説明

Fターム[5E346GG17]の内容

多層プリント配線板の製造 (97,916) | 製造・加工・処理手段 (12,987) | 製造工程・製造装置 (12,564) | メッキ工程 (1,540)

Fターム[5E346GG17]に分類される特許

201 - 220 / 1,540


【課題】 ループインダクタンスを低減できると共に高い信頼性を有するプリント配線板を提供する。
【解決手段】 コンデンサ20を収容するコア基板30に樹脂絶縁層144,244と導体回路158,258とを積層してなるプリント配線板10であって、コア基板30は、コンデンサ20を収容する通孔11Aの形成された第1のコア基板11の上下に第2、第3のコア基板12U,13Dを積層してなり、第1、第2、第3のコア基板11,12U,13Dは、芯材に樹脂を含浸してなり、樹脂絶縁層144,244は、芯材を有しない樹脂材料からなり、第2、第3のコア基板12U、13Dの少なくとも一方に、コンデンサ20の電極21,22に接続するバイアホール60を形成し、バイアホール60とコンデンサ20の電極21,22との間に電気的接続を取る。 (もっと読む)


【課題】信号の反射損や挿入損が小さいとともに共振が発生しにくく、信号を正常に伝播させることが可能な配線基板を提供すること。
【解決手段】絶縁基板10の上面側を絶縁基板10の中央部から外周部にかけて互いに隣接して延在し、外周部において互いの間隔が広がる帯状配線導体のペア80a,80bと、帯状配線導体のペア80a,80bとビアホール21,22を介して電気的に接続されたスルーホール導体のペア43a,43bと、絶縁基板10の下面に被着されており、スルーホール導体のペア43a,43bにビアホール24,25を介して電気的に接続された外部接続パッドのペア60a,60bとを有する配線基板であって、スルーホール導体のペア43a,43bのピッチが外部接続パッドのペア60a,60bのピッチよりも狭い。 (もっと読む)


【課題】埋め込み部品具有配線板およびその製造方法において、生産効率を向上すること。
【解決手段】第1の板状絶縁層と、第1の板状絶縁層上に配置され、該第1の板状絶縁層に対向する第1の面と該第1の面とは反対の側の第2の面とを有し、該第2の面に、電気導通する部材が露出するように設けられている電気/電子部品と、第1の板状絶縁層に対して積層する位置に設けられた、電気/電子部品が存在する領域に対応して、該電気/電子部品から離間した縁の開口部を有する第2の板状絶縁層と、第1、第2の板状絶縁層の間を満たすように、かつ、第2の板状絶縁層の開口部の縁と電気/電子部品との間を満たすように、設けられた絶縁樹脂部と、第2の板状絶縁層の第1の板状絶縁層に対向する側とは反対側の面上に設けられた配線パターンと、配線パターンと電気/電子部品の第2の面の電気導通する部材とを電気的に接続する導電部材とを具備する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、補強層に設けた開口部に機能素子を内蔵する場合に、応力の局所的な集中を緩和し、かつ応力の発生を低減できる機能素子内蔵基板を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、電極端子を有する機能素子と、該機能素子が配置され、かつ該機能素子の角部と対向する部分が湾曲形状となっている開口部を有する補強層と、前記開口部に配置される前記機能素子と前記補強層との間に配置される充填樹脂と、前記充填樹脂に形成される応力緩和ビアと、前記機能素子の前記電極端子が配置されている面側に該電極端子と電気的に接続される第1の配線層と、を有することを特徴とする機能素子内蔵基板である。 (もっと読む)


【課題】回路基板の高密度化を阻害せずにクロストークを十分に抑制することができるクロストーク抑制回路基板を提供する。
【解決手段】本発明のクロストーク抑制回路基板2は、樹脂製の絶縁基板4と、絶縁基板4の一方の面に位置付けられたグランド層8と、絶縁基板4のグランド層8とは反対側の面に位置付けられた配線回路12とを備え、この配線回路12は、所定のパターンにて形成された信号線16と、信号線16の外表面を覆う磁性体からなる被覆材14と、信号線16及び被覆材14を埋設する樹脂製の保護絶縁層18とを含む。 (もっと読む)


【課題】 貫通孔の一部にメッキ加工を施す場合であっても、精度良くプリント配線基板を製造することが可能なプリント配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 まず、金属箔又はコア基板と、層間接続用のプリプレグとが積層されて成る第1の多層基板に導通孔を設ける。続いて、前記導通孔の内側の壁面にメッキ加工を施す。続いて、前記導通孔に樹脂を充填する。続いて、前記樹脂を充填した導通孔を塞ぐように蓋メッキ加工を施す。続いて、前記第1の多層基板の一方の表面に第2の多層基板を積層する。続いて、前記第1の多層基板から前記第2の多層基板まで貫通する貫通孔を、前記メッキ加工が施された部分が前記貫通孔を囲むように設ける。そして、前記導通孔に充填された樹脂を除去する。 (もっと読む)


