【課題】試料を搭載するトップテーブルの微小振動を抑えて観察像の像質あるいは寸法測定値の精度を向上させることができる試料位置決め技術を提供する。
【解決手段】本発明に係る試料位置決め装置は、トップテーブルを停止させるアクティブブレーキ、アクティブブレーキを囲む内枠、内枠を囲む外枠、およびアクティブブレーキを駆動するアクチュエータを備える。アクチュエータは、アクティブブレーキを駆動してトップテーブルをステージに対して停止させた後、外枠を押圧してトップテーブルの位置を調整する。 （もっと読む）

【課題】機能材料層の厚さ分布を高精度かつ短時間で制御可能な技術を提案する。
【解決手段】実施形態に係わるステージ装置は、被処理基板１３の下面側に配置され、上下方向に駆動される複数の高さ制御素子を備える高さ制御ユニット１２と、高さ制御ユニット１２を制御する制御ユニット１５とを備える。制御ユニット１５は、被処理基板１３の上面を複数のエリアに区分し、かつ、複数の高さ制御素子の各々の高さをデータ値に基づいて制御することにより各エリアの高さを独立に設定する。 （もっと読む）

【課題】ワークピース上に正確かつ迅速にナノメートル構造パターンを形成する。
【解決手段】複合プラットフォームはベースに据えられ、長ストローク移動ステージ１２と、圧電被駆動マイクロ・ステージ１３とを有する。長ストローク移動ステージは基準セット１４と、駆動装置１５とを有し圧電被駆動マイクロ・ステージは長ストローク移動ステージに接続され、作業プラットフォームを有する。測定フィードバック組立体２０はプラットフォーム組立体１０に堅固に据え付けられ、レーザ干渉計と、反射装置と、信号受信装置とを有する。レーザ作業組立体３０は、プラットフォーム組立体に据えられ、測定フィードバック組立体に電気的に接続され、レーザ直接書き込みヘッド３１と、制御インタフェース装置と、位置決めインタフェース装置３３とを有する。 （もっと読む）

【課題】塗布膜に乾燥ムラを生じさせずに基板を加熱しながら搬送することができる浮上搬送加熱装置を提供する。
【解決手段】基板を超音波振動浮上させる振動板部２と、前記振動板部を加熱するヒータ部３と、前記振動板部に超音波振動を与える超音波発生部４と、基板の端部を支持して基板の浮上方向と垂直な方向に基板を搬送する搬送部５と、を備える浮上搬送加熱装置であって、ヒータ部３は、振動板部２の基板を浮上させる面の裏面側に振動板部２と所定間隔を設けて配置され、基板の搬送方向と直交する方向の振動板部２の寸法は同方向の基板Ｗの寸法よりも大きく、ヒータ部３により振動板部２が加熱されることにより、浮上搬送中の基板Ｗ全面が振動板部２によって加熱される。 （もっと読む）

【課題】昇降エレベータ機構の能力を大きくする必要性を回避して、この昇降エレベータ機構の高コスト化を抑制することが可能なローディングユニットを提供する。
【解決手段】基板Ｗに対して熱処理を施すために基板を複数枚保持した基板保持具５８を、筒体状の処理容器に対して昇降させるようにしたローディングユニットにおいて、基板保持具とキャップ６２とを保持して昇降させる昇降エレベータ機構と、処理容器の下端の開口部４４に位置するキャップを上方向へ押圧するために設けられた、圧電素子を用いた圧電アクチュエータ８８を有する押圧機構８６とを備える。これにより、昇降エレベータ機構の能力を大きくする必要性を回避して、この昇降エレベータ機構の高コスト化を抑制する。 （もっと読む）

【課題】
多品種の成長基板上の成膜における反り量に対応可能なサセプタ装置を提供する。
【解決手段】
成長基板が載置される搭載領域を有するサセプタ装置は、搭載領域を分割して得られた区分領域の各々に配されかつ各々が成長基板に対向する熱輻射面を有し、成長基板の厚さ方向に可動である複数の熱輻射部からなる搭載部を有する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハを対向するチャンバ間でスムーズに移動することのできる搬送ロボットを提供する。
【解決手段】ウエハ搬送ロボット１００は、２本のリンク１２、１３で構成されているアーム１０を備える。アーム１０の先端にはウエハホルダ６が備えられている。アーム１０の基部に相当する駆動リンク１３は筐体２に回転可能に連結されている。アーム１０は、駆動リンク１３の回転に伴うアーム先端の運動が直線又は曲線の軌道に制限される構造を有しているとともに、その軌道は、始点Ｗｓと終点Ｗｅが駆動リンク１３の回転中心から等距離の位置にあり、始点におけるアーム先端の向きと終点におけるアーム先端の向きが、始点と終点の間の中点と前記回転中心を通る直線に対して鏡像の関係を満たしている。 （もっと読む）

