【課題】チップの破損を防止し、ウェハシートの交換に際して生産性の低下を招くことのないチップ供給パレットを提供する。
【解決手段】ウェハシートに下方から接触するテンションリング５１と、ウェハシートを内側に保持するリングフレームをテンションリング５１に接触したウェハシートより下方で固定する固定部材５４を有する第１の部材３３と、チップ供給装置の所定位置に固定するための被固定部と、チップ交換パレット３を移送するときに保持する被保持部３６を有する第２の部材３４を備え、チップ供給装置の所定位置に固定した第２の部材３４に対し第１の部材３３を回転変位可能に構成した。 （もっと読む）

【課題】ウエハの背面及び外周への不所望な膜形成を効果的に防止するクランプ機構を与える。
【解決手段】半導体基板用のクランプ機構は、Ｃ形ピックアッププレート、該Ｃ形ピックアッププレートの内周部を受けて支持するように適応された外周を有するサセプタトッププレートと、(i)トップリング部とサセプタトッププレートとの間で基板の外周をサンドイッチすることにより基板をクランプするためのトップリング部と、(ii)Ｃ形ピックアッププレートの外周部を支持するよう適応されたピックアッププレート支持部とを含むクランプ部材であって、Ｃ形ピックアッププレートはトップリング部とピックアッププレート支持部との間で移動可能であり、クランプ部材はＣ形ピックアッププレート及びサセプタトッププレートとともに上方に移動可能であるところのクランプ部材と、を備える。 （もっと読む）

【課題】半導体などの基板の全体に対して均一に工程が行なわれるように基板を保持する基板保持ユニット、及びこれを利用する効率の良い基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板保持ユニットは、第１保持部及び第２保持部を含む。第１保持部は第１方向に移動可能であり、第１方向に対応する方向に工程流体が提供される基板に対して、基板の第１部分を保持する。第２保持部は第２方向に移動可能であり、基板の第２部分を保持する。第１及び第２保持部のうち少なくとも一つは、工程流体が提供される間、基板を保持する。 （もっと読む）

【課題】バックグラインド工程を経て極薄に研削されたウエハの研削面に、塗布剤を滴下し、平滑化させて所定の膜を形成する際、ウエハを破損しないようになされた塗布方法を提供する。
【解決手段】ウエハＷの片面に固定治具を密着固定した状態で搬送し、塗布装置で保持する。固定治具として、板状の治具本体と、当該治具本体の片面に設けられた、半導体ウエハを着脱自在に密着保持する密着層とから構成する。治具本体は、片面に前記密着層を支持する複数の支持突起を有すると共に、片面の外周部に前記支持突起と同等高さの側壁を有し、この側壁の端面に前記密着層が接着されて、前記密着層と前記治具本体との間に前記側壁で囲われた区画空間が画成され、前記治具本体に前記区画空間に連通する通気孔７が形成され、この通気孔を介して前記区画空間内の空気を吸引することにより、前記密着層が変形されるものを用いる。 （もっと読む）

このクランプデバイスは、第１の力を使用して、強制的にオブジェクトとサポートを互いに離すように構成された第１のデバイスと、第２の力を使用して、強制的にオブジェクトとサポートを互いに近づけるように構成された第２のデバイスとを備え、第１のデバイスおよび第２のデバイスは、それぞれ第１の力および第２の力を同時に加え、オブジェクトを所望の形状に整形してからサポート上でのオブジェクトのクランプを完了する。
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【課題】基板のクランプおよび解除を自動化するとともに、大型化に伴う基板の持つたわみ量を減少させて固定保持させることと、これに伴い成膜時に成膜面側に凸となる変形を阻止することのできる基板搬送装置を提供する。
【解決手段】基板保持枠１１に基板１２を保持して搬送を行うための基板搬送装置であって、基板保持枠１１に回動可能に支持されたクランプ軸１３と、クランプ軸１３に取り付けられ基板１２周辺を押圧保持するクランプアーム１４と、クランプ軸１３を基板押圧方向に付勢するバネ１５とから成る保持機構１６を備えた。 （もっと読む）

