【課題】ワークローダから基板ステージに搬送される基板Ｗの歪みを低減して、基板をワークチャックに載置することができる露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】基板ステージ１１のワークチャック３１には、該ワークチャック３１の表面から進出可能な複数の吸着ピン７０が直線状に複数列で設けられており、制御部４は、基板ステージ１１がワークローダ３から基板Ｗを受け取る際、吸着ピン７０の吸着の有無を制御する。 （もっと読む）

【課題】 ４軸制御の原点復帰動作を駆動軸同士の機械的な姿勢の相互干渉を抑えた状態で可能にする。
【解決手段】 ＸＹθガイドとボールねじ直動機構からなる駆動ユニットを４台備えた４軸アライメントステージにて、各駆動ユニットに仮の原点位置を設定して（Ｓ１）、それを基準に４軸制御による原点復帰動作を行う（Ｓ３）。次いで、全軸同時サーボオフを行い（Ｓ４）、その直後に生じる各駆動ユニットのガイドブロックの移動量を計測し（Ｓ５）記憶させる（Ｓ６）。その後、移動量の計測値を補正量として各駆動ユニットの仮の原点位置を補正し（Ｓ７）、補正後の仮の原点位置を基準とする原点復帰動作と、全軸同時サーボオフ直後の移動量の計測及び記憶と、移動量の計測値を補正量とする仮の原点位置の補正を繰り返し、全軸同時サーボオフ直後の移動量が収束したときの仮の原点位置を、４軸制御による実際の原点復帰動作用の原点位置に設定する。 （もっと読む）

【課題】基板ステージ上の基板の搬出を迅速に行う。
【解決手段】 基板ホルダ３０ａには、基板Ｐの搬送に用いられる基板トレイ４０ａを収容するＸ溝３１ｘが形成されている。また、Ｘ溝３１ｘ内には、基板トレイ４０ａを押圧して基板トレイ４０ａと共に基板Ｐを移動させる基板搬出装置７０ａが設けられている。このため、基板Ｐに対する露光処理が終了した後、基板Ｐの交換のために基板ステージ２０ａを基板交換位置に位置させる前に基板Ｐの搬出動作を開始することができる。 （もっと読む）

【課題】基板ステージ上の基板の交換を迅速に行う。
【解決手段】基板ステージ２０ａは、基板ホルダ３０ａから加圧気体を噴出して基板Ｐ_１を浮上させ、基板搬出装置９３は、基板ホルダ３０ａの上面（基板載置面）をガイド面として基板Ｐ_１を水平面に沿って移動させることにより基板ホルダ３０ａから搬出する。次に露光予定の別の基板Ｐ_２は、基板Ｐ_１の搬出動作が行われる際、基板ホルダ３０ａの上方に待機しており、基板Ｐ_１の搬出動作完了後に基板ステージ２０ａが有する数の基板リフト装置４６ａに受け渡される。 （もっと読む）

【課題】基板ステージ上の基板の交換を迅速に行う。
【解決手段】 基板ステージ２０ａは、基板ホルダ３０ａから加圧気体を噴出して基板Ｐ_１を浮上させ、基板ホルダ３０ａに内蔵された基板搬出装置７０ａを用いて、基板ホルダ３０ａの上面（基板載置面）をガイド面として基板Ｐ_１を水平面に沿って移動させることにより基板ホルダ３０ａから搬出する。このため、基板Ｐ_１に対する露光処理が終了した後、基板交換のために基板ステージ２０ａを基板交換位置に位置させる前に基板Ｐ_１の搬出動作を開始することができる。次に露光予定の別の基板Ｐ_２は、基板Ｐ_１の搬出動作が行われる際、基板ホルダ３０ａの上方に待機しており、基板Ｐ_１の搬出動作完了後に基板ステージ２０ａが有する数の基板リフト装置４６ａに受け渡される。 （もっと読む）

【課題】運動性能の向上した基板ステージ装置を提供する。
【解決手段】 基板ステージ２０は、Ｘ軸方向に関する位置を個別に制御可能であってＹ軸方向に関して互いに分離して配置される第１Ｘテーブル２４ａと第２Ｘテーブル２４ｂとを含み、Ｘ軸方向に沿って移動するＸ粗動ステージ２３ｘと、基板Ｐを保持し、Ｘ粗動ステージ２３ｘに誘導されて少なくともＸ軸方向に沿って移動する微動ステージ３０と、Ｙ軸方向に関して第１Ｘテーブル２４ａと第２Ｘテーブル２４ｂとの間に配置され、微動ステージ３０を下方から支持し、微動ステージ３０と共に少なくともＸ軸方向に沿って移動可能な重量キャンセル装置５０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】電磁石と吸引ターゲットとの間のギャップの大きさの変動による位置決め精度の低下を防止する。
【解決手段】位置決め装置は、第１部材と第２部材との相対位置を制御するように構成され、前記第１部材に固定された電磁石と、前記電磁石によって吸引されるように前記第２部材に固定された吸引ターゲットと、前記電磁石が発生する磁束値を検出する磁束センサと、前記電磁石と前記吸引ターゲットとの間のギャップの大きさに応じて磁束指令値を補正することによって得られた補正磁束指令値と前記磁束センサによって検出された磁束値との偏差に応じて前記電磁石を駆動する駆動部とを備える。 （もっと読む）

