【課題】基板を一方向に移動させながら塗布液を塗布する塗布方式において、基板を受け渡して保持する際に基板の流れが止まることを回避することが可能な技術を提供すること。
【解決手段】塗布処理装置２３ａは、基板Ｇを保持して一方向に搬送するベルト搬送機構１２と、ベルト搬送機構１２の上方に設けられ、搬送されている基板Ｇに塗布液を吐出する塗布液吐出ノズル１４と、基板Ｇを一方向に搬送してベルト搬送機構１２に搬入する搬入側搬送部１３と、ベルト搬送機構１２から基板Ｇを一方向に搬出する搬出側搬送部１５とを具備し、ベルト搬送機構１２は、多数の吸着孔５７が形成された吸着搬送ベルト５１と、吸着搬送ベルト５１が巻き掛けられる一対の搬送ロール５２と、搬送ロール５２を駆動させる駆動機構５３と、吸着搬送ベルト５１の吸着孔５７を介して基板Ｇを吸引する吸引機構５５とを有する。 （もっと読む）

【課題】 ダブルアーム型ロボットの旋回半径を小さくする。
【解決手段】 関節部３，４，５により回転可能に連結されて回転駆動源による回転力を伝達し所望の動作をさせるアーム２を二組備えてなるダブルアーム型ロボット１において、アーム２を構成する上腕６と前腕７とを伸ばしきった伸長位置と上腕６と前腕７とを折り畳みハンドを引き込んだ縮み位置との間を移動するようになされ、アーム２を縮み位置に移動させたときに、当該アーム２に取り付けられたそれぞれのハンド部８がアーム２の基端の関節部３の間に位置し、かつ、二組の肘関節部４を二組ともにハンド部８の移動方向に関して同方向でかつ水平方向側方に突出させ、ハンド部８の移動方向に関して肘関節部４が突出する方向と反対側に移動機構１１を配置するようにしている。 （もっと読む）

【課題】 生産性の高いバッチ式研磨装置にてナノトポグラフィの悪化を抑制するとともに、ベースプレートからウエハを剥離する際、ウエハに損傷を与えることなく剥離できるウエハ剥離装置及び研磨ライン装置を提供する。
【解決手段】ベースプレート１１と、前記ベースプレート１１上の所定の位置に設けられ、貼付されるウエハＷの裏面と側周部に面接触するテンプレート９と、前記テンプレート９及びベースプレート１１に形成された貫通する複数の貫通穴１１ａと、前記貫通穴１１ａに挿通可能に設けられ、テンプレート９上方に突出可能な複数の押し上げピン６ｃと、前記複数の押し上げピン６ｃを昇降動作させる昇降手段６ｂとを備え、前記昇降手段６ｂによって押し上げピン６ｃを上昇させて、テンプレート９上に貼付されたウエハＷの裏側を押し上げ、前記ウエハＷをベースプレート９から剥離する。 （もっと読む）

本発明は、製造設備内で半導体コンテナ（２）を輸送するためのコンベア（１００）を含む。一実施形態では、コンベアは、複数の独立制御のコンベア領域（Ｚ）を含む。各コンベア領域は、第１のベルト（１１０）、第２のベルト（１１２）、第１のベルト及び第２のベルトを略同一速度で回転させる駆動組立体（１３８）を含む。第１のベルト及び第２のベルトは、略同一速度で駆動され、コンベアに沿ってコンテナが移動するときに、コンテナの底プレートを移動可能に支持する。他の実施形態では、コンベアは、とりわけコンテナの位置を決定するセンサ（２００）を含む。
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【課題】工程内容器搬送にトレイを使用したコンベア搬送装置において、他の異なる工程
間搬送装置との容器受渡を効率的に行う。
【解決手段】前記工程内搬送装置の搬送経路と前記工程間搬送装置の搬送経路の一部を並
設させ、そこにおいて工程内搬送装置と工程間搬送装置間における容器の受け渡しを行う
搬入出ポートを複数設ける。さらに搬入出ポートは工程内搬送経路から退避した位置に設
けられており、複数の搬入出ポートを選択的に使用して容器の受け渡しを行うことで工程
間搬送装置及び工程内搬送装置に支障を来たさず、スムーズに効率的かつ容器の移載を行
うことができる。 （もっと読む）