【課題】Snメッキ層で被覆された金属パッドの半田濡れ性を向上させることが可能な配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の配線基板の製造方法においては、配線積層部のソルダーレジスト層に複数の開口部を形成して複数の金属パッドを露出させた状態の配線基板を準備し(ステップS10)、金属パッドの表面をSnメッキ層で被覆し(ステップS11:Snメッキ工程)、Snメッキ層で被覆された金属パッドを加熱し(ステップS13:リフロー工程)、加熱後のSnメッキ層の表面を、アミンを含むアルカリ洗浄液により洗浄する(ステップS15:アルカリ洗浄工程)。これにより、Snメッキ層の表面の不純物が除去されて半田濡れ性が向上し、金属パッドにおけるチップ立ち不良を防止することができる。 (もっと読む)


【課題】電子部品の導電部の元素がその周辺に設けた絶縁層へ拡散するのを抑制する。
【解決手段】第1絶縁層1上に導電部2を形成して、その導電部2上にバリアメタル層3を形成した後、そのバリアメタル層3上に、非共有電子対を有する官能基を少なくとも2つ備える化合物を含む化合物層4を形成し、その化合物層4上に第2絶縁層5を形成する。導電部2から拡散する元素が、たとえバリアメタル層3を通過しても、そのバリアメタル層3を通過した元素を化合物層4によって捕捉し、導電部2の元素が第2絶縁層5等へ拡散するのを抑制する。 (もっと読む)


【課題】擬似ウエハーの樹脂層にレーザ等でビアホールを形成することなく、簡単な工程で微細な貫通ビアを形成してチップの実装密度を高める半導体装置を提供する。
【解決手段】複数の半導体チップ20と、複数の突起を有する金属構造体とを支持基板11上の所定の箇所に配置し、前記複数の半導体チップ及び前記金属構造体25を樹脂で覆って固化し、前記固化した樹脂の一部及び前記金属構造体の一部を除去、平坦化して、前記金属構造体の前記突起25aを貫通ビアとして露出させ、前記半導体チップ及び前記貫通ビアが埋め込まれた樹脂層を前記支持基板から剥離し、前記剥離面に所定の配線パターンを形成して擬似ウエハーを完成する。 (もっと読む)


【課題】内部クッションを使用せずに低フローでかつボイドフリーの成形が可能な層間接着シートおよびそれを用いた多層フレキシブル配線板を提供する。
【解決手段】プリプレグ2の片側に接着剤層3を設けた層間接着シート1を用い、予め回路形成したフレキシブル内層回路板の両面に、該層間接着シート1の接着剤層3を回路に接するように内側にして重ね合わせ、さらに層間接着シート1の外側に銅箔を重ね合わせて加熱加圧により一体成形してなる多層フレキシブル配線板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】例えば幅および間隔が20μm以下の微細な半導体素子接続パッドを含む配線を形成することが可能であるとともに、外部接続パッドを外部電気回路基板に接続したときに大きな応力が加わったとしても外部接続パッドに剥がれが発生することのない配線基板を提供すること。
【解決手段】絶縁基板1の一方の主面に半導体素子接続パッド5を含む第1の配線導体3がセミアディティブ法により被着形成されているとともに絶縁基板1の他方の主面に外部接続パッド6を含む第2の配線導体3がセミアディティブ法により被着形成されて成る配線基板であって、第1の配線導体3は一方の主面の絶縁層2上に被着された無電解めっき層3aおよびその上の電解めっき層3bから成り、第2の配線導体3は、他方の主面の絶縁層2上に直接被着された金属箔3cおよびその無電解めっき層3aおよびその上の電解めっき層3bから成る。 (もっと読む)


【課題】全体としての放熱性を向上することができる多層回路基板を提供する。
【解決手段】多層回路基板(1) が、交互に積層された複数の絶縁層(21,22,23) 及び複数の導体層(11,12,13,14) を含む。前記導体層は、複数の導体パターン(111,112,113,114,115,116) を含む最上導体層(11)と、複数の導体パターン(141,142,143,144,145,146) を含む最下導体層(14)とを含む。最上導体層(11)の各導体パターンに、半導体素子(51,52,53,54,55,56) が実装される。最下導体層(14)の導体パターンは、複数の放熱パターン(141,142,143,144,145,146) を含む。各放熱パターンは、放熱ビア(61)を介して半導体素子に1対1で接続される。各放熱パターンの面積は対応する半導体素子の面積以上である。 (もっと読む)


【課題】対をなす信号線同士の距離を小さく設定したとしても、3つのモードの特性インピーダンスを、Zdiff=2ZoおよびZcomm=Zo/2の関係からのズレを最小限に抑制して設計することができる回路基板を提供すること。
【解決手段】本発明の回路基板1は、絶縁体層2と、この絶縁体層2の一方の面側に設けられ、第1の信号配線3aと第2の信号配線3bとで構成される信号配線対30と、絶縁体層2の他方の面側に設けられたグランド層6とを有し、第1の信号配線3aと第2の信号配線3bとの間にグランド配線7aが配設されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】反りを低減可能な配線基板を提供すること。
【解決手段】本配線基板は、複数の配線層と、同一組成の絶縁性樹脂から構成された複数の絶縁層とが交互に積層され、各絶縁層は、同一組成のフィラーを含有し、前記各絶縁層の前記フィラーの含有量は、何れも30vol%以上65vol%以下の範囲にあり、前記各絶縁層の熱膨張係数は、何れも12ppm/℃以上35ppm/℃以下の範囲にある。 (もっと読む)


