【課題】高温の基板を冷却する際に、基板と基板支持部との摩擦により生じる傷を抑制することのできる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置を、基板に熱処理を施す処理室と、前記処理室に接続され基板を搬送する基板搬送装置を備える搬送室と、前記搬送室に接続され前記処理室で熱処理された基板を冷却する冷却室とを備えるように構成し、さらに、前記冷却室内には、基板を支持するための基板支持部を備え、前記熱処理された基板を基板支持部で支持して冷却する際に、前記基板支持部により基板裏面に形成される傷の長さが０．２５ｍｍ以下となるように、前記基板支持部が基板裏面の３ヶ所以上の位置を支持するように構成する。 （もっと読む）

【課題】複雑な機構及び置換ガスが必要となるロードロック方式を採用しなくても、所定の雰囲気を維持したまま、ワークの搬送を行うこと。
【解決手段】互いに開口部３１，４２側を対向させて配置された処理室１２と搬送箱４１との間でワークＷを気密状態を維持しながら受け渡すワーク搬送部４０において、処理室１２の開口部３１を開閉自在、かつ、気密に蓋するとともに、搬送箱４１側に凹部３２ａを有する処理室蓋部３３と、処理室蓋部３３を処理室１２の内部側に案内するガイド機構３４と、処理室１２内に設けられた支持台１３と、搬送箱４１の開口部４２を開閉自在、かつ、気密に蓋するとともに、凹部３２ａに気密に嵌入される搬送箱蓋部４３と、処理室１２の開口部３１の周囲の前面部３１ａと搬送箱４１の開口部４２の周囲の前面部４２ａとを気密に結合する結合部５０とを備えた。 （もっと読む）

【課題】処理液により基板を処理する際に発生する気泡に起因して基板処理が阻害されるのを防止できる基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗを処理するための処理液を貯留する処理槽３０と、処理槽３０内で基板Ｗを保持可能な基板保持部４１と、基板保持部４１を昇降駆動する駆動部５３とを有する基板処理装置１１における基板処理方法であって、基板保持部４１が保持している基板Ｗを処理槽３０が貯留している処理液に浸漬させて処理する際に、基板保持部４１を駆動部５３により処理槽３０から上昇させて基板Ｗを処理液から引き上げ、上昇させた基板保持部４１を駆動部５３により下降させて基板Ｗを再び処理液に浸漬させることによって、基板Ｗを処理する際に発生する気泡を基板Ｗから除去する。 （もっと読む）

【課題】保持台の姿勢を正確に制御することができ、また高速で移動させても保持台がふらつくことがない搬送装置を提供する。
【解決手段】搬送装置に、第一の姿勢保持リンク５６、及び第二の姿勢保持リンク５７を設ける。第一の姿勢保持リンク５６の一端と第二の姿勢保持リンク５７の一端とは連結軸５３によって回転可能に連結される。保持台２１の基部プレート２７にレール５１，５２を取り付ける。連結軸５３にローラ５４，５５を所定の軸線の回りを回転可能に取り付ける。ローラ５４，５５はレール５１，５２のローラ転走部５１ａ，５２ａに接触するように配置される。保持台２１を移動させるとき、ローラ５４，５５がローラ転走部５１ａ，５２ａを転がり運動する。 （もっと読む）

【課題】直径３００ｍｍのウエハを収容する第１カセットに対応のキャリアベースにカセットアダプタを取付けて、直径２００ｍｍのウエハを収容する第２カセットの正しい位置への着座を検出する着座センサ機構を提供する。
【解決手段】３００ｍｍのウエハを収容可能なロードポートＰのキャリアベース５に装着する２００ｍｍのウエハを収容可能な第２カセットＫ_２を設置するカセットアダプタであって、アダプタ本体ＤのアダプタプレートＥの裏面には、該アダプタ本体Ｄがカセット受台Ｂの傾斜配置位置から（９０°−θ）だけ回動されて該アダプタプレートＥを水平配置させるストッパボルト３３と、前記アダプタプレートＥの水平配置を検出するセンサ作動ボルト３４が取付けられ、前記アダプタプレートＥの上面には、第１カセット用着座センサＳ_１を除き残りを無効にした状態で、第２カセットＫ_２の正しい位置への着座を検出する第２カセット用着座センサを設ける。 （もっと読む）