本発明は、枚葉単位のウエハをＢＡＹ内に供給したり、ＦＯＵＰに詰替えするステーション４、半導体製造装置に取りつけれたＥＦＥＭ６、ＥＦＥＭ−ステーション間とのクリーン領域を共通にするクリーントンネル７、クリーントンネル内でウエハを搬送する枚葉コンベア３、枚葉コンベア３、ステーション４、ＥＦＥＭ６を及び製造装置５０〜５４を制御する制御システムＣＳとを備えたワーク枚葉処理システムにおいて、正常処理に加えて、代替ＢＡＹ処理、ウエハの高効率回収処理、仮想ロードポート処理、ウエハの一斉回収処理制御を可能にし、その具体的な処理手順を明確にしたものである。
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【課題】部品検査装置と複数のトレイとの間で電子部品を移動させるにＩＣハンドラーにおいてタクトタイムを短縮する。
【解決手段】多数の電子部品５が収納されたトレイＴが位置付けられるトレイ支持装置１２を備える。電子部品５が装填される検査用ソケット６を備える。この検査用ソケット６と前記トレイ支持装置１２との間で電子部品５を移動させる第１および第２の部品移動装置３，４を備える。前記トレイ支持装置１２は、平面視において前記検査用ソケット６から離間する方向とは直交する方向（Ｘ方向）に複数並べて設けられる。前記第１および第２の部品移動装置３，４は、前記トレイ支持装置１２のトレイＴと検査用ソケット６との間で電子部品５を放すことなく吸着しながら移動する吸着ノズルを備えている。 （もっと読む）

【課題】この発明はタクトタイムの短縮化を計ることができるようにしたロボット装置を提供することを目的とする。
【解決手段】半導体ウエハＵを受け渡すためのロボット装置において、
取付体１３と、取付体に回転自在に設けられたア−ム体３１と、ア−ム体を回転駆動する駆動源１５と、取付体に設けられア−ム体の回転中心部に位置した固定プ−リ３８と、ア−ム体の両端部に回転自在に設けられた一対の回転プ−リ４１、４２と、各回転プ−リに一端部が取り付けられ回転プ−リとともに回転してワ−クを搬送する一対のフィンガ４７、４８と、固定プ−リと回転プ−リとにわたって設けられ駆動源によってア−ム体を回転させたときに固定プ−リと回転プ−リとの外径寸法比に応じて回転プ−リを回転させるタイミングベルト４３とを具備したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】半導体用基板（ウエハ）への各種表面処理のため、多くのステーションを複数の工程内環状軌道に分散配置し、各工程内環状軌道と連係する工程間環状軌道を備えた懸垂式昇降搬送装置用台車の搬送システムにおいて、特定の工程内環状軌道相互間における懸垂式昇降搬送装置用台車の流通が多い場合であっても、工程間環状軌道を走行する懸垂式昇降搬送装置用台車の円滑な走行を維持する。
【解決手段】懸垂式昇降搬送装置用台車２の流通が多い所定の異なる工程内環状軌道１ｂ、１ｅ相互間において、コンベアシステム５を設け、当該コンベアシステム５の両端部において夫々工程内環状軌道１ｂ、１ｅの懸垂式昇降搬送装置用台車２との被搬送物（ＦＯＵＰ）８の授受が行えるようにした。 （もっと読む）