【課題】耐熱性、寸法安定性、接着性に優れ、厚さ方向に微細な貫通孔を有し、前記貫通孔の壁面に金属層を積層した際、冷熱衝撃サイクル試験後においても金属層の剥離が生じないポリイミドボードを提供すること。
【解決手段】複数枚の(A)非熱可塑性ポリイミドフィルムが、(B)熱可塑性樹脂を介して交互に積層され、かつ厚さ方向に直径が10μm〜200μmの貫通孔を有するポリイミドボードにおいて、面方向での線膨張係数が−5ppm/℃〜15ppm/℃、厚さが50μm〜3000μm、かつ前記(A)層と(B)層を貫通する孔の直径比{(A)層を貫通する孔の直径(平均値)/(B)層を貫通する孔の直径(平均値)}が75%〜99%であることを特徴とするポリイミドボード。 (もっと読む)


【課題】放熱特性を維持しながら、発熱素子より発生した熱から熱脆弱素子を保護することのできる放熱基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】コア金属層111及びコア金属層111に形成されるコア絶縁層112を含み、第1領域と第2領域とに区分されたコア層110、コア層110の第1領域に形成される回路層120、コア層110の第2領域に形成され、ビルドアップ絶縁層131及びビルドアップ回路層132を含むビルドアップ層130、コア層110の第2領域とビルドアップ層130の間に形成される接着層140、及びビルドアップ層130に実装されて接着層140に含浸される含浸素子150を含み、回路層120に発熱素子160を実装し、ビルドアップ層130に熱脆弱素子161を実装することにより、発熱素子160の熱による熱脆弱素子161の損傷を防止し、空間を効率的に活用する放熱基板100a及びその製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】配線板の表面および裏面に実装される電子部品を1回の接続工程で製造可能とした部品内蔵多層配線板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態の部品内蔵多層配線板は、第1の印刷配線板と、第1の印刷配線板と同じ大きさの第2の印刷配線板と、第1の印刷配線板の表層に実装される第1電子部品と、第1の印刷配線板と第2の印刷配線板の間に内蔵され、第1電子部品と対向する前記第1の印刷配線板の裏層に実装される第2電子部品とを有する。そして、第1の印刷配線板の第1電子部品および第2電子部品の両端に設けられるスルーホールを用いて、第1の印刷配線板と第1電子部品との接続時に、第1の印刷配線板と第2電子部品との接続を同時に行う。 (もっと読む)


【課題】多層配線が簡易な方法によって低コストで形成される電子装置の製造方法を提供する。
【解決手段】第1配線層30の上に、絶縁層22の上に金属層32aが積層された積層膜CFを形成する工程と、積層膜CFの上に開口部23aが設けられたレジスト23を形成する工程と、レジスト23の開口部23aを通して金属層32aをエッチングすることにより金属層32aに開口部32xを形成する工程と、ウェットブラスト法により、金属層32aの開口部32xを通して絶縁層22をエッチングすることにより、第1配線層30に到達するビアホールVHを形成する工程と、ビアホールVHに導電性ペースト40又ははんだからなるビア導体を形成することにより、第1配線層30と第2配線層32となる金属層32aとをビア導体で接続する工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】ビアホール内の樹脂残り及びビアホール内に露出する内層回路パターンの変形・貫通を起こさずに、可及的に少ないショット数でビアホールを形成する。
【解決手段】表面にコンフォーマルマスク7,8aが設けられた可撓性の絶縁ベース1と、この下に設けられた、加工用レーザの波長域において絶縁ベース材1よりも高い吸光度、及び絶縁ベース材1よりも低い分解温度を有する接着剤層12とを含む被加工層を除去することにより、ビアホール23,24を形成するレーザ加工方法であって、導電膜2Aの変形及び貫通を引き起こさず、かつ絶縁ベース材1を1ショットで除去可能な第1のエネルギー密度を有するパルス光を1ショット照射した後、第1のエネルギー密度より小さく、導電膜2Aの変形および貫通を引き起こさずに残りの被加工層を所定のショット数で除去可能な第2のエネルギー密度を有するパルス光を照射する。 (もっと読む)


【課題】耐熱性、耐湿性、耐溶剤性及び耐薬品性が良好で、かつ印刷配線板の薄形・軽量化と高密度化に有効なビルドアップ積層方式に適した絶縁フィルムであって、高周波帯域での誘電率と誘電正接が低く高周波回路の低損失性を実現でき、しかも耐クラック性及び回路充填性などの成形性が良好な変性シアネートエステル系硬化性樹脂組成物を用いた絶縁ワニス及びフィルムの製造法を提供する。
【解決手段】(A)シアネートエステル化合物、(B)フェノール類化合物、(C)ポリフェニレンエーテル樹脂、(D)充填材及び(E)エポキシ樹脂を必須成分として含有する樹脂組成物からなる絶縁ワニス。 (もっと読む)


201 - 220 / 1,540