【課題】基板の飛び出しを防止しつつ走行時において基板出し入れ方向での大きさの小型化を図ることができる搬送装置を提供する。
【解決手段】収納容器４を保持した状態で走行可能な走行保持体１０と、収納容器４の開口６から基板５が飛び出すことを防止する飛び出し防止機構９とを設け、飛び出し防止機構９を、基板５の側面に接触する接触位置と基板５の側面から離間する離間位置とに移動可能な接触体２６を備えて構成し、接触体２６の接触位置を、基板出し入れ方向で、基板の開口側端部と中央部との間に接触体２６が位置するように設定する。 （もっと読む）

【課題】 フォトマスク用ガラス基板等の表面の品質及び収納ケースの内部に異物が存在するかを容易に検査することができる収納ケースを提供する。
【解決手段】 フォトマスク用基板１７を収納する収納ケース１１は、蓋１２とケース本体１３とから主に構成されている。蓋１２とケース本体１３とは金属材料からなる。蓋１２がケース本体１３に接合されると、収納ケース１１の内部に基板収容室５１が形成される。基板収容室５１を画成する内面５２，５３には黒色皮膜が形成されている。 （もっと読む）

【課題】直径３００ｍｍの第１ウエハを収容可能な第１カセット用のロードポートに対してカセットアダプタを使用して、直径２００ｍｍの第２ウエハを収容可能な第２カセットをセットする際に、第２カセットの全体を覆うカセットカバーの提供。
【解決手段】正面、背面及び底面の３面が開口されていて、アダプタ本体及び第２カセットＫ₂の全体を覆うことができると共に、正面開口を通してアダプタ本体を手前側に傾転させられるように、アダプタベースＶに一体に取付けられ、ロードポートＰのキャリアベース５の前進により、カセットカバーＣで覆われた第２カセットＫ₂が前進端位置である第２ウエハの搬入・搬出位置に達した状態で、カセットカバーＣの前端周縁が、ロードポート本体１のウエハ移載窓１ａの周縁に密着又は近接可能なように、カセットカバーＣの前端には、左右の両方向に向けて閉塞用フランジ部４６が一体に設けられた構成とする。 （もっと読む）

【課題】３００ｍｍのウエハを収容する第１カセットに対応のロードポートを使用して、２００ｍｍのウエハを収容する第２カセットを設置してロック可能にするアダプタ本体ロック装置を提供する。
【解決手段】３００ｍｍのウエハを収容する第１カセットをキャリアベース５にロックするロック用エアシリンダ１４を備えたロードポートＰに、２００ｍｍのウエハを収容する第２カセットＫ_２を設置してロック可能にするために、キャリアベース５に取付けられるカセットアダプタは、キャリアベース５にセットされるアダプタベースＶと、アダプタベースＶを介して回動可能に装着されるＬ字形のアダプタ本体Ｄとから成り、アダプタ本体Ｄを構成するアダプタプレートＥの裏面に、ロック用エアシリンダ１４のロッド１３の先端のロック爪１２に対して解除可能に係合されて、キャリアベース５にアダプタ本体Ｄを固定可能とする被ロック部材３５を一体に設ける。 （もっと読む）

【課題】搬送ロボットを用いて、カセットに収容された液晶基板等の板状の基板を搬出する際に、基板検出センサを用いて基板の位置を検出していた。従来は、基板がカセットの手前側（入り口側）に寄せられてカセット内部に収容されていたが、基板がカセットの奥側に寄せられる場合があり、従来の搬送ロボットでは対応できない。
【解決手段】本発明の搬送ロボットは、振動吸収体６の先端部に取り付けられた基板の有無を検出する基板検出センサ５と、ハンドの位置を移動させる移動機構１１（アーム機構２等）と、ハンドの位置及び移動速度を制御する動作制御部１２と、基板のエッジ位置を演算する基板エッジ位置解析部１３とを備えた。上記構成にすると、基板がカセットの奥側に寄せられて収容された場合であっても、基板の位置を検出できる。 （もっと読む）