【課題】 挟持すべき基板等の厚さに依存せず、略一定の締付力で基板等を挟持できるようにした簡単な構造のチャック装置を提供する。
【解決手段】 被処理物Ｔが設置される設置面２ａから突設され、この設置面との間で被処理物に締付力を付与して被処理物を挟持するチャック手段１３と、この被処理物の挟持位置及び被処理物から離間した解放位置の間でこのチャック手段を駆動するエアーシリンダ１４と、エアーシリンダ内を摺動するピストンに作用する空気圧を切り換える切換手段１６とを備える。チャック手段の挟持位置でピストンに作用する空気圧を独立して変更する空気圧変更手段２０を設ける。 （もっと読む）

【課題】基板の中心とステージの中心が一致しない場合であっても、基板を確実にクランプすることができる基板クランプ機構を提供すること。
【解決手段】基板クランプ機構を、４本のクランプバー４１Ａ〜４１Ｄと、各クランプバーに対応した移動ユニット４２Ａ〜４２Ｄとから構成する。移動ユニット４２Ａは、クランプバー４１Ａを上下移動させるエアシリンダ５２と、クランプバー４１ＡをＸ方向に移動させるタイミングベルトと、クランプバー４１Ａと共に移動して基板端縁を検出するフォトセンサ５９とを有する。 （もっと読む）

【課題】スピンナーテーブルを回転させその遠心力により爪部によってフレームを固定した状態でテープを介してフレームに支持されたウェーハの表面に保護膜を被覆する場合において、爪部とフレームとの間に樹脂が入り込んだ場合でも、ウェーハをスピンナーテーブルから取り外せるようにする。
【解決手段】フレームＦを押さえる爪部４１４を有する振り子体４１０の振り子軸４１５が軸支持体４１１の軸孔４１６に回動可能に支持された構成のフレーム押さえ手段４１において、軸孔４１６を、下側から上側に向かうにつれてスピンナーテーブルの外周側に傾斜し振り子軸４１５を摺動可能に支持する長孔に形成し、スピンナーテーブルの回転停止時に振り子体４１０を軸孔４１６に沿って下降させて爪部４１４とフレームＦとの接着状態を解除する。 （もっと読む）

【解決手段】 基板処理方法および装置が開示される。該装置は、表面にガス流を供給するように構成される、一つあるいはそれ以上のガス流開口を備えた表面を有するチャックを含む。前記表面は、表面に亘って分散された一つあるいはそれ以上の真空チャンネルを含む。真空チャンネルは、それを通って真空を引くことを可能にする。本方法では、基板は、基板の裏面でチャック表面の近傍に、チャック表面に充分に接近して支持されるので、ガス流と真空が基板の裏面とチャック表面とを隔置された関係に維持することができる。ガス流は、ガス流開口を通して供給され、真空は、一つあるいはそれ以上の真空チャンネルを通して引かれる。基板は、基板表面に実質的に垂直な方向に沿って移動される。 （もっと読む）

【課題】基板の上面に供給されるガスにより基板を回転部材上に突設された支持部材に押圧して基板を回転部材に保持しながら回転させる基板処理装置および基板処理方法において、回転中の基板が所望の支持位置から大幅に移動してしまうのを防止する。
【解決手段】基板表面に供給される窒素ガスによって基板Ｗが所定の支持位置で各支持ピンＦＦ１〜ＦＦ６，ＳＳ１〜ＳＳ６に押圧されてスピンベース１３に保持される。そして、スピンベース１３に基板Ｗが保持されながらスピンベース１３とともに基板Ｗが回転する。複数個のガイド部材２５が支持ピンＦＦ１〜ＦＦ６，ＳＳ１〜ＳＳ６に対しスピンベース１３の周縁側で回転中心Ａ０を中心として放射状にスピンベース１３に設けられている。このため、回転駆動される基板Ｗが支持位置から径方向にずれた場合であっても、ガイド部材２５が基板端面に当接して基板Ｗの径方向の移動を規制する。 （もっと読む）

