【課題】組み立てが簡単な処理システムを提供する。
【解決手段】基板Ｗを収納する基板処理室３３と，基板Ｗを保持する保持部材５１Ａ〜５１Ｄ，及び，基板処理室３３の開口７２を閉塞する蓋５２を有する基板保持体４１と，保持部材５１Ａ〜５１Ｄに対する基板Ｗの受け渡し時には基板Ｗが略水平になるようにし，基板処理室３３内では基板Ｗが略垂直になるように基板保持体４１を姿勢変換させる保持体姿勢変換機構４３と，保持部材５１Ａ〜５１Ｄを基板処理室４１の内部と外部とに移動させる保持体移動機構４５と，保持部材５１Ａ〜５１Ｄに対して基板Ｗの受け渡しを行う基板搬送装置２０とを備える。基板処理室３３，基板保持体４１，保持体姿勢変換機構４３及び保持体移動機構４５は，処理システム１本体から一体的に取り外し可能なユニット５を構成する。 （もっと読む）

【課題】 基板の裏面汚染を十分に防止できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】 露光装置１４による露光処理前の基板Ｗを基板載置部ＰＡＳＳ９から露光装置１４へと搬送する際には、インターフェース用搬送機構ＩＦＲの上側のハンドＨ５が用いられる。また、露光装置１４による露光処理後の基板Ｗを露光装置１４から基板載置部ＰＡＳＳ１０へと搬送する際には、インターフェース用搬送機構ＩＦＲの下側のハンドＨ６が用いられる。すなわち、露光処理後の液体が付着した基板Ｗの搬送にはハンドＨ６が用いられ、露光処理前の液体が付着していない基板Ｗの搬送にはハンドＨ５が用いられる。 （もっと読む）

本発明の態様は、システム処理能力を高めるために１以上のバッチ基板処理チャンバ及び/又は単一基板処理チャンバ内で基板を処理するように適合されたマルチチャンバ処理システム（例えば、クラスタツール）を用いて基板を処理するための方法及び装置を含んでいる。一実施態様においては、システムは、処理能力を最適化するとともに処理欠陥を最少にするために、バッチ処理チャンバのみ、又はバッチ基板処理チャンバと単一基板処理チャンバを含む基板処理シーケンスを行うように構成されている。一実施態様においては、バッチ処理チャンバは、基板処理シーケンスにおいて他のプロセスレシピステップと比べて不釣合いに長いプロセスレシピステップを行うことによりシステム処理能力を高めるために用いられる。本発明の態様は、また、繰り返し可能なＡＬＤ堆積プロセス又はＣＶＤ堆積プロセスを行うことができるように処理チャンバに前駆物質を分配するための装置及び方法を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】 簡単な構成により、より正確な直線移動行程を実現できる直線移動機構およびこれを用いた搬送ロボット、さらにはハンドを２つ備えることによってワークの搬送効率を高めた搬送ロボットを提供する。
【解決手段】 ガイド部材１と、このガイド部材１上に設定された水平直線状の移動行程に沿って移動可能な移動部２Ａ，２Ｂ材と、これら移動部材２Ａ，２Ｂを駆動する駆動機構３Ａ，３Ｂと、を備えた直線移動機構Ｂ１であって、駆動機構３Ａは、移動行程ＧＬを挟んで配置され、かつ同期駆動される一対の往復動機構を含んでおり、移動部材２Ａは、移動行程を挟んで離間する一対の連結部材２４ａにおいて、上記一対の往復動機構に連結されている。 （もっと読む）

