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Fターム[5F031GA24]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 移送装置、手段 (13,292) | 保持部 (5,617) | 真空吸着によるもの (850) | ウエハ、その他の基板用のもの (266)

Fターム[5F031GA24]に分類される特許

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【課題】半導体ウエハを研削して薄化した後、薄化したウエハを安全かつ確実にチャックテーブルから取り上げて次工程へ搬送する。
【解決手段】チャックテーブルの吸着面に半導体ウエハのおもて面側を吸着し、前記半導体ウエハの裏面を、外周部にリング状の補強部が残るように内側領域を凹状に研削してリング状の補強部が形成された半導体ウエハを前記チャックテーブルから搬送するにあたり、前記リング状の補強部が形成された半導体ウエハを保持する前に、保持する箇所とは別の部分を前記半導体ウエハの裏面からおもて面に向かって押圧し、前記チャックテーブルに陽圧を供給して、前記半導体ウエハのおもて面側の吸着を解除し、前記保持する箇所とは別の部分を前記半導体ウエハの裏面からおもて面に向かって行った押圧を解除した後、前記リング状の補強部が形成された半導体ウエハを保持したまま、前記チャックテーブルから取り上げるようにする。 (もっと読む)


【課題】基板を押圧する際の荷重を適切に制御し、基板同士の接合を適切に行う。
【解決手段】接合装置は、下面に上ウェハWを吸着保持する上部チャック230と、上部チャック230の下方に設けられ、上面に下ウェハWを載置して吸着保持する下部チャック231と、を有している。上部チャック230には、上ウェハWの中心部を押圧する押動部材250が設けられている。押動部材250は、上ウェハWの中心部と当接して当該上ウェハWの中心部にかかる荷重を制御するアクチュエータ部251と、アクチュエータ部251を鉛直方向に移動させるシリンダ部252とを有している。アクチュエータ部251には、当該アクチュエータ部251に対して所定の圧力の空気を供給する電空レギュレータが設けられている。 (もっと読む)


【課題】基板浮上装置において、メンテナンス性を悪化させずに基板の除電効率を高める。
【解決手段】基板浮上装置2は、基板(S)の裏面に浮上用エアを吐出するエア浮上機構を有する浮上ステージ2aと、この浮上ステージ2aの基板支持面に形成された収納空間2cと、イオン化エアを噴出す吐出孔3aが複数設けられた筒状を呈し、収納空間2cに配置され基板(S)の裏面に対してイオン化エアを吹き付けるイオナイザ3と、を備える。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ウエハを真空吸着して所定のウエハの搬送を終えた後に、ウエハをウエハ吸着部から容易に離脱させることができるウエハ搬送用アームとウエハ搬送装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本願の発明にかかるウエハ搬送用アームは、非弾性体で形成され、開口を有するウエハ吸着部と、該ウエハ吸着部と接続され、該開口に通じる吸気路を有する支持部と、を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】板状部材を搬送する際の当該板状部材の外周部垂れ下がり打ち消して搬送することのできる搬送装置を提供すること。
【解決手段】先端にウエハWの吸着アーム14を備えた多関節型ロボットからなる搬送装置10であり、当該搬送装置10は、前記ウエハWを保持したときの重さで吸着アーム14が撓んでウエハWが垂れ下がったときに、ウエハWの外周部における垂れ下がり量及び基準線L方向のずれ量を打ち消すように吸着アーム14を角度調整してウエハWを略水平姿勢に保つように構成されている。ウエハWの垂れ下がり量は、第1及び第2の測長器40,41による測長によって求めることができる。 (もっと読む)


【課題】平板状の基板をステージ上面から浮かせ、基板下面の一部を吸着パッドにより把持して所定の方向に移送する基板移送装置において、吸着パッドによる基板の変形を防ぎ、基板表面の歪みを軽減する基板移送装置を提供し、それによって、処理工程の中で基板移送を伴うスピンレス方式の塗布を均一に行う装置を提供すること。
【解決手段】ステージ上と吸着パッド上とを含む基板上の異なる点の高さを測定できる測定器を有しており、高さの測定結果に基いて、吸着パッドの高さを調整することにより、基板表面の歪みを軽減する。 (もっと読む)


【課題】真空吸着装置においてワークの設置状況にかかわらず、簡素な構成で前記ワークを確実且つ安定的に吸着することができる。
【解決手段】真空吸着装置10は、負圧流体の供給される供給ポート22を有したボディ12と、該ボディ12の下部に設けられワークWを吸着可能なパッド14と、前記ボディ12とパッド14との間に設けられるシール部材16とを備え、前記パッド14が多孔質体から形成されると共に、前記シール部材16が、前記パッド14に対して剛性が低く形成される。また、パッド14には、該パッド14を平面状に維持する保持プレート26が装着される。そして、例えば、パッド14に対して傾斜したワークWを吸着する際、該パッド14がシール部材16を変形させながら傾斜して前記ワークWに密着する。 (もっと読む)