【課題】発塵、発熱を伴うことなく基板を高速で出し入れ可能なワイヤ式の基板カセットを提案すること。
【解決手段】同一平面上に平行に架け渡した複数本のワイヤ９によって基板収納棚１０が形成され、当該基板収納棚１０が多段に配列されている基板カセット１において、ワイヤ９には、当該ワイヤ９の軸線方向に沿って一定の間隔で、転がり軸受１１が取り付けられている。転がり軸受１１の内輪２２はワイヤ９に固定され、外輪２１によってガラス基板Ｗを載せる基板載置面が規定されている。ガラス基板Ｗの出し入れの際には、ガラス基板Ｗの移動に伴って外輪２１が回転する。搬送に伴うガラス基板支持部分からの発塵、発熱が起きないので、ガラス基板Ｗを高速搬送でき作業効率を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、例えばソーラーウェハなどの盤状基板（３）を分離、偏向及び搬送することに関する。
【解決手段】液体内に基板スタック（５）の形状で、送り方向に相前後して順次配置された複数の盤状基板（３）を分離、偏向及び搬送する装置（１）であって、少なくとも２つの搬送ベルト（１１、１１’’）を含む垂直方向のベルトコンベア（９）を備え、ベルトコンベア（９）の搬送域（１０）がスタック（５）の一方端の前方側（１２）に前方側（１２）と平行に配置されており、ベルトコンベア（９）は真空装置（１６）を有し、スタック（５）のうち最前方の基板（３）が真空装置（１６）によって少なくとも第１の搬送ベルト（１１）に対して吸引可能であり、垂直方向のベルトコンベア（９）のうち少なくとも２つの搬送ベルト（１１、１１’’）が隣接する領域で相互に同一平面上に配置されている。 （もっと読む）

【課題】 無人搬送車から載置装置へ被載置物を移載するための移載機において、その幅が被載置物の幅に比べて小さい場合、移載中に被載置物を落下させてしまうが、載置装置や被載置物の寸法が種々異なる場合に、移載機の幅が被載置物の幅に比べて小さくならざるをえない事態が生じてしまい、移載中に被載置物を落下させてしまうことがあった。
【解決手段】 本発明にかかる移載機の移載テーブルは、補助機構を突出させることにより、その幅を自在に可変できるものである。 （もっと読む）

【課題】パーティクルチェック作業を短縮する。
【解決手段】基板に処理を施す複数の処理室と、前記複数の処理室のそれぞれへ前記基板を保持部に保持して搬送する第一搬送装置を備えた第一搬送室と、前記基板を大気圧状態で搬送する第二搬送装置を備えた第二搬送室と、前記第一搬送室と前記第二搬送装置とを連結する減圧可能な予備室と、前記第一搬送室と前記第二搬送装置および前記予備室に対して設けられた排気装置と、前記基板が複数収納された収納容器と前記複数の処理室との間の前記第一搬送装置および前記第二搬送装置の搬送を制御する制御手段と、を有する基板処理装置において、前記制御手段は、システムスタンバイ処理を実行する前に、前記システムスタンバイ処理で実行する項目を設定する処理選択画面を表示部に表示し、選択された前記項目のみをシステムスタンバイ処理として実行する。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタ製造工程、液晶表示パネル製造工程、及び半導体製造工程におけるストッカ設備の容積の増大を抑制し、前記各製造工程に置ける処理装置の基板待ち時間を減らし、設備費用や材料費を削減する仕掛りカセット搬送制御システムを提供する。
【解決手段】液晶表示装置等に用いられる基板を製造する複数の処理ラインにおいて、スタッカ設備に保管されている仕掛りカセットを選択して搬送制御するシステムであって、前記複数の各処理ラインで処理された基板を収納するカセットをスタッカ設備内から選択し基板回収装置に搬送する手段その１と、前記複数の各処理ラインで処理するための基板が収納されているカセットをスタッカ設備内から選択し、各処理ラインの基板投入装置に搬送する手段その２と、を備えたことを特徴とする仕掛りカセット搬送制御システム。 （もっと読む）