【課題】 ２組の平行リンクを連結してなる搬送アームの先端に設けられた基板搬送台を安定した状態で高精度に搬送できるコンパクトなアーム構造を実現する。
【解決手段】２組の平行リンクを連結してなる第１と第２搬送アーム１００と２００とを有し、第１と第２の搬送アーム１００と２００の直線移動と他方の退避動作とを同期をとって行う際、旋回動作が付与される第１搬送アーム１００のアーム１１１と、第２搬送アーム２００のアーム２１１とを所定屈曲角度をなし一体形成した旋回アーム１０とする。旋回アーム１０に同軸駆動源の一方の駆動源から所定の旋回動作を付与するとともに、第１と第２の搬送アーム１００、２００のいずれかに、他方の駆動源から同期した同方向への旋回動作を付与する。第１あるいは第２搬送アームのうち、旋回動作が付与された搬送アームの搬送台を退避させるとともに、他の搬送アームの搬送台を直線移動させるようにした。 （もっと読む）

【課題】 フットプリントを増やすことなく運搬容器の保管数量の増大が図れ、スループットの向上が図れる縦型熱処理装置及びその運用方法を提供する。
【解決手段】 複数枚の被処理体ｗを収納した運搬容器２を搬入搬出するための搬入搬出部３，４と、該搬入搬出部３，４から搬入された複数の運搬容器２を保管する第１保管部５と、多数枚の被処理体ｗを多段に保持した保持具６を収容して被処理体ｗに所定の熱処理を施す熱処理炉７と、前記保持具６と運搬容器２との間で被処理体ｗの移載を行うために運搬容器２を載置する移載部８とを備えた縦型熱処理装置１であって、前記搬入搬出部３，４を上下２段設けると共に、上段と下段の搬入搬出部３，４間に運搬容器２を保管する第２保管部２０を設けている。前記搬入搬出部３，４の何れかが運搬容器２を保管する第３保管部３０とされる。 （もっと読む）

基板処理装置はチャンバと、処理モジュールの略リニアなアレイと、基板移送部と、駆動システムとを有している。該チャンバは外部雰囲気から分離されることが可能である。該アレイの各処理モジュールはチャンバに連絡自在に結合されており、よって基板がチャンバと処理モジュールとの間で移送されることを可能にする。該基板移送はチャンバ内に位置しており、移動自在にそれに支持されている。移送部はチャンバによって画定されるリニア経路に沿って移動可能であり、基板を処理モジュール群の間で移送する。駆動システムはチャンバに結合されており、移送部を駆動してリニア経路に沿って移動せしめる。チャンバは順に当接する選択可能な数量のチャンバモジュールからなり、よってチャンバを画定する。各モジュールは駆動システムの一体部分を有している。
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【課題】 スリップ、パーティクルおよびスクラッチの発生を効果的に防止し、また基板ホルダ上へのウエーハの載置や基板ホルダ上からのウエーハの取り出しを容易、迅速かつ正確に行う。
【解決手段】 基板ホルダ１が円環状であって、基板ホルダ１はウエーハを載置した時にウエーハの外周を保持するための二つの円弧状の支持部２と、支持部２の端部を相互接続する二つの接続部３とが交互に配置され、接続部３は基板移載機のツイーザの幅よりも大きな幅を有し、かつ接続部３は支持部２の高さとの差を有し、該高さの差は接続部３の上でツイーザを上下に動かし、ツイーザ上のウエーハを支持部２の上に残し、かつ支持部２の上のウエーハをツイーザ上に移すことが可能な差とする。 （もっと読む）

【課題】基板搬送機構のメンテナンスを容易にする。
【解決手段】基板処理装置６１０は、グレーチング６０５上に載置され、グレーチング６０５の上方空間である２階部分６０２に配置されている。基板処理装置６１０は、複数の処理ユニットと、主搬送ロボットＭＴＲとを備えている。複数の処理ユニットは、主搬送ロボットＭＴＲを囲むように設けられている。エレベータ機構６１５は、主搬送ロボットＭＴＲをグレーチング６０５の上方の２階部分６０２とその下方の１階部分６０１との間で昇降させるためのものである。このエレベータ機構６１５によって、主搬送ロボットＭＴＲを１階部分６０１に下ろすことにより、主搬送ロボットＭＴＲを全方向からメンテナンスできるようになっている。 （もっと読む）

