【課題】基板サイズが大きくなっても、装置を大型にすることなく、基板に処理ができる基板処理装置および処理方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基板をテーブル面に載置して基板面の所望範囲に処理を施す基板処理装置において、テーブルには基板を搬送する搬送手段と、テーブルの載置面に載置した基板を吸着固定する手段を備え、テーブルの外郭には近接して、一つまたは複数のテーブル補助手段を有し、該テーブル補助手段は基板を搬送する手段と、基板をテーブル面と同一高さに支持する支持手段とを備え、基板をテーブル面と一つまたは複数のテーブル補助手段の支持手段に跨って載置可能に構成する。 （もっと読む）

【課題】パーティクルを排出するユニットとこれを含む基板移送装置を提供する。
【解決手段】隔壁はハウジングの内部に垂直方向に配置され、ハウジングの内部空間を第１空間及び第２空間に区分する。圧力発生部材は、第１空間を上部空間及び下部空間に区分し、上部空間及び下部空間内で正圧及び負圧が交互に発生するように第１空間内で垂直方向に移動する。基板支持部材は、第２空間内で移動可能に配置され、基板を支持して移送する。複数のゲートはハウジングの側壁及び隔壁に具備され、第２空間から第１空間を経て外部空間にパーティクルを排出するために正圧及び負圧によって開閉される。 （もっと読む）

【課題】スループットを低下させること、装置構成上の問題を伴うことなくフットプリントを小さくすることができ、処理の自由度が高い処理装置を提供すること。
【解決手段】 処理装置100は、ＬＣＤ基板Ｇを処理する複数の処理ユニットを備えた処理部２と、処理部２に対してカセットＣに対して基板Ｇを搬入出するカセットステーション１とを具備し、処理部２は、処理の順に、搬送ラインがＡ，Ｂ２列になるように配置された液処理ユニット21,23,24と、液処理に付随する熱的処理を行い、垂直方向に積層されて構成された複数の熱的処理ユニット62等と、熱的処理ユニットと同じ積層構成内に配置され、ＬＣＤ基板を通過させるパスユニット61等と、搬送ラインＡ，Ｂの間の空間部40と、この空間部40を移動可能に設けられ、基板Ｇを保持して移動させる基板保持・移動部材41とを有する。 （もっと読む）

【課題】基板処理装置の稼働率の低下を防止するとともに、半導体デバイスの生産量の減少を防止することができる容器交換システムを提供する。
【解決手段】容器交換システム２４は、フープ載置台１４を有するローダーモジュール１５の上方に配置されるフープ搬送装置１９を備え、フープ搬送装置１９は、レール１３に沿って走行する走行体２０と、該走行体２０の下方に設けられるホルダ２１と、ホルダ２１を走行体２０及びフープ載置台１４の間において昇降させるベルト２２とを有し、ホルダ２１が保持するフープ１１の昇降経路に進退出自在である載置板２７と、載置板２７の上方に配されるホイスト２６とを備え、ホイスト２６は、昇降経路に進退出自在であるアーム２９と、該アーム２９の下方に設けられるホルダ３０と、ホルダ３０をアーム２９及びフープ載置台１４の間において昇降させるベルト３１とを有する。 （もっと読む）

【課題】分断システムに対するガラス基板の供給をとぎれることなく能率よく供給する。
【解決手段】分断システムの板ガラス供給側に、実入りパレットＰを多段に搭載した移動ラックＥ、荷受けしたパレットを前後方向に走行させるコンベヤとからなる中間受け渡し装置Ｊ、昇降床上のコンベヤ１４から実入りパレットＰを乗り移らせる下段コンベヤ２５と空のパレットを乗り移らせる上段コンベヤ２４からなる上下二段コンベヤ、さらに空のパレットを送り込むリフト２６付コンベヤ２７及び吸引荷受け手段Ｌ付の移載機Ｍを並べて、逐次ガラス基板を連続供給する。 （もっと読む）