【課題】ほぼ平坦な基板を基板テーブルに装填したり、取り出したりする基板ハンドラを提供するシステムおよび方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射線ビームを調整する照明システム、放射線ビームを変調するパターニングデバイス、基板を支持する基板テーブル、および変調した放射線ビームを基板の目標部分に投影する投影システムを有する。リソグラフィ装置はさらに、基板を基板テーブルに装填したり、そこから取り出したりする基板ハンドラを有する。基板ハンドラは、支持面で基板を支持し、支持面にほぼ平行な方向に基板を移動させるコンベヤデバイスを有する。コンベヤデバイスは、示した方向に基板を押すか、引くように構成された把持デバイス、および示した方向に把持デバイスを駆動する駆動デバイスを有する。 （もっと読む）

【課題】被処理板を収納するカセットの保管用自動倉庫と当該カセットから取り出した被処理板の加工処理を行う処理装置とが組み合わされた設備におけるカセット内の被処理板の支持位置の検出を自動倉庫内での搬送中に行えるようにする。
【解決手段】複数枚の被処理板を多段に収納するカセットＫを立体的に保管するカセット保管棚２５Ａと、この保管棚２５Ａに沿って走行可能で昇降キャレッジ６上にカセット移載手段７を備えた入出庫装置１と、この入出庫装置１により出庫されたカセットＫから被処理板を１枚ずつ取り出して処理装置３０Ａに供給する被処理板取り出し・搬入装置３１Ａとを備えたカセット保管及び被処理板の処理設備であって、前記入出庫装置１の昇降キャレッジ６上に、保管棚２５Ａ内からこの昇降キャレッジ６上に移されたカセットＫ内の被処理板のマッピングデータを得るための被処理板検出装置４２が搭載された構成。 （もっと読む）

【課題】流体を用いて物体を浮上させつつ搬送する搬送装置において、ワークが存在していない部位で、圧縮流体が速い流速で噴出することを抑制しつつ前記ワークを搬送する。
【解決手段】ベース部材７と、物体Ｗを浮上させるための流体が入るチャンバー９と、チャンバー９の流体の入り口に設けられた絞り要素１１と、チャンバー９に連通し開口部１５がベース部材７の上面に設けられ物体Ｗを浮上させるための流体を噴出する流体噴出孔１３とを具備する浮上装置３と、浮上装置３で浮上する物体Ｗを搬送するために物体Ｗに力を加える搬送力付与手段５とを有する。 （もっと読む）

【課題】 シリコンウエハなどのワークピースを集積回路製造ツールに対して配置するための装置および方法。
【解決手段】 ツールに対して取付けられたロボットアームは、ワークピースをそのツールの内外に移動させる。スペーサは、ツールから離れた方向に露出するスペーサ表面を有している。スペーサ表面の位置は、ツールに対して調整可能となっている。可動カセット支持体は、一つまたはそれ以上のワークピースを支持するもので、スペーサ表面と隣接して配置される。このカセットの支持表面上には、オーバーヘッド移送コンベヤなどのコンベヤシステムが、後にツールによって処理されるワークピースを収容したカセットを供給する。
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【課題】搬送能力の向上及び搬送時間を短縮すると共に、自動保管庫内の製品在庫の削減と自動保管庫の設置台数を削減することを可能にする。
【解決手段】 複数の半導体ウェハからなる製品を収納する収納容器１０を自動搬送させるための天井軌道走行レール１と、天井軌道走行レール１を走行して収納容器１０を移載するホイストを備えた複数の搬送台車２と、搬送台車２から受け渡された収納容器１０を移動させるコンベア３と、コンベア３と製品の処理を行う生産装置７前に設置されたロードポート９との間で収納容器１０の移載を行う移載機４と、天井軌道走行レール１と連結し、搬送台車２により搬送された収納容器１０を格納する自動保管庫５と、天井軌道レール１と生産装置７の間に設置され搬送台車２で搬送された収納容器１０を仮置きするための仮置き棚６とからなる。この構成により搬送時間を短縮することができる。 （もっと読む）