【課題】 高温になったボートを処理炉からアンロードする際、ウェハ移載機へのボートからの放射熱の影響を低減する。
【解決手段】 ウェハ移載機によりボートに複数のウェハを搬送し（ステップ３０１）、このボートを処理炉にロードする（ステップ３０３）。ボートロード後、ボートに載置されたウェハを高温の処理炉で処理する（ステップ３０４）。ボートを処理炉から搬出する前に、ウェハ移載機の向きを変更して、ウェハ移載機をボートからの輻射熱を最も受けない退避位置に移動させる（ステップ３０５）。ウェハ移載機を退避させた後、高温になったボートを処理炉から搬出する（ステップ３０８）。 （もっと読む）

【課題】ロボット等の基板搬送手段を衝突から守ると共に、衝突の誤検出によるエラーを回避できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板を搬送する基板搬送装置であって、駆動源を備える基板搬送装置１１２、１２４と、、駆動源の状態を監視し、その状態が所定の閾値を超えたか否かで基板搬送手段の衝突等の異常を検知する検知器３０１とを備え、記検知器３０１は、生産モードとメンテナンスモードとで、それぞれ異なる閾値を有している。 （もっと読む）

【課題】 簡素な構成でスループットを上げる。
【解決手段】 基板保持ピン６４が上昇し、基板処理台４４の上面に載置されている処理済基板を位置（ｂ）まで上昇させた後に、フィンガー対４０を位置Ｙ２まで挿入する。基板保持ピン６４が下降すると、処理済基板が下フィンガー３８ｂに載置される。フィンガー対４０を位置Ｙ１まで戻した後に、基板保持ピン６４が上昇し、保持部７６が位置（ｃ）まで上昇する。上フィンガー３８ａが未処理基板を支持し、下フィンガー３８ｂが処理済基板を支持した状態でフィンガー対４０を位置Ｙ２まで挿入する。基板保持ピン６４が上昇し、上フィンガー３８ａが支持している未処理基板が保持部７６に移載される。フィンガー対４０を位置Ｙ１まで戻した後に、基板保持ピン６４が下降すると、未処理基板が基板処理台４４に載置される。 （もっと読む）

各々内部における半独立ＡＬＤと／またはＣＶＤ被膜形成（成膜）用に構成された複数の別個のシングルウェハ処理リアクタを有する１以上のウェハ処理モジュー^*1ルと；該各ウェハ処理モジュールにウェハを供給すると共に該各ウェハ処理モジュールからウェハを受け取るよう構成されたロボット式中央ウェハハンドラと；ローディング／アンローディング・ポートと該ローディング／アンローディング・ポートを該ロボット式中央ウェハハンドラに結合するミニ環境を備えるシングルウェハ・ローディング／アンローディング機構と；を備えたウェハ処理装置。該ウェハ処理リアクタは、（Ｉ）１座標軸が、該シングルウェハ処理リアクタがそれぞれ属する該ウェハ処理モジュールの中の少なくとも１つのモジュールのウェハ装入面と平行なデカルト座標系の座標軸に沿って配置する、あるいは（ＩＩ）該座標軸により定まる象限内に配置することが可能である。各処理モジュールは、最大４つのシングルウェハ処理リアクタを各々独立のガス分配モジュールと共に備えることができる。
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【課題】基板を安定して移送することができ、基板の収納状態も感知することができる 基板移送装置を提供すること。
【解決手段】基板移送装置はハンド１３０ａ、１３０ｂがピックアップ位置から溝の位置に戻った時、ハンド１３０ａ、１３０ｂのポケット部１３２に配置された基板Ｗを把持する把持部材１４０を含む。この把持部材１４０は基板Ｗのエッジと面接触する湾曲部１４４ａを有し、そして少なくとも一つのハンド１３０ａ、１３０ｂの移動方向と同一の方向に移動可能に前記ベース上に設けられるプッシャー１４４及びプッシャー１４４が基板Ｗのエッジを側方に押すように弾性力を加える弾性体１４６を含み得る。 （もっと読む）