【課題】単一のイオンブロー手段を用いて、装置内の複数箇所においてワークに除電処理を施すことができるダイシング加工装置を提供すること。
【解決手段】ダイシング加工装置１は、噴出口１４３からのイオン化されたエアが、スピンナ洗浄手段１０のスピンナテーブル１０１上のワークおよび仮置部１１上のワークに吹き付けるように調整する調整部１４４を有するイオンブロー手段１４を備える。調整部１４４は、スピンナ洗浄手段１０１のスピンナテーブル１０１から仮置部１１までワークを搬送している間は、搬送アーム１３に保持されたワークへ向けてイオン化されたエアを吹き付けるように噴出口１４３の向きを調整する。 （もっと読む）

【課題】板状部材を起立姿勢で安定して搬送することと、ラック内に収納された板状部材を起立姿勢で安定して保持することとを両立する。
【解決手段】ラック１２が、複数の板状部材２を収納する収納空間３３、及び板状部材２を配列方向と交差する水平な搬入方向に搬入させるための搬入口３４を有するラック本体３２と、複数の板状部材２の上縁部をそれぞれ支持する複数の上側支持部６１と、複数の上側支持部６１の下方に設けられ、起立させられた複数の板状部材２の下縁部を支持する下側支持部６３と、配列方向において複数の上側支持部６１の端及び下側支持部６３の端より外側に設けられ、搬入口３４から収納空間３３内に搬入される板状部材２の下縁部を収容する下縁部収容部６４と、を備え、１つの上側支持部６１は、搬入され下縁部収容部６４によってその下縁部が収容された板状部材２の上縁部を該板状部材２が傾いた状態で支持することが可能に構成される。 （もっと読む）

【課題】成長条件とを駆使し、基板上への成長膜厚を均一にする方法を提供する。
【解決手段】チャンバ１２０内に、支持台１１０上に載置された基板１０１が収容され、この基板１０１上に成膜するためのガスを供給する第１の流路及びガスを排気する第２の流路が接続された気相成長装置を用い、基板上に半導体層を気相成長する際に、成膜するための反応ガス及びキャリアガスの流量と濃度、チャンバ内の真空度、基板温度及び基板を回転する回転速度を制御して、半導体層の膜厚を均一にする。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェーハの支持構造を効率的に検討し、検討に要する時間を短縮できる半導体ウェーハの支持構造検討装置を提供する。
【解決手段】半導体ウェーハよりも大きいベース板１０に、半導体ウェーハの周縁部に干渉するサポート具２０を設けた支持構造検討装置であり、ベース板１０に、半導体ウェーハの周縁前部に対して進退動可能なスライダ１２を配置する。また、サポート具２０を、半導体ウェーハの周縁後部を挟持する第一のサポート具２１と、半導体ウェーハの周縁両側部を支持する第二のサポート具３０と、半導体ウェーハの周縁前部を挟持する第三のサポート具３２とから構成し、ベース板１０とスライダ１２のいずれか一方には、スライダ１２の進退動量を検出する変位検出器４０を設置し、スライダ１２に、第一、第三のサポート具２１・３２に挟持された半導体ウェーハ用の荷重検出器４１を設置する。 （もっと読む）

【課題】被処理基板と支持基板の剥離処理を効率よく行い、当該剥離処理のスループットを向上させる。
【解決手段】剥離システム１は、剥離処理ステーション３に対して、被処理ウェハＷ、支持ウェハＳ又は重合ウェハＴを搬入出する搬入出ステーション２と、被処理ウェハＷ、支持ウェハＳ及び重合ウェハＴに所定の処理を行う剥離処理ステーション３と、搬入出ステーション２と剥離処理ステーション３との間で、被処理ウェハＷ、支持ウェハＳ又は重合ウェハＴを搬送する第１の搬送装置２０とを有している。剥離処理ステーション３は、重合ウェハＴを被処理ウェハＷと支持ウェハＳに剥離する剥離装置３０と、剥離装置３０で剥離された被処理ウェハＷを洗浄する第１の洗浄装置３１と、剥離装置３０で剥離された支持ウェハＳを洗浄する第２の洗浄装置３３とを有している。 （もっと読む）