一実施形態において、本発明は、第１軸運動に沿って位置決め可能なキャリッジと、上記キャリッジに結合され、第１軸運動と実質的に直交して向けられた第２軸運動に沿って上記キャリッジに関し位置決め可能な第１基板グリッパと、上記キャリッジに結合され、上記第２軸運動に対し実質的に平行に向けられた第３軸運動に沿って上記キャリッジに関し位置決め可能な第２基板グリッパと、を備える基板ハンドラであって、上記第２グリッパは、第１グリッパに関し独立して移動可能である、上記基板ハンドラを提供する。
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【課題】エージング装置に適用でき，パレットをラックの棚に簡単に的確に入出庫させ，エージングの処理を高速化して適正な時間管理を容易にする自動倉庫を提供する。
【解決手段】棚６を備えたラックにスタッカクレーン２でパレット８を入出庫させるプッシュ・プル装置１０を備えている。プッシュ・プル装置１０は，パレット８を棚６への押し込み作動と棚６から引き出す作動とを行うプッシュ・プル爪１２，プッシュ・プル爪１２の往復移動を直動案内装置を介して往復移動させる駆動装置，及びプッシュ・プル爪１２をパレットへの係脱位置と解除位置とにチルトさせるリンク機構を有する。 （もっと読む）

【課題】ストッカ自体を大幅に改造することなく搬送効率を高めることが可能な搬送システムを提供する。
【解決手段】搬送機構１２０は、ストッカ１１０に隣接して一対に設置されている。搬送機構１２０は、ＡＧＶ６００から受け取ったカセット５００を載置するための台１２６と、台１２６から鉛直方向に延在する軸１２４と、軸１２４に沿ってカセット５００を上方向に搬送可能な１個のアーム１２２とを有している。アーム１２２は、ＡＧＶ６００から受け取ったカセット５００を、上方向に搬送し、ストッカ１１０を介することなくＯＨＳ３２０に渡すためのものである。 （もっと読む）

【課題】 基板周囲の雰囲気を清浄に保ったまま搬送するに際しての空調エネルギーの削減を図ることが可能な技術を提供する。
【解決手段】 基板Ｗに対して所定の処理を行う複数の処理装置１０の配置位置に沿うように搬送経路が構成され、基板Ｗを、各処理装置１０それぞれに対応した受け渡し準備位置Ｐ１に間欠搬送するコンベア３０を備え、コンベア３０には、基板Ｗを気密に収納する基板収納容器５０が着脱自在に装着され、基板Ｗを基板収納容器５０に収納した状態で受け渡し準備位置Ｐ２に搬送する。 （もっと読む）

【課題】 走行する際の物品の姿勢の崩れを抑え、且つ、物品の移載を円滑に行うことができる搬送車を提供する。
【解決手段】 物品Ｙを載置支持する載置台７を車体５に備え、載置台７の載置面が水平又は略水平姿勢となる水平状態、及び、載置台７の載置面が傾斜姿勢となる傾斜状態に切り換え可能な姿勢変更手段６を備える。 （もっと読む）

【課題】吸気圧力の変動が小さいステージ装置と、このステージ装置を備えた塗布処理装置を提供する。
【解決手段】 レジスト塗布装置２３ａは、基板Ｇを浮上搬送するためのステージ２００を有するステージ装置１２と、ステージ２００上で基板ＧをＸ方向に搬送する基板搬送機構１３と、ステージ２００上で浮上搬送される基板Ｇの表面にレジスト液を供給するレジスト供給ノズル１４を備えている。ステージ２００は、小ステージ２０１ａ〜２０３ａ・２０１ｂ〜２０３ｂから構成され、小ステージ２０２ａ・２０２ｂでは、ガス噴射口１６ａと吸気口１６ｂを、基板ＧのＸ方向先端が同時に所定数の吸気口１６ｂを覆うことがなく、かつ、基板ＧのＸ方向後端が同時に所定数の吸気口１６ｂを大気開放させることがないように、Ｙ方向に対して角度θだけずれた方向に所定の間隔で設けた。 （もっと読む）