【課題】 露光エリア内任意の位置で気体の濃度測定可能な露光装置を提供すること。
【解決手段】 基板上面と投影光学系１の間に所定の気体を供給する気体の供給手段を持つ露光装置において、前記領域の気体を取得する気体取得手段としての貫通孔１１と、前記気体取得手段で取得した気体の濃度を測定する雰囲気を測定する測定器５を有し、更に前記気体取得手段が移動ステージ４と共に移動可能であることを特徴とする露光装置。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置内の交換可能物体を位置決めするサポート構造を提供する。
【解決手段】サポート構造は、物体を支持およびクランプするチャックと作動構造とを有する。作動構造は、第１作動構造１６（例えば、バネ）および第２作動構造１８（例えば、リニアアクチュエータ）を有してよい。第１作動構造１６は、チャックに対して移動可能であり、第２作動構造１８を物体の側面と接触する第１位置と物体の側面と接触しない第２位置との間で移動させるように構成されている。第２作動構造１８は、その少なくとも一部を第１作動構造１６に対して物体の側面と接触する第１位置と物体の側面と接触しない第２位置との間で移動させ、かつ押力を物体の側面に加えるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】基板ステージ、パターニングデバイスステージ（例えばマスクステージ）、冷却デバイス等の移動により、リソグラフィ装置の投影系（投影レンズとも呼ばれる）に作用する振動または他の外乱の発生を抑制する。
【解決手段】投影系は、アクティブレンズマウントによってリソグラフィ装置の基準構造に取り付けられる。アクティブレンズマウントは、上面２７を持つ上部と、底面２８を持つ底部とを有する。上部および底部は弾性構造５０によって両側で相互接続される。さらに３０、４０で示す圧電アクチュエータ−センサ複合体によって相互に接続される。適切な電気信号を用いて圧電素子３０、４０を介して上部および底部の間に作用する所望の力を導出することができる。 （もっと読む）

【課題】装置構造が簡素化できるとともに工程を短縮化して製造効率を向上させることができる板状部材の保持装置および保持方法を提供すること。
【解決手段】ウェハＷの表面ＷＢに塗布した接着剤Ｂを介して当該ウェハＷを載置手段３の載置面に載置し、載置後に硬化させた接着剤ＢによってウェハＷを接着保持することで、載置手段３における吸着保持機構が不要にできて載置手段３の構造が簡単化できる。さらに、ウェハＷの表面ＷＢが接着剤Ｂで保護されることから、別途の表面保護材料などが不要になり、表面保護材料の塗布や貼付に係る工程が省略でき、ウェハＷの製造に係る全体工程を短縮化して製造効率を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】アライメント装置の小型化を図ることが可能な技術を提供する。
【解決手段】アライメント装置は、被接合物９１を保持するステージ１２と、ステージ１２を摺動可能に支持する支持部材と、ステージ１２の側方から押圧力を加えることによって、ステージ１２を略水平平面に平行な方向に移動する位置調整機構５０とを備える。位置調整機構５０は、押圧点ＰＴ１１においてステージ１２をＸ方向に押圧する押圧力付与部５１と、押圧点ＰＴ１２においてステージ１２をＹ方向に押圧する押圧力付与部５２と、押圧点ＰＴ１３においてステージ１２をＹ方向に押圧する押圧力付与部５３とを有する。 （もっと読む）

【課題】ウェハの直径が大きくなる傾向にある近年、重ねあわされる互いのウェハ全面においてサブミクロンの精度で高速に位置合わせを行うことが困難になってきている。特に、一方のウェハに対して他方のウェハを、位置合わせ指令に従って正確にかつ高速に移動させることができる重ね合わせ装置が望まれている。
【解決手段】複数の基板を位置合わせして重ね合わせる重ね合わせ装置は、第１基板を保持する第１ステージと、第１基板に対向して配置される第２基板を保持する第２ステージと、対向方向に直交する方向へ移動可能な第３ステージと、第２ステージを重力方向に支持する支持機構と、第３ステージの移動に非接触で追従して第２ステージ及び支持機構が一体的に移動するように、第３ステージと支持機構の間に設けられた推力伝達部とを備える。 （もっと読む）

【課題】 ワーク保持面の傾きにかかわらず、ワークとの非接触性を確実に保つことが可能な非接触保持装置を提供する。
【解決手段】 非接触保持装置１は、超音波浮揚ユニット１０と、ベルヌーイチャック２０とを備えている。超音波浮揚ユニット１０は、超音波振動を発生する超音波振動子１３と、その一端が超音波振動子１３に取り付けられ、超音波振動子１３が発生した超音波振動を増幅して伝達するホーン１６と、ホーン１６の他端に取り付けられ、ホーン１６と連動して振動する振動板１７とを有している。ベルヌーイチャック２０は、凹部２１及び該凹部２１内に高圧エアを噴出するための噴出孔２５が形成されたハット形の本体２４を有している。超音波浮揚ユニット１０の振動板１７の振動面、及び、ベルヌーイチャック２０の本体２４に形成された凹部２１の開口端面それぞれは、ワーク８０が保持される際に、該ワーク８０と対向するように配置されている。 （もっと読む）