【課題】基板と吸着パッドとの間の吸着エラーを防止することが可能な処理装置を提供すること。
【解決手段】処理対象の基板に所定の処理を施す処理部と、基板を載置して、基板を搬送する搬送ステージとを有する処理装置であって、搬送ステージは、基板を搬送する搬送方向に沿って見たときに端部が中央部よりも鉛直下方に位置する上面を有し、この上面の上方に配置される基板を直接的または間接的に支持する支持手段と、基板を搬送方向と平行に延びる搬送軸に沿って移動可能に保持する保持部材と、保持部材を搬送軸に沿って移動させる駆動部と、を備え、支持手段が基板を支持する支持高さは、処理部が設けられた処理部設置領域において保持部材が基板を保持する保持高さと同じであり、処理部設置領域以外の領域において保持高さより低い。 (もっと読む)


【課題】 支持板を剥離した後に半導体ウェハに付着した接着剤を、ドライ状況下において、半導体ウェハを破損させることなく除去することが可能な支持板剥離装置を提供する。
【解決手段】デマウンタ10は、ピールローラ204、第1の加圧部材208、第2の加圧部材212、ステッピングモータ222、ボールネジ226、第1の弾性部材(238、240)、および第2の弾性部材(234、236)を備える。第1の弾性部材(238、240)は、ステッピングモータ222およびボールネジ226から第2の加圧部材212に作用する下向きの力を第1の加圧部材208に伝達するように構成される。第2の弾性部材第2の弾性部材(234、236)は、キャップボルト244が第1の加圧部材208を吊り下げているときに圧縮された状態になるように配置される。 (もっと読む)


【課題】簡易な構成で基板の損傷を防止して搬送することが可能な検査装置および基板の位置決め方法を提供すること。
【解決手段】基板Wを支持し、基板Wを搬送する搬送方向に沿って回転するフリーローラ201を有する搬送ステージ20と、基板Wを搬送方向Dに沿って移動させる駆動機構30と、搬送ステージ20の端部側に設けられ、基板Wに当接する整列ピン202aを保持し、整列ピン202aを搬送方向Dに移動させる整列ピン駆動部202と、検査ユニット100と整列ピン駆動部202との間に設けられ、基板Wに当接する基準ピン203aを保持し、基準ピン203aを昇降駆動させる基準ピン駆動部203と、基板Wの搬送方向Dに平行な方向の端面を検出する端面検出部204と、端面検出部204が検出した端面の情報をもとに基板Wの検査を行う検査ユニット100と、を備えた。 (もっと読む)


【課題】 研削面に研削屑等のコンタミの付着を防止可能なウエーハ搬送機構を提供することである。
【解決手段】 ウエーハを保持して搬送するウエーハ搬送機構であって、アームと、該アームの先端に弾性支持手段を介して支持されたウエーハを吸引保持する保持パッドとを具備し、該保持パッドは、ウエーハの外周を吸引保持する環状の吸引保持部と、該環状の吸引保持部に囲繞され吸引保持されたウエーハとの間で空間を形成する凹部と、該凹部に液体を供給する液体供給部と、該凹部から液体を排出する該環状の吸引保持部に形成され排出部と、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、例えばソーラーウェハなどの盤状基板(3)を分離、偏向及び搬送することに関する。
【解決手段】液体内に基板スタック(5)の形状で、送り方向に相前後して順次配置された複数の盤状基板(3)を分離、偏向及び搬送する装置(1)であって、少なくとも2つの搬送ベルト(11、11’’)を含む垂直方向のベルトコンベア(9)を備え、ベルトコンベア(9)の搬送域(10)がスタック(5)の一方端の前方側(12)に前方側(12)と平行に配置されており、ベルトコンベア(9)は真空装置(16)を有し、スタック(5)のうち最前方の基板(3)が真空装置(16)によって少なくとも第1の搬送ベルト(11)に対して吸引可能であり、垂直方向のベルトコンベア(9)のうち少なくとも2つの搬送ベルト(11、11’’)が隣接する領域で相互に同一平面上に配置されている。 (もっと読む)


【課題】凸部が設けられた半導体ウエハ等の板状部材を支持して搬送する際に、当該支持の安定化を図ることができ、凸部に接触する接触面を当該凸部から簡単に切り離すことができるようにすること。
【解決手段】凸部W1が設けられた半導体ウエハWの支持装置12であり、当該装置は、凸部W1の先端に接触可能な接触体26と、半導体ウエハWに吸引力を付与する吸引手段30とを含む。接触体26は、接触面26A側に貫通する吸引口40を備えた自粘性を有する材料によって構成されている。接触体26を無負荷状態で断面視したときに、接触面26Aは、吸引口40に向かって先細となる形状をなす。接触面26Aは、半導体ウエハWを支持したときに、凸部W1の先端面形状に合わせて変形可能に設けられる。 (もっと読む)