【課題】ストッカ内の入庫ラインと出庫ラインとの間で、かつスタッカクレーンと別に異なる階層間の搬送を可能とした階層間搬送用リフタを配設することで、スタッカクレーンによる作業に支障を与えず、かつ階層間搬送を効率的に行うことができる別階層工程間搬送システムを提供すること。
【解決手段】搬送ラインに沿って配設し、かつ搬送ライン側に入出庫口を備えたストッカで、ストッカ内の所定箇所へカセットＫの搬送及び移載を行うように走行可能としたスタッカクレーンＳと、カセットＫを一時保管するための搬送コンベアＣとを配設して、複数階層を同じ構成とした工程間搬送システムにおいて、ストッカ内でカセットＫの一時保管とライン搬送を行うための入庫ラインＬＩ及び出庫ラインＬＯ間で、かつスタッカクレーンＳと別に異なる階層間のカセット搬送を可能とした階層間搬送用リフタ４を配設して構成する。 （もっと読む）

【課題】偏荷重やモーメント荷重の影響を低減し、安定した昇降動作を実現可能な搬送装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る搬送装置Ａ１は、固定ベース１と、昇降ベース２と、昇降ベース２を昇降させる昇降機構３と、昇降ベース２に搭載された旋回ベース４と、旋回ベース４を鉛直状の旋回軸Ｏｓ周りに旋回させる旋回機構５と、旋回ベース４に支持された直線移動機構６と、直線移動機構６の作動によりワークを水平直線状の移動行程に沿って搬送するハンド７Ａ，７Ｂとを備える。昇降機構３は、固定ベース１に設けられたガイドレール３１１、および、昇降ベース２に設けられたガイド部材３１２からなるスライドガイド機構３１と、固定ベース１に配置されたネジ軸３２１、および、昇降ベース２に設けられたナット部材３２２を備えたネジ送り機構３２と、を備えて構成される。ネジ送り機構３２は、旋回軸Ｏｓを挟んで対向状に２つ設けられている。 （もっと読む）

【課題】薄板移送装置７の構成の簡略化及び薄板移送装置７の製造コストの低下を図ること。
【解決手段】前記第１処理ステーションと前記第２処理ステーションの間の移送ステーションに設けられた装置本体と、
前記装置本体に設けられ、薄板を浮上させる浮上ユニットと、
装置本体１７にＸ軸方向へ延びた複数の移送アーム３５がＸ軸方向へ移動可能かつＹ軸方向へ間隔を置いて設けられ、各移送アーム３５のＸ軸方向の一端側に、第１薄板処理装置３Ａ（３Ｂ，３Ｃ）から薄板Ｗを装置本体１７側に引き出すときに薄板Ｗの裏面を吸着する第１吸着パッド４７がそれぞれ設けられ、各移送アーム３５のＸ軸方向の他端側に、装置本体１７から薄板Ｗを第２薄板処理装置５Ａ（５Ｂ，５Ｃ）に送り出すときに薄板Ｗの裏面を吸着する第２吸着パッド４９がそれぞれ設けられたこと。 （もっと読む）

【課題】薄型基板の基板位置決め時に基板が受けるダメージ低減を実現する。
【解決手段】基板位置決め装置４０ａは、基板２を搬送する移載アーム５と、移載アーム５によって搬送された基板２を基板位置決め領域に位置決めする基板位置決め機構と、基板位置決め機構において位置決めされた基板２を次工程へ搬送する搬送ベルト６と、を備え、基板位置決め機構は、基板位置決め領域の外縁に沿って配置されたガイド１９・２０で構成されるガイドプレート部材９を有し、移載アーム５から降りてくる基板２を基板位置決め領域に収納する。 （もっと読む）

【課題】収納室に多数のワークを収納可能であって、収納室へ先に搬入されたワークから順に搬出する「先入先出」の機構の実現が可能であると共に、ワークが載置されるワークトレイの昇降をシリンダ機構により実現して、収納・搬送中のワークの汚損防止が可能なホールドエレベータ装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るホールドエレベータ装置は、ワークを一定姿勢で載置するワークトレイと、ワークトレイを収納室内で周回移動させるトレイ周回手段と、先にワークが保持されたワークトレイを支持し、後からワークが保持されたワークトレイが積層される際に該支持を開放するトレイ支持手段を備え、収納室へ先に搬入されたワークからワークトレイに載置してトレイ支持手段により一時的な支持を行いつつ、トレイ周回手段によりワークトレイを周回移動させて、先に搬入されたワークから順次、収納室から搬出される。 （もっと読む）