少なくも２個の処理ユニットの複数の少なくも１個の直線状に配列されたアレイを備え、各処理ユニットにおいて１個の枚葉ウエハ形物品を処理でき、更に、かかる各処理ユニットにおいて１個の枚葉ウエハ形物品を処理し得る前記処理ユニット、少なく１個の枚葉ウエハ形物品を内部に貯蔵している少なくも１個のカセットを保持するためのカセット保持ユニット、及びカセットからウエハ形物品を取り上げてこれを処理ユニットの一つの中に置くための輸送システムを備えたウエハ形物品の処理用の装置が明らかにされる。本装置は、直線状トラック上に取り付けられた輸送ユニットを備える。前記輸送ユニットは、枚葉ウエハ形物品を、直線状トラックと平行な実質的に垂直な平面内に保持する。
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【課題】 既存の複合処理部に新たに追加された処理ユニットに対して基板を搬送する機構を設ける場合に、新たに必要とされるスペースが極力小さくて足りる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 基板に対して、予め定められた一連の処理を施す複合処理部１Ａ，１Ｂを備えた基板処理装置１であって、複合処理部１Ａに設けられている露光装置用の第１インターフェース部６０と、複合処理部１Ｂに設けられている露光装置用の第２インターフェース部６１との間で基板を搬送する基板搬送コンベア６３０が設けられ、この基板搬送コンベア６３０の少なくとも一部を、第１インターフェース部６０及び第２インターフェース部６１の一部と積層配置させた状態で設ける。 （もっと読む）

【課題】改善された移送ユニットを有するリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、交換可能な対象物を含むリソグラフィ・プロセスを実行する処理ユニットを備え、処理ユニットは、放射のビームを提供する照明システムと、放射のビームに所望のパターンを与えるパターニング・デバイスを支持するように構成された支持構造体と、基板を保持するように構成された基板ホルダと、パターン形成されたビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムとを含む。リソグラフィ装置は、また単一のロボットを備える移送ユニットを含む。この単一のロボットは、第１の交換可能な対象物を装填ステーションから前記処理ユニットへ移送し、且つ第２の交換可能な対象物を処理ユニットから排出ステーションへ移送するように構成される。 （もっと読む）

【課題】ロータに処理液が残留することを防止でき，かつ，耐薬液性能を向上させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】ロータに備えた複数の保持部材４０Ａ，４０Ｂ，４０Ｃ，４０Ｄによって基板Ｗの周縁部を保持し，前記ロータによって基板Ｗを回転させて処理する基板処理装置において，前記保持部材４０Ａ，４０Ｂ，４０Ｃ，４０Ｄを支持する支持部材４１Ａ，４１Ｂ，４１Ｃ，４１Ｄを備え，前記保持部材４０Ａ，４０Ｂ，４０Ｃ，４０Ｄと前記支持部材４１Ａ，４１Ｂ，４１Ｃ，４１Ｄとの間に，隙間７５が形成されることとした。 （もっと読む）

支持具に支持される基板間のピッチを縮小し、処理枚数を増大させることができる熱処理装置を提供する。熱処理装置１０は、基板７２を処理する反応炉４０と、反応炉４０内で複数枚の基板７２を複数段に支持する支持具３０とを有する。この支持具３０は、基板７２と接触する複数の支持板５８と、この複数の支持板５８を支持する支持片６６とを有し、支持板５８と支持片６６が厚さ方向の少なくとも一部において重なるように構成される。 （もっと読む）

本発明は、人の手を介することなく、自動的に正常状態にある基板を回収することができる基板処理装置を提供することを目的とする。基板１２を多段に保持する基板保持具２６と、この基板保持具２６に基板１２を移載する基板移載機３４とからなり、基板保持具２６の基板保持状態は検知部６０により検知される。検知部６０は、フォトセンサ６４ａ，６４ｂを有し、このフォトセンサ６４ａ，６４ｂから検知された検知波形が正常波形と比較され、少なくとも異常と判断された基板１２以外の基板１２を基板移載機３４にて移載するよう制御する制御部６６が設けられている。 （もっと読む）