【課題】切削量の要求精度（±１μｍ以内）を満たしつつコストを低減できる半導体装置の金属電極形成方法及び金属電極形成装置を提供する。
【解決手段】裏面１１ｂの形状を反映して表面部１１ａの凹凸差が増大した半導体基板１１の凹凸差を低減すべく、表面部の表面形状データを取得し、このデータに基づいて変形手段により半導体基板に変位を与え、切削面Ｐと半導体基板の表面部との距離が切削量の要求精度の範囲内になるように変形させる。変形手段として、変位をそれぞれ制御可能な複数個のアクチュエータ２４ａを用い、各アクチュエータを、吸着ステージの裏面に当接してそれぞれ設けるとともに、その配置間隔を半導体基板の厚さ分布の空間周波数の最小波長に対し、１／２よりも大きく１以下とする。そして、変形させた半導体基板を吸着ステージに吸着固定したまま、切削面において切削加工を行い、金属膜をパターニングして金属電極１５を形成する。 （もっと読む）

【課題】マスク撓みや光学系の歪みによって発生するデフォーカスを補正できる露光装置、フォーカス補正装置、及びそれを用いたデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】原版１に光を照射する照明光学系７と、該照明光学系７により照射された原版１のパターンを基板４上に投影する投影光学系３と、原版１を保持し駆動する原版ステージ２と、基板４を保持し移動する基板ステージ６とを有する露光装置３０であって、基板ステージ６は、基板４を吸着保持する複数のチャック５を有し、チャック５は、吸着部と、該吸着部を基板面に垂直な方向に駆動する駆動機構２１とを有する。 （もっと読む）

【課題】レーザ処理装置における被処理体配置台の平面度を容易かつ正確に調整することを可能にする。
【解決手段】被処理体配置台の下方に複数備えられて被処理体配置台を支持し、支持位置の昇降が可能な支持部と、支持部の昇降を行う駆動部と、被処理体配置台の上面形状を測定する変位測定部と、駆動部を制御するとともに変位測定部の測定結果を取得可能な制御部と、各駆動部を動作させた際の被処理体配置台の上面形状の変位から各駆動部の動作量と被処理体配置台変位量との関係データを記憶する記憶部と、を備え、制御部は、変位測定部による測定結果を受けて被処理体配置台上面を所定の平面度に調整するために各駆動部の動作によって変位すべき被処理体配置台の変位量を求め、該変位量から記憶部に記憶された関係データを参照して各駆動部の動作量を決定し、該動作量に基づいて各駆動部を動作させる。 （もっと読む）

【課題】半導体製造分野で用いられる電子顕微鏡装置の試料ステージで要求されるような高いレベルでの位置決め精度やドリフトの低減を可能とする。
【解決手段】制動装置は、ベースに装着されたブレーキレールと、テーブルに装着された１対の制動機構を有する。１対の制動機構はそれぞれブレーキレールに接触する作動部を有する。ブレーキレールの表面に作用する押圧力は、ブレーキレールの表面の法線に対して傾斜して作用する。押圧力を、ブレーキレールの表面に沿った方向の接線分力と法線方向の法線分力に分解することができる。この接線分力は、ブレーキレールに対してテーブルを互いに反対方向に駆動する推力として機能する。 （もっと読む）

【課題】吸着面に静電吸着される被吸着物の平面度を高くできる静電吸着保持装置、露光装置、露光方法及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】第２静電吸着保持装置３４は、可撓性を有する誘電性材料で形成され、且つウエハＷを吸着する吸着面３４ａが形成された一方の面４２ｂを有する基体４２と、該基体４２の内部に設けられる第１電極部４５及び第２電極部４６と、基体４２の一方の面４２ｂとは反対側の他方の面４２ａに駆動力を付与し、基体４２の吸着面３４ａの形状を変形させる駆動装置４１と、を備えている。この駆動装置４１の駆動によって、吸着面３４ａの形状が変形すると、該吸着面３４ａに静電吸着されるウエハＷの被照射面Ｗａの平面度は高くなる。 （もっと読む）

【課題】傾動台の中心を傾動中心とすることが可能であり、しかも傾装置を大型化させずに傾動台の傾動角度を大きくすることができる。
【解決手段】傾動装置１は、基台３に対して傾動台２を傾動可能に支持する傾動台支持部４と、基台３の上面３ａに対して略平行となる方向に延在し、その延在方向に伸縮可能な一対の圧電素子５と、各圧電素子５の伸縮による第１の変位を自身の変形により基台３の上面３ａに略直交する方向に拡大させるとともに、この拡大による第２の変位を傾動台２に伝えるＶ溝部６６を有する変位拡大部材６とを備えている。傾動台支持部４は、支柱４１と、支柱４１に対して第１軸線を中心にして回転可能に支持された回動リングとを有し、傾動台２が回動リングに対して第２軸線を中心にして回転可能に支持される構成とした。 （もっと読む）