【課題】薄板化のため支持基板に貼り付けたウエーハを損傷しないように確実かつ短時間で剥離できるようにしたウエーハの剥離方法及び装置を提供する。
【解決手段】加熱により発泡・分解して接着力が低下する接着剤を用いてウエーハ2を支持基板3に貼り付ける。このウエーハと支持基板の貼り合わせ体4をデマウントステージ5に載置し、その上方からチャック6を降下させる。チャック6のチャック面から測定用流体を吹き出し、ウエーハ面との間から流出する測定用流体の流量若しくは流体圧の変化に基づきチャックの降下位置を制御する。デマウントステージ5とチャック6からの加熱により接着剤を発泡・分解させた後、ウエーハを吸着保持するチャック6を上昇させてウエーハを支持基板から剥離
する。 (もっと読む)


【課題】大口径の半導体ウェーハであっても安定に吸着保持することが可能な吸着保持装置を提供すること。
【解決手段】使用者が片手の掌全体で把持可能な支持部と、上記支持部側面の長手方向に一列に立設配置され、かつ該支持部内部に設けられた吸引流路と連通する吸引流路を内部に有する連結管部と、上記連結管部の先端に取り付けられ連結管部からの吸引負圧により被吸着物を吸着する吸着板と、を有し、かつ、全吸着板は同一方向から半導体ウェーハの一主表面を吸着保持する、半導体ウェーハ吸着保持装置。 (もっと読む)


【課題】ワークの外側上面に旋回流を発生させてワークの中央部を負圧にして、ワークを非接触状態で吸引保持する際のワークの回転を防止する非接触搬送装置を提供する。
【解決手段】ワーク11の外側上面に旋回流を発生させて、ワーク11の中央部を負圧にして、ワーク11を非接触状態で吸引保持する保持手段13と、保持手段13の上部に固定された移動手段16と、保持手段13に取付けられ、保持手段13の上側及び周囲を覆って下方に開口したカバー手段17とを備えた非接触搬送装置10において、ワーク11は矩形であって、カバー手段17は、保持手段13の上側に配置され、複数本のガイド部材62によって保持手段13に対して上下動可能に設けられ、平面視して矩形の上遮蔽板55と、各ガイド部材62に装着されて上遮蔽板55を下方に付勢するバネ54と、上遮蔽板55の周囲に設けられ内側にワーク11が嵌入可能な側壁材56とを有する。 (もっと読む)


【課題】反りがある半導体ウエハに対して、安定して吸着することができ、かつ、半導体ウエハを平らに矯正することができる真空ピンセット。
【解決手段】本体2と、本体2の端部に設けられた支持部3と、一端が支持部3に接続され、他端に吸着部5を備えた複数の先端部材4と、を少なくとも備え、先端部材4と支持部3と本体部2の内部に吸引流路10a〜10cが設けられた、反りを有する平板状の被処理体用Wの真空ピンセット1Aであって、複数の先端部材4は、反りの形状に合わせるように、及び、反りを矯正するように、支持部3に対して可動であることを特徴とする真空ピンセット1A。 (もっと読む)


【課題】 トレイ上の処理済み基板と未処理基板との入れ替えを容易且つ正確に行うことができる基板入替装置を提供する。
【解決手段】 基板を保持して搬送する基板保持体213を備えており、基板保持体213は、基板の上面に圧縮気体を噴出してベルヌーイの原理により基板を非接触で保持する非接触保持部310と、基板の上面に当接して基板を吸着する接触保持部320と、非接触保持部310および接触保持部320を支持する支持体330と、非接触保持部310または接触保持部320のいずれか一方で基板を保持できるように接触保持部320に対して非接触保持部310を相対的に上下動させる保持部駆動手段340とを備える。 (もっと読む)


【課題】交互に基板を搬送するための2基の搬送機構を備える搬送装置であって、基板搬送時における基板の高さ精度が良く、かつ、基板の平行度が高い搬送装置を提供する。
【解決手段】搬送装置2は、搬送路10と、Y軸方向に延びるスライダーチャックガイド31及び32と、スライダーチャックガイド31及び32に沿って自在に移動するスライダーチャック41及び42とを備える。スライダーチャック41及び42の各々の上端面には、基板の下面に吸着する吸着面と、基板の下面にエア噴出する噴出口とが設けられている。スライダーチャックの各々は、基板の下面に吸着した状態で基板をY軸正方向に移動し、基板搬送後は、吸着状態を解除した状態でY軸負方向に復帰する。復帰時には、例えば、スライダーチャック41が基板62が通過する間、基板62の下面にエアを噴出して、基板62を浮上させる。 (もっと読む)


【課題】 保持能力の高い吸着治具を提供する。
【解決手段】 基体と、基体から突出して形成され、先端部に、当接位置の板状保持対象物の局所的形状に応じて変形可能で、板状保持対象物の受け口を構成する当接部材を備える3以上の吸着部と、吸着部の当接部材の形成位置から、吸着部及び基体の内部に形成され、基体の内部から外部に通じる吸気孔とを有する吸着治具を提供する。 (もっと読む)


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