【課題】コイルユニットの収容部に生じる温度分布を抑制できるモータ装置を提供する。
【解決手段】固定子１１と可動子１２との一方にコイルユニットＣＵが設けられ、固定子と可動子との他方に発磁ユニット１３，１５が設けられる。収容部材３１に囲まれた収容空間３２にコイルユニットを収容する収容部３０と、収容部材の外側に設けられ収容部材との間に気体流動空間４０、４１を形成する空間形成部３５、３６と、気体流動空間に気体を流動させる気体流動装置ＦＬとを備える。 （もっと読む）

【課題】マスクをプリアライメントする際に、マスクとマスクが接する面との間の摩擦によってマスクが損傷するのを防止することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗに対してマスクＭを介して露光用光ＥＬを照射し、基板ＷにマスクＭのパターンＰを露光する近接スキャン露光装置１は、マスクチェンジャー１２０のマスクトレー部１２１は、マスクＭの下面にエアを供給して、マスクＭを浮上させるエア供給機構１２５と、浮上したマスクＭの端面と当接して、マスクＭを位置決めするマスク用位置決めピン１９６と、浮上したマスクＭの端面をマスク用位置決めピン１９６に向けて押圧する押圧機構１９８と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 次世代リソグラフィの半導体デバイス製造への導入を可能とするオーバーレイ制御方法を提供すること。
【解決手段】 実施形態のオーバーレイ制御は、基板上の第１の層の第１のパターンと、前記基板上の第２の層の第２のパターンとの間の合わせずれを、前記第２の層にて測定することを含む。ここで、前記第１の層は前記第２の層としてよりも低い層である。実施形態のオーバーレイ制御は、さらに、前記第２の層から前記第１の層にフィードバック情報を提供することを含む。ここで、前記フィードバック情報は、前記測定した合わせずれと前記第２の層に関連した許容範囲とを含み、前記許容範囲は、前記第２の層にて補正可能な合わせずれの程度を示す。 （もっと読む）

【課題】基材支持の装置及び方法を開示する。
【解決手段】ステージミラーに対する基材チャックの変位を感知し、ステージミラーへ結合されているＺステージアクチュエータ及びＸＹステージアクチュエータのうちの一方又は両方を有する１つ以上のフィードバックループにおける変位に比例する信号を結合することによって、ステージミラーに対する基材チャックの運動が動的に補償される。これに代えて、基材支持装置は、Ｚステージプレート、ステージミラー、Ｚステージプレートへ取り付けられている１つ以上のアクチュエータ、及びステージミラーへ取り付けられている基材チャックを含み得る。基材チャックは基材チャックの６つの運動自由度に対する拘束を有する。アクチュエータはＺステージプレートがＺ方向に垂直な平面において走査されるとき、ＺステージをＺ方向へ運動させる。 （もっと読む）

【課題】安定してＹ軸移動体を移動させることができるステージ装置を提供すること。
【解決手段】ステージ装置１Ａは、Ｘ軸移動体６と、Ｘ軸固定子５１、及びＸ軸可動子５２を有するＸ軸シャフトモータ５と、Ｙ軸移動体４と、Ｙ軸固定子、及びＹ軸可動子を有するＹ軸シャフトモータ３とを備え、Ｘ軸固定子５１の一端部５１ａが第１Ｙ軸移動体４ａに固定され、Ｘ軸固定子５１の他端部５１ｂが第２Ｙ軸移動体４ｂにＸ軸固定子５１のＸ軸方向の伸長を許容するように連結されている。これにより、Ｘ軸移動体６の駆動に伴いＸ軸固定子５１が熱膨張した場合に、Ｘ軸固定子５１の伸長が他端部５１ｂ側で解放される。 （もっと読む）

【課題】作業時間の増大や製品制度の低下を招くことなく、平坦な状態で対象ワークを保持することのできる吸着ステージを提供する。
【解決手段】露光光が結像されて所定のマスクパターンが露光される対象ワーク２２を平坦な載置面４０ｂ上で保持する吸着ステージ（４０）であって、載置面４０ｂに対する対象ワーク２２の姿勢を固定すべく対象ワーク２２を吸着可能な固定吸着機構６０と、載置面４０ｂと面当接させるべく対象ワーク２２を吸着可能な平面吸着機構７０と、を備え、平面吸着機構７０は、載置面４０ｂを開口する複数の平面吸着孔７１を有し、載置面４０ｂ上における任意の一点から外縁へ向けて順に各平面吸着孔７１による吸着動作を開始する。 （もっと読む）