【課題】基板を傾斜させたり、傾斜した状態から水平に戻すとき、基板に衝撃を与えずに比較的速い速度で行なうことができる角度変換装置を提供することにある。
【解決手段】上面に基板が載置されるコンベアユニット３１を、アーム５５を介して支軸５６を支点として所定の傾斜角度から水平状態或いはその逆に回動させる駆動機構６１を具備し、駆動機構は、第１のガイド体６２に沿って移動する第１の可動体６３と、第２のガイド体７３に沿って移動する第２の可動体７４と、駆動シリンダ６５によって第１の可動体が第１のガイド体に沿う方向に駆動されたときに第１の可動体に枢着された一端を支点として回動しながら他端で第２の可動体を第２のガイド体に沿って駆動する第１のリンク７１と、第１のリンクによって第２の可動体が第２のガイド体に沿って駆動されたときに、第２の可動体とともに第２のガイド体に沿って移動しながら他端に連結されたアームを介してコンベアユニットを回動させる第２のリンク７７を具備する。 （もっと読む）

【課題】各アームを独立して動作させるとともに、各アームの上下方向の座標位置を同じにして、ワークの搬送時間等を短縮することができる産業用ロボットを提供する。
【解決手段】基台部１００側からアーム部２及びハンド部３の順で連結され、そのハンド部３を所定方向に向けながら伸縮自在に動作するアーム１０を２つ以上有する産業用ロボットであって、アーム１０Ａ，１０Ｂそれぞれは、アーム伸縮軸２Ａ，２Ｂを回動中心としてアーム１０Ａ，１０Ｂを伸縮させるアーム伸縮用駆動源４Ａ，４Ｂと、アーム旋回軸３Ａ，３Ｂを回動中心としてアーム１０Ａ，１０Ｂを旋回させるアーム旋回用駆動源５Ａ，５Ｂと、ハンド部１２の上下方向の座標位置Ｐ１，Ｐ２をほぼ同じにする連結部材１３Ａ，１３Ｂとを備えるように構成して、上記課題を解決した。 （もっと読む）

【課題】塗布、現像装置においてスループットを向上させること。
【解決手段】水平軸のまわりに回動し、回動軸が互いに平行になるように前後に配置された一対の回動体９１，９２と、これら回動体９１，９２の間に架け渡されて周回軌道に沿って移動し、その上に載置されたウエハＷの搬送路を形成する搬送路部材９と、前記搬送路の上流端に設けられた搬入用受け渡し部８１と、前記搬送路の下流端に設けられた搬出用受け渡し部８２と、前記搬送路の上流端と下流端との間に、ウエハＷを加熱するための熱板８３，８４を備える。 （もっと読む）

【課題】半導体製造工場内に備える天井走行車から処理装置へとコンテナを受け渡す工程において、天井走行車が処理装置による処理を天井走行車が待つことにより、工場全体のスループットが低下する不具合が生じていた。
【解決手段】天井走行車から一時コンテナを受け取って留置すると共に、留置したコンテナを重要度に応じて選択して処理装置等へ移載するために、天井走行車の下方であって処理装置の上方に天井から吊設して備えるコンテナの受渡、留置、並びに供給装置を提案する。 （もっと読む）

【課題】層状基板を搬送する為に搬送ローラを備えた真空コーティング設備において、少なくとも一方向で、チャンバ内部の対象物を自動的に移動させる装置を提供する。
【解決手段】キャリア１１は、板状に形成され、駆動システムによりローラ１２上の狭側下縁部で支持されている。間接駆動装置は電磁継手を利用するが、電磁継手は一部が真空チャンバ内、一部が真空チャンバ外に配置されている。垂直方向に作用する力を用いて、電磁継手の２つの構成部品は、互いにずらすことが可能である。さらに、キャリアを水平方向にずらすことも可能である。 （もっと読む）

【課題】把持ブロックを循環方向に垂直な方向へ移動させることができるようにして、１つのテストトレイ移送装置がテストチャンバ内で行われるテストトレイの移送を全て行えるようにすると共に、プッシュユニットとの干渉を最小化させることのできる技術を提供する。
【解決手段】本発明は、一定の循環経路を循環する前後２枚のテストトレイのうち前のテストトレイを把持したり、把持を解除した状態で前記循環経路上の循環方向へ移動可能なように設けられる第１把持ブロックと、前記第１把持ブロックと一定間隔離間するように設けられ、前記前後２枚のテストトレイのうち後のテストトレイを把持したり、把持を解除した状態で前記循環経路上の循環方向へ移動可能なように設けられる第２把持ブロックと、前記第１把持ブロック及び第２把持ブロックが前記２枚のテストトレイを把持及び把持を解除するように作動させる把持ブロック作動装置と、前記第１把持ブロック及び第２把持ブロックを前記循環経路上で共に移動させる把持ブロック移動装置とを含む。 （もっと読む）

