本発明による貯蔵システムは、処理すべき基板を取扱うために用いられるツールの高さよりも高い高さに位置決めされた貯蔵システム組立体を有する。貯蔵システムは、基板用の１つ又は２つ以上の容器を局所的に貯蔵する。貯蔵システム組立体は、複数の貯蔵棚を含み、複数の貯蔵棚の各々は、容器を支持する棚特徴部を備えた棚プレートを有し、チェーンに結合されて水平方向に移動可能であり、レールに結合されて１つ又は２つ以上の位置まで案内される。モータが、チェーンを移動させるように駆動スプロケットに結合され、複数の貯蔵棚の各々は、レールに沿って１つ又は２つ以上の位置まで一緒に移動する。
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基板用輸送システムであって、基板をその上で受け取るための少なくとも１本のベルトと、ベルト上に離間距離で配置される保持器であって、その離間距離が少なくとも基板の幅と同程度に幅広く、基板が保持器にぶつかるときに、基板が摺動するのを妨げるのに十分である、ベルト上方の隆起まで上昇する保持器と、ベルトを移動するためのモータと、ベルトが加速するよりもベルトが速く減速するように、ベルトの非対称な加速および減速を提供し、それによって連続する加速サイクルおよび減速サイクルを通して保持器に対して基板を位置合わせするための運動コントローラとを有する輸送システム。 （もっと読む）

本発明は、貯蔵システム及び貯蔵システムの作動方法に関する。貯蔵システムは、処理すべき基板を取扱うために用いられるツールの高さよりも高い位置に位置決めされた貯蔵システム組立体を有する。貯蔵システムは、基板用の１つ又は２つ以上の容器を局所的に貯蔵する。貯蔵システム組立体は、複数の貯蔵棚を含み、複数の貯蔵棚の各々は、容器を支持する棚特徴部を備えた棚プレートを有する。複数の貯蔵棚の各々は、チェーンに結合されて水平方向移動可能であり、レールに結合されて１つ又は２つ以上の位置まで案内される。モータが、チェーンを移動させる駆動スプロケットに結合され、複数の貯蔵棚の各々が、レールに沿って１つ又は２つ以上の位置まで一緒に移動する。レールは、直線状の少なくとも幾つかの直線部分と、幾つかの非直線部分を有し、直線部分及び非直線部分は、ループをなして配置される。
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【課題】 本発明は、前述の問題を解決することができる、新規な構成の浮上搬送装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 気体を噴出させて、基板を浮上させる浮上ユニットを有する押圧搬送ユニットと、受け搬送ユニットとを備えた第１の浮上搬送装置に連接して、気体を噴出させて、基板を浮上させる浮上ユニットを有する押圧搬送ユニットと、受け搬送ユニットとを備えた第２の浮上搬送装置とを具備したことを特徴とする浮上搬送装置。 （もっと読む）

【課題】 半導体ウエハが収容された状態で意図せず乾燥してしまうことを防止することが可能なウエハ搬送方法およびウエハ搬送装置を提供すること。
【解決手段】 コンベア１によって搬送されるウエハＷｆを収容カゴ３に収容する、ウエハ搬送方法であって、コンベア１によって鉛直方向と異なる方向に搬送されるウエハＷｆを、方向転換器２によってその面内方向が鉛直方向に沿い、かつ鉛直方向下方に進行するようにウエハＷｆの進行方向を転換した後に、ウエハＷｆを、液体Ｌｑ中に配置されかつ鉛直上方に開口する収容カゴ３に収容する。 （もっと読む）

【課題】 たとえばワイヤソーによる切断の後に、人手を介することなく半導体ウエハを１枚ずつ分離することが可能なウエハ搬送方法およびウエハ搬送装置を提供すること。
【解決手段】 積み上げられた複数枚のウエハＷｆを搬送するウエハ搬送方法であって、液体中に置かれた複数枚のウエハＷｆのうち最上位にあるものと対向する位置に、ウエハＷｆを受け取り可能な吸着コンベア２を配置し、最上位にあるウエハＷｆと吸着コンベア２との隙間に液体の流動を発生させることにより、上記隙間の圧力低下を利用して最上位のウエハＷｆを吸着コンベア２へと移動させる。 （もっと読む）