【課題】基板テーブルを保持するように構築されたチャックを含むリソグラフィ装置、オブジェクトを配置するステージ装置、及びデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムＩＬと、放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを生成することができるパターニングデバイスＭＡを支持するように構築された支持体ＭＴと、基板Ｗを保持するように構築された基板テーブルＷＴと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムＰＳと、基板Ｗを保持するように構築されたチャックと、使用時にチャックを変位する位置決めデバイスと、位置決めデバイスを制御するように構成された制御ユニットとを備え、制御ユニットはチャックの変形を可能にする実質的に動的な力によってチャックを励起するように構成される。 （もっと読む）

【課題】処理装置内における基板の位置ズレを、処理装置の改造や機能追加なしに、低コストで実現する基板検査システム、プログラム及びコンピュータ可読記憶媒体を提供すること。
【解決手段】基板検査システムに、処理装置２１で処理が施された基板の基板表面を撮影する撮影装置１１と、撮像装置１１で撮像された基板Ｗの表面の基板画像に関して上記処理が施された処理領域のエッジを抽出する画像処理部１２と、基板画像のエッジに基づいて、処理装置２１のあらかじめ定められた基板位置に対する基板Ｗの位置の位置ズレを測定する位置ズレ測定部１３と、位置ズレ測定部１３の出力に基づいて将来の位置ズレを予測する位置ズレ予測部１４と、位置ズレ測定部１３が測定した位置ズレを処理装置２１の処理履歴と関連付けて時系列として出力する出力部１５とを形成する。 （もっと読む）

【課題】ミラー表面の外乱を補償する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、基板テーブルＷＴ内で横ミラー６６、６８を使用して、基板テーブルＷＴの位置測定に対する基板テーブルＷＴの熱歪みの影響を補償するシステムを備えている。様々な基板テーブルスキャン軌跡、および基板テーブルＷＴ内の横ミラー６６、６８の局所位置および回転の測定を使用してリソグラフィ装置をキャリブレーションする方法が、提示されている。基板テーブルＷＴが測定ステーションにある場合に、横ミラー６６、６８の幾何形状を測定するように露光ステーションでのみ使用される横ミラー６６、６８の幾何形状を規定するアライメントマークを備えたデュアルステージリソグラフィ装置。 （もっと読む）

【課題】液浸領域の液体に接触する部材の汚染に起因する露光精度及び計測精度の劣化を防止できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置ＥＸＳは、投影光学系ＰＬの像面側に液体ＬＱの液浸領域ＡＲ２を形成し、投影光学系ＰＬと液浸領域ＡＲ２の液体ＬＱとを介して基板Ｐを露光するものであって、液浸領域ＡＲ２を形成するための液体ＬＱに接触する基板ステージＰＳＴの上面３１などに対して、光洗浄効果を有する所定の照射光Ｌｕを照射する光洗浄装置８０を備えている。 （もっと読む）

【課題】基板テーブルの移動を駆動するより効率的な方法を提供する。
【解決手段】キャリアと、直交軸Ｘ及びＹを基準にして画定された平面でキャリアを投影システムに対して移動させる駆動システムとを備え、駆動システムは、Ｙ軸に平行に移動するように構築され、配置されたシャトルと、シャトルをキャリアに接続するシャトルコネクタであって、シャトルに対してＸ軸に平行な方向にキャリアを移動させることができるようなシャトルコネクタと、Ｙ軸に平行なシャトルの移動を駆動するシャトルドライバとを備え、シャトルはＸ軸に平行な方向のキャリアの片側だけに位置し、シャトルの１つだけがキャリアに接続され、シャトルドライバ及びシャトルコネクタは、駆動システムによってキャリアに加えられる力のＹ成分の少なくとも１０％を供給するように構成される。 （もっと読む）

【課題】例えば、リソグラフィ装置において物体を熱的に調整するための装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、パターニングデバイスから基板にパターンを転写するよう構成されている。リソグラフィ装置は、第１の物体と、第２の物体への又は第２の物体からの熱移動を改善するために第１の物体に搭載されている平面部材と、を有する。 （もっと読む）

【課題】磁性体を一部に含む磁性体部と、該磁性体部をほぼ取り囲んだ状態で形成された空所部とを有する物体を簡単に加工する。
【解決手段】 加工装置は、磁性体を一部に含む磁性体部と、該磁性体部をほぼ取り囲んだ状態で形成された空所部とを有する物体Ｍを保持可能な保持面を有し、複数のマイクロコイルＭＣを有する電磁チャック２０と、電磁チャック２０を前記保持面と交差する方向に移動させる移動装置と、を備えている。移動装置が、該電磁チャック２０の複数のマイクロコイルＭＣにより物体Ｍの前記磁性体部が磁気吸着され、かつ前記空所部が磁気吸着されない状態で、電磁チャック２０を前記保持面と交差する方向に移動させることにより、磁性体部及びこれに連結された部分を電磁チャック２０の移動方向に応じて変形させることが可能となる。 （もっと読む）