【課題】低コストで適切なアライメント作用を確実に得ることができる基板アライメント装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る基板アライメント装置１０は、基板Ｗを支持する支持面１５と、支持面１５に設けられた位置決め用の基準ピン１１と、基準ピン１１と協働して基板Ｗをアライメントする可動ピン１２と、基準ピン１１及び可動ピン１２を昇降自在に支持するベースプレート１３と、ベースプレート１３に対して基準ピン１１及び可動ピン１２を同時に昇降させる昇降板１７と、ベースプレート１３に対して可動ピン１２が所定以上上昇したときに可動ピン１２を基準ピン１１に向けて傾動させる傾動機構（１９，１２ｄ）とを備えている。 （もっと読む）

【課題】基板の任意の停止位置および任意の回転位置で基板の保持状態および非保持状態を容易に検出することが可能な基板回転保持装置およびこれを備えた基板処理装置を提供する。
【解決手段】スピンベース１の上面に設けられた各回動式保持部材２の支持部２１の内部には、磁石２ａがそれぞれ設けられている。各回動式保持部材２の近傍には、ホール素子３が設けられている。各ホール素子３は、対応する各回動式保持部材２が時計方向および反時計方向に回転した場合に、各磁石２ａの磁力をそれぞれ検出する。スピンベース１の下面の受電コイル４の外側を取り囲むように回転軸Ｐを中心として環状の６つの発光素子群６ａ〜６ｆがそれぞれ設けられている。これらの発光素子群６ａ〜６ｆとそれぞれ所定の距離（スピンベース１の厚さ方向の距離）を隔てて、直径が異なる環状の６つの受光素子群９ａ〜９ｆがそれぞれ設けられている。 （もっと読む）

【課題】被処理基板をその全面に亘って精度良く略均一に温度制御できる搬送トレー及び真空処理装置を提供する。
【解決手段】搬送トレー１の基板載置面に、被処理基板Ｓの外形に対応した少なくとも１個の凹部１１を形成し、この凹部の底面の外周に沿って環状のシール手段２と、凹部に落とし込むことで設置される被処理基板の外周面をシール手段に対して押圧する押圧手段３とを設ける。そして、この凹部に通じる少なくとも１本のガス通路１２ａ、１２ｂを開設し、このガス通路を介して、シール手段で支持されることで被処理基板の裏側に画成された空間に冷却ガスの供給する。 （もっと読む）

【課題】基板浮上用に用いられるガスの量が少なく、コストが低減でき、かつ処理液でウェハの周縁まで確実に処理できる、基板回転装置を提供すること。
【解決手段】基板を回転させる回転体と、上部に前記基板が掛かる鉤状部材を有し、該基板を前記回転体の所定位置に保持するガイドピンと、前記基板を浮上させる気体を、前記回転体上に供給する気体供給機構とを具え、更に前記ガイドピンは、該各ガイドピンの内接円が、前記回転板と同心円で、かつ前記基板の径より大きい径となる位置に配置されていることとして基板回転装置を構成した。これにより、少ないガス量で基板を浮上回転させ、基板の上面を、側面全体を含めて処理液で処理できる。 （もっと読む）

【課題】構成部材間の擦れにより発生したパーティクルに起因する基板の処理不良および動作不良が防止された基板保持装置およびそれを備える基板処理装置を提供する。
【解決手段】スピンチャック５００が基板Ｗを保持する際には、第２の連結部材７０２および第１の連結部材７０１が動作し、保持部材６００ａに回動しつつ下降する力が働く（矢印Ｍ３）。それにより、保持部材６００ａの軸傾斜面６１１がスピンベース７００の孔傾斜面ＨＴに当接し、昇降軸６０５と部材挿入孔Ｈとの間の隙間が軸傾斜面６１１により閉塞される。スピンチャック５００から基板Ｗが開放される際には、第２の連結部材７０２および第１の連結部材７０１が動作し、保持部材６００ａに回動しつつ上昇する力が働く（矢印Ｎ３）。それにより、保持部材６００ａの軸傾斜面６１１がスピンベース７００の孔傾斜面ＨＴから離間するとともに、回動しつつ上昇する。 （もっと読む）