【課題】搬送先が異なる基板が混在する場合であっても、搬送経路の外に基板を移動させずに搬送ラインにおける基板の滞留を抑制すること。
【解決手段】２種類の基板Ａ１０１、基板Ｂ１０１が搬入される搬送ライン３と、基板Ａ１０１に対する処理を行うプロセス装置９との間に、ランダムアクセスバッファ装置５を介設する。そして、搬送ライン３に搬入した基板Ａ１０１、基板Ｂ１０１を、搬入側の基板支持機構１２によってランダムアクセスバッファ装置５の空いている保持部１１に順次挿入する。搬出側の基板支持機構１２では、基板Ａ１０１のみを保持部１１から取り出して、搬入用のコンベアＣＶを介してプロセス装置９に払い出す。保持部１１から基板Ａ１０１を全て払い出したならば、プロセス装置９を、基板Ｂ１０１に対する処理を行うものに入れ替えて、残る基板Ｂ１０１を全て保持部１１からプロセス装置９に払い出す。 （もっと読む）

【課題】基板昇降移送装置７の平面スペースを十分に削減して、工場のスペースの有効利用を図ること。
【解決手段】第１基板処理装置３の一側に第１姿勢切替用保持具３７を備えた第１姿勢切替部材２９が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、第２基板処理装置５の一側に第２姿勢切替用保持具４９を備えた第２姿勢切替部材４１が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、第１姿勢切替部材２９の一側に立設した支持フレーム５３に上下方向へ延びた無端状部材６３が循環走行可能に設けられ、無端状部材６３に複数の昇降用保持具６９が周方向に間隔を置いて設けられたこと。 （もっと読む）

【課題】仕分けする基板の種類の数が仕分けポートの数より多い場合にも、効率を低下させずに仕分けすることができ、また、ある仕分けポートのカセットが満杯になったときにも、搬入ポートからの基板の流れを停止させる必要がない基板仕分け装置を提供する。
【解決手段】搬入ポートに設置されカセットＣ１，Ｃ２に収納された基板１０１を一時的に保持する搬入側バッファ装置Ｂ１，Ｂ２と、搬入側バッファ装置Ｂ１，Ｂ２に保持された基板１０１を一枚ずつ仕分けポートのいずれかに搬送する搬送装置１と、各仕分けポートに設置され搬送装置１により搬送された基板１０１を一時的に保持する搬出側バッファ装置Ｂ３〜Ｂ１１とを備え、搬入側バッファ装置Ｂ１，Ｂ２及び搬出側バッファ装置Ｂ３〜Ｂ１１のうちの少なくとも１台を、ランダムアクセスバッファ装置とする。 （もっと読む）

【課題】基板処理を効率的に行い、スループットを向上する。
【解決手段】一対の回転軸２，３と、前記一の回転軸において所定間隔を空けて軸周りに回動自在に設けられた一対の第一滑車部材４と、前記他の回転軸において所定間隔を空けて軸周りに回動自在に設けられた一対の第二滑車部材５と、基板搬送方向に相対向する前記第一滑車部材と第二滑車部材との間に掛け回され、前記第一滑車部材及び第二滑車部材の回転により基板搬送路の左右両側において周回軌道に沿って移動自在に設けられ、前記被処理基板の左右両縁部がそれぞれ載置される一対の第一無端駆動部材６，７と、前記一対の第一無端駆動部材間に並列して架設され、前記被処理基板の中央部を支持する複数の線状部材８と、前記回転軸を軸周りに回転させる駆動部１４と、基板搬送路に設けられ、複数の基板支持部材２６により前記被処理基板を所定位置に支持する基板受け渡し機構２０とを備える。 （もっと読む）

【課題】構造を簡易にでき、占有面積を小さくできる枚葉式の基板搬送装置を提供すること。
【解決手段】枚葉式の基板搬送装置５は、第１枚葉ハンド４５、第２枚葉ハンド４６、第１進退機構、第２進退機構、一体移動機構、相対移動機構、および枚葉ハンド移動機構を備えている。第１進退機構は、第１水平方向Ｄ１に向かって第１枚葉ハンド４５を進退させることができ、第２進退機構は、第１水平方向Ｄ１と正反対の第２水平方向Ｄ２に向かって第２枚葉ハンド４６を進退させることができる。一体移動機構は、第１および第２枚葉ハンド４５，４６を鉛直方向に一体移動させることができ、相対移動機構は、第１および第２枚葉ハンド４５，４６を鉛直方向に相対移動させることができる。枚葉ハンド移動機構は、第１および第２枚葉ハンド４５，４６をＸ方向に一体移動させることができる。 （もっと読む）

