっと読む)


【課題】コストダウンが図れるセラミックス回路基板座標変換方法及びセラミックス回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】セラミックス回路基板座標変換方法は、セラミックス回路基板パターンの座標値を求める工程(ステップS10)と、基板パターンの座標値と座標値の設計値をベースとする基板上のパターンの座標値とから、基板パターンの座標値を、設計値をベースとする基板上の座標系による座標値で表現するときの座標変換パラメーターを算出する工程(ステップS20)と、座標変換パラメーターを用いて、基板パターンの座標値を、設計値をベースとする基板上の座標系による座標値に座標変換する工程(ステップS30)と、設計値をベースとする基板上のパターンの座標値と基板パターンの変換した座標値との偏差を算出する工程(ステップS40)と、を有する。 (もっと読む)


【課題】多層セラミック基板において、最外郭の絶縁シートに形成されたビアコンタクトが外部に突出するのを抑制する。
【解決手段】本発明の多層セラミック基板100は、第1のビアコンタクト124を有する第1の絶縁シート120と、第1のビアコンタクト124と上下に整列されて接合された第2のビアコンタクト134を有する第2の絶縁シート130とを含み、第1のビアコンタクト124と第2のビアコンタクト134とは、焼成時に互いに異なる収縮率を有する導電性ペーストによって形成されている。第2のビアコンタクト134は、第1のビアコンタクト124に比べて収縮率が高く、焼成後、第1のビアコンタクト124は、第2のビアコンタクト134の内部に拡がった形状を有している。 (もっと読む)


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