【課題】断続的な切り込みによって形成された接着用シートを被着体に貼付することに適した貼付用シートを提供すること。
【解決手段】シート基材Ｓ１の片面側に接着剤層Ａが設けられているとともに、所定間隔ごとに略閉ループ状の軌跡に沿う断続的な切り込み１１によって接着用シートＳ２が形成される。接着用シートＳ２の外側は不要シート部分Ｓ３として形成され、当該不要シート部分Ｓ３には、切り込み１１に連なる引裂部１２が形成されている。接着用シートＳ２をウエハＷ等に貼付するときは、貼付用シートＳを幅方向外側にエキスパンドして引裂部１２が引き裂かれるようにすることで、断続的な切り込み１１を形成する非切り込み部１１Ｂが切り込まれ、接着用シートＳ２と不要シート部分Ｓ３と分離することにより行われる。 （もっと読む）

【課題】断続的な切り込みによって形成された接着用シートを被着体に貼付することに適したシート貼付装置及び貼付方法を提供することにある
【解決手段】片面側に接着剤層Ａが設けられているとともに、所定間隔ごとに略閉ループ状の軌跡に沿う断続的な切り込み１１によって形成された接着用シートＳ２と、不要シート部分Ｓ３に設けられた引裂部１２を有する帯状シートＳを用いたシート貼付装置であり、前記接着用シートＳ２を押圧ローラ１５で押圧してリングフレームＲＦ及びウエハＷに貼り付けるとともに、引き裂き手段１８で帯状シートＳを幅方向にエキスパンドして切り込み１１とこれに連なる引裂部１２に引き裂き力を付与し、これにより接着用シートＳ２と不要シート部分Ｓ３とを分離する （もっと読む）

【課題】ウェハのエッジを把持する方式のプリアライナーにおいて、ウェハのグリップ部分とリフタ部分の干渉を回避する。
【解決手段】ウェハの外周を把持する複数のクランプアームを有する把持機構と、前記把持機構を旋回させて、前記ウェハを所望の回転方向に回転させる旋回機構と、前記ウェハを前記把持機構の上方に移動させる複数のリフトアームを有するリフタ機構と、を少なくとも備えたアライナー装置において、複数のリフトアーム２０が上昇するとき、複数のリフトアーム２０のうち複数のクランプアーム１１と干渉する位置にあるリフトアーム２０が、前記把持機構に設けられた拘束部材１３に係止されてその上昇が拘束されるように構成した。 （もっと読む）

【課題】基板の任意の停止位置および任意の回転位置で基板の保持状態および非保持状態を切り換えることが可能な基板回転保持装置およびそれを備えた基板処理装置を提供する。
【解決手段】スピンベース２０１の周縁部には、複数の回動式保持部材２０２Ａおよび複数の回動式保持部材２０２Ｂが取り付けられている。その内部には、磁石２３３がそれぞれ設けられている。スピンベース２０１の内部収容空間２２３には、複数の電磁石２４１Ａおよび複数の電磁石２４１Ｂが設けられている。スピンベース２０１の下面には、環状の受電コイル２４２Ａおよび受電コイル２４２Ｂが設けられている。各電磁石２４１Ａは受電コイル２４２Ａに接続され、各電磁石２４１Ｂは受電コイル２４２Ｂに接続されている。受電コイル２４２Ａ,２４２Ａに対向するように、送電コイル２４５Ａ,２４５Ｂが設けられている。 （もっと読む）