【課題】基板搬送装置において、安定した平流し搬送を行うことができ、且つ、基板処理を効率的に行う。
【解決手段】被処理基板Ｇを平流し搬送する基板搬送装置１であって、水平方向に軸架され、且つ平行に配置された一対の回転軸２，３と、前記一の回転軸において所定間隔を空けて軸周りに回動自在に設けられた一対の第一滑車部材４と、前記他の回転軸において所定間隔を空けて軸周りに回動自在に設けられた一対の第二滑車部材５と、基板搬送方向に相対向する前記第一滑車部材と第二滑車部材との間に掛け回され、前記第一滑車部材及び第二滑車部材の回転により基板搬送路の左右両側において周回軌道に沿って移動自在に設けられた一対の第一無端駆動部材６，７と、前記一対の第一無端駆動部材間に、上方に弓形に曲がった状態で並列して架設され、弾性を有する複数の線状部材８と、前記回転軸を軸周りに回転させる駆動部１４とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板の搬送装置を安価に製造し、基板処理システムの製造コストを低廉化する。
【解決手段】塗布現像処理システム１は、ウェハＷを搬送ラインＡに沿った方向に搬送するウェハ搬送装置５０を有している。ウェハ搬送装置５０は、搬送ラインＡに沿った方向に並べて配置された複数の搬送ロール１００を有している。搬送ロール１００は回転自在に構成されている。複数の搬送ロール１００には、シート１０１が巻回されている。シート１０１は、耐熱性と熱伝導性を有している。搬送ラインＡには、複数の処理装置４１〜４５が搬送ラインＡに沿った方向に配置されている。各処理装置４１〜４５は、ウェハ搬送装置５０のシート１０１上に載置されたウェハＷに所定の処理を行う。 （もっと読む）

【課題】装置の設置床面から低い位置で基板を搬送するとともに、装置全体を簡単な構造にすることができる基板搬送装置を提供することを課題とする。
【解決手段】基板搬送装置１であって、ハンド部材３０と、上下スライド機構４０と、横スライド機構５０と、を備え、上下スライド機構４０は、旋回ベース部材２０に取り付けられた上下スライド用固定レール４１と、上下スライド用固定レール４１に取り付けられた横スライド用可動レール４２と、を備え、横スライド機構５０は、旋回ベース部材２０に取り付けられた横スライド用固定レール５１と、横スライド用固定レール５１に取り付けられた上下スライド用可動レール５２と、を備え、上下スライド機構４０はハンド部材３０に対して一方の側部に配設され、横スライド機構５０はハンド部材３０に対して他方の側部に配設されている。 （もっと読む）

【課題】真空搬送室内において基板搬送手段を冷却する冷却ブロックを設けることにより、基板搬送手段における蓄熱を防止することである。
【解決手段】予備真空室（ロードロック室２２，２３）と複数の真空処理室２５Ａ〜２５Ｄとの間で基板を搬送するために真空搬送室（第２の搬送室２４）に設けられた基板搬送手段（第２の搬送アーム３）を備え、前記第２の搬送室２４内における加熱した状態で真空処理が行われる真空処理室２５Ｂ，２５Ｃの搬送口に臨む位置において、前記第２の搬送アーム３の保持アーム３３が前記真空処理室２５Ｂ，２５Ｃに対して進退するときに、その表面が当該保持アーム３３に接近して設けられると共に、その表面を冷却するための冷却手段を備えた冷却ブロック５１を設けると共に、前記保持アーム３３と前記冷却ブロック５１の表面との間に熱伝導ガスを供給するための熱伝導ガス供給手段を設ける。 （もっと読む）

【課題】たとえばワイヤソーによる切断の後に、人手を介することなく半導体ウエハを１枚ずつ分離することが可能なウエハ搬送方法およびウエハ搬送装置を提供すること。
【解決手段】積み上げられた複数枚のウエハＷｆを搬送するウエハ搬送方法であって、液体Ｌｑ中に置かれた複数枚のウエハＷｆのうち最上位にあるものを吸着した状態で、このウエハＷｆをその面内方向にスライドさせる吸着スライド手段としての吸着コンベア２によって、最上位のウエハＷｆから順に搬送する。 （もっと読む）