【課題】搬送される基板の先端部及び後端部で発生する振動の発生を抑制し、高精度の処理を施す基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板搬送方向に沿って順に配置された第１の小ステージ４１と第２の小ステージ４２と第３の小ステージ４３とにより構成され、基板Ｇの下方に所定のガス流を形成して該基板を浮上させるステージ３５と、ステージ３５上に浮上した基板Ｇを保持し、該基板Ｇを一方向に搬送する基板搬送手段３６と、第２の小ステージ４２の上方に設けられ、浮上搬送される基板Ｇに対し所定の動作を実施する処理具３７とを備え、第２の小ステージ４２は、第１の小ステージ４１と第３の小ステージ４３との間を搬送路に沿って移動可能に設けられ、処理具３７による基板Ｇに対する動作開始後または動作終了前の所定期間において、第２の小ステージ４２は、第１の小ステージ４１から第３の小ステージ４３に向けて、基板Ｇの搬送速度に同期して移動する。 （もっと読む）

【課題】 フットプリントを大きくすることなく、大型の基板であっても基板全体で均一な液処理を行うことができる液処理装置と液処理方法を提供すること。
【解決手段】 基板Ｇを略水平姿勢で、導入ゾーン２４ａから現像液供給ゾーン２４ｂを介して現像液除去ゾーン２４ｄへ搬送する搬送機構１４と、現像液供給ゾーン２４ｂにおいて、現像液吐出ノズル５１ａから現像液を吐出して基板Ｇ上に現像液を供給する現像液供給機構６０と、を備え、現像液供給機構６０を、現像液吐出ノズル５１ａを基板Ｇ上で水平移動させながら、基板Ｇ上に現像液を供給するように構成し、搬送機構１４を、現像液供給ゾーン２４ｂにおいて、基板Ｇの搬送を停止、または基板Ｇの搬送速度を現像液供給ゾーン２４ｂへの基板搬送速度よりも遅くするように構成する。 （もっと読む）

基板を真空中で処理するためのインライン真空処理装置は、少なくとも１つのロードロックチャンバ（１０）と、本質的に同じセットの被覆パラメータで操作される少なくとも２つの後続蒸着チャンバ（４−７）と、少なくとも１つのアンロードロックチャンバ（１０）と、加えて、さまざまなチャンバを通しておよびさまざまなチャンバ内で、基板を移送し、後処理し、および／または取扱うための手段とを含む。そのような処理システムにおいて基板上に薄膜を蒸着する方法は、第１の基板をロードロックチャンバ内に導入するステップと、上記チャンバ内の圧力を下げるステップと、基板を第１の蒸着チャンバ内に移送するステップと、第１の材料の層を被覆パラメータの第１のセットを用いて上記第１の基板上に蒸着するステップと、上記第１の基板を上記インラインシステムの第２の後続蒸着チャンバ内に真空を破壊することなく移送するステップと、上記第１の材料のもう１つの層を実質的に同じセットのパラメータを用いて上記第１の基板上に蒸着するステップとを含む。ステップｆ）と同時に、第２の基板がステップｄ）に従って上記インライン真空システムにおいて処理されている。
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【課題】 本発明は、板状基体に対する気体の噴出によって、板状基体を浮上した状態にし、この状態で板状基体を移動、停止、静止および方向転換させる場合、重い板状基体でも、移動および方向転換を高速で行うことができ、かつ、確実に板状基体を停止させることができる浮上搬送装置および浮上搬送システムを提供する。
【解決手段】 搬送面に設けられた複数の噴出孔１１Ｂを具備し、噴出孔１１Ｂから噴出する気体によって、板状基体を浮上させた状態で移動させる移送部１と、搬送面に設けられた複数の噴出孔を具備し、この噴出孔から噴出する気体によって、板状基体を浮上させた状態で移動、停止、静止および方向転換の少なくとも１つを行う制御ユニットとを組み合わせた浮上搬送システムにおいて、浮上している板状基体を押して移動させる移動手段（移動装置１３）を移送部１に設けた。 （もっと読む）