【課題】駆動手段を密閉空間に収容してその配置自由度を高めるとともに、密閉空間に収容された駆動手段でも効率よく冷却することができるワーク搬送装置を提供する。
【解決手段】ワークを搬送するためのハンド機構と、ハンド機構の駆動源となるスライド用駆動モータ８２Ｃ，８２Ｄとを備えたワーク搬送装置であって、スライド用駆動モータ８２Ｃ，８２Ｄを収容した状態で隔壁蓋８２Ｂにより開口が閉じられる密閉ボックス８２を備え、隔壁蓋８２Ｂは、外板部材８２１と内板部材８２２とを重ね合わせて接合された構造からなり、これら外板部材８２１と内板部材８２２との接合面部分に冷媒循環用の流路Ｒが形成されている。 （もっと読む）

本発明は、排気され得る少なくとも１つのプロセスチャンバ（０２）と、少なくとも１つの入口開口（１０）および少なくとも１つの出口開口（１１）とを備える真空被膜システム（０１）に関する。プロセスチャンバ（０２）を通過しながら被膜されるウェハ要素（０３）は、入口開口（１０）および出口開口（１１）を経てプロセスチャンバ内に送り込まれ、かつそこから取出されることができる。パドルバルブ閉止経路に沿って開放位置と耐圧に閉止される位置との間で調節され得るパドルバルブ（０８，０９）は、入口開口（１０）および出口開口（１１）上にそれぞれ設けられる。ウェハ要素（０３）を搬送する目的で、少なくとも３つの搬送装置（０４，０５，０６，０７）を有する搬送システムが設けられ、第１の搬送装置（０４，１７）は入口開口（１０）の上流に配置され、第２の搬送装置（０５，１７）はプロセスチャンバ（０２）内に配置され、第３の搬送装置（０６，１７）は出口開口（１１）の下流に配置される。各搬送装置（０４，０５，０６，１７）は、ウェハ要素（０３）を上方から載置し、かつ、搬送要素（１４，１８）を回転駆動することによりウェハ要素（０３）を搬送方向（０７）に真空被膜システム（０１）内を通して引き渡すことのできる、少なくとも１つの回転搬送要素（１４，１８）を備える。搬送システムは、入口開口（１０）および／または出口開口（１１）に調節可能な移動搬送装置（１２，１３，１６）を有し、移動搬送装置は、移動位置とアイドル位置との間で調節可能であり、移動搬送装置（１２，１３，１６）の移動位置においては、ウェハ要素（０３）を、開放されている入口開口または開放されている出口開口を経て、１つの搬送装置（０４，０５，０６，１７）から引き渡し方向（７）の下流の次の搬送装置に移動させることができ、移動搬送装置（１２，１３，１６）のアイドル位置においては、パドルバルブ閉止経路に沿って関連のパドルバルブ（０８，０９）を調節することにより、入口開口（１０）および／または出口開口（１１）を開放または閉止することができる。
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【課題】加熱処理などを処理対象部材に均一に実行できる部材処理装置を提供する。
【解決手段】対象支持フォーク１２０で処理対象部材ＧＢを対象待機位置ＷＰから対象処理位置ＢＰまで前進させ、対象支持フォーク１２０を複数の前後張架線材１０１より下方まで相対移動させることで、左右方向に並列な配置で前後方向に各々張架されている複数の前後張架線材１０１で処理対象部材ＧＢを対象処理位置ＢＰに支持させる。この状態で、フォーク移動機構１２２により複数の前後張架線材１０１より下方に位置させた対象支持フォーク１２０を対象処理位置ＢＰから対象待機位置ＷＰまで後退させる。このような状態で、複数の前後張架線材１０１で対象処理位置ＢＰに支持された処理対象部材ＧＢにパネルヒータ１１１で加熱処理が実行される。 （もっと読む）

【課題】検査ステージを省略することにより、装置構成のコンパクト化および生産性の向上を図ることを目的とする。
【解決手段】各処理ステージ２０で処理を行った後に次の処理ステージ２０に向けてパネル基板１をピッチ送りする可動レール３２と、処理ステージ２０内または前後の処理ステージ２０間に設けられ、パネル基板１を撮影するためにパネル基板１の送り方向と直交する方向に受光素子を配列したラインセンサカメラ４１と、パネル基板１の移動速度を検出するエンコーダ検出センサ６１と、ラインセンサカメラ４１が取得した映像信号によりフレーム画像を生成する画像処理装置４３と、を備え、エンコーダ検出センサ６１が検出する移動速度に基づいて映像信号の間隔が等間隔となるように補正を行ってフレーム画像を生成している。 （もっと読む）