【課題】異常により所定の処理が停止しても、リトライ処理を行うことで、ウェハ回収作業等の実施に起因する装置稼働率の低下を抑止できる基板処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】ウェハ１を搬送する搬送手段と、前記搬送手段を制御する制御手段を備えた基板処理装置であって、前記搬送手段が、前記基板を搬送中にエラーが発生して一時停止したときに、前記制御手段は、所定回数のリトライ処理を前記搬送手段に実施させても前記エラーが解消されない場合、前記搬送手段を待機状態（コマンド入力待ち状態）に移行させる。 （もっと読む）

【課題】常圧搬送室に大掛かりな腐食対策をする必要がなく、またスループットも低減することのない基板処理装置を提供する。
【解決手段】ロードロック室１４ｂからストレージ２６まで常圧搬送室であるローダーモジュール１５を通過させることがなく基板Ｗを搬送するための迂回経路２４を設ける。当該迂回経路２４には、ロードロック室１４ｂからストレージ２６まで処理済みの基板Ｗを搬送する副搬送ユニット３６が配置される。この副搬送ユニット３６によってロードロック室１４ｂからストレージ２６まで処理済みの基板Ｗを搬送し、ローダーモジュール１５の主搬送ユニット１８によってストレージ２６から載置台２２ａ〜２２ｃの運搬容器に処理済みの基板Ｗを戻す。 （もっと読む）

【課題】 省スペースで、かつ処理装置との間のロードアンロードと並行して、搬送車との間でカセットの受け渡しができる、ローダアンローダを提供する。
【構成】 ローダアンローダに、カセットを載置する載置部と処理装置との間でカセット内の物品を受け渡しする移載装置とを備えたユニットを、搬送車の移動経路に沿って複数設ける。複数のユニットを搬送車の移動経路に沿って移動させる移動機構と、コントローラとを設け、１つのユニットが処理装置との間で物品を移載している際に、他のユニットを搬送車との間でカセットを移載する位置に配置する。 （もっと読む）

【課題】部品の点数の大幅な増加や大型化等を防ぎつつ、マスクの交換時間を短くすること。
【解決手段】第１のマスクＭ１での露光中に、第１のハンドラ１１ａがマスク保管部６から次に使用する第２のマスクＭ２を取り出し、プリアライメントステージ５に載せてプリアライメントを行う。露光が終わると第２のハンドラ１２ａが第１のマスクＭ１をプリアライメントステージ５まで運ぶ。マスク退避機構１３の第３のハンドラ１３ａは第１のマスクＭ１を受け取りいったん保持する。第２のハンドラ１２ａは、第２のマスクＭ２を保持し、マスクステージ２へ搬送する。同時に第３のハンドラ１３ａが保持していた第１のマスクＭ１を第１のハンドラが受け取ってマスク保管部６に回収する。マスク退避機構１３を設けマスクを退避させるようにしたのでマスクの交換時間を短縮することができる。 （もっと読む）

【課題】真空処理装置の真空処理室内部のメンテナンス性を改善する。
【解決手段】真空処理装置１は、被処理物１０７を収容して真空処理を施す第１の処理室１０１と、真空処理される前の被処理物と、真空処理された後の被処理物と、を収容する真空排気可能な第２の処理室１０２と、第１の処理室と第２の処理室との間に、第１の処理室と着脱可能に介装されるゲート部１０３と、ゲート部１０３を通じて、真空処理される前の被処理物を搬入部１０８から真空処理部１０４へと搬入し、真空処理された後の被処理物を真空処理部１０４から搬出部１１９へと搬送する搬出する搬送装置２０２と、第１の処理室と第２の処理室とを離間させる移動機構２００とを備える。 （もっと読む）

【課題】小型化を実現することができるウェーハフレームの搬送装置および搬送方法を提供する。
【解決手段】倒立部４は、ウェーハフレームＷをその平面を鉛直方向に沿わせた状態に倒立させる。移動部５は、ウェーハフレームＷをその状態で搬送する。これにより、ウェーハフレームＷの平面を水平方向に沿わせた状態で搬送する場合に比べて、ウェーハフレームＷの搬送経路に要する面積が小さくなるので、結果として、小型化を実現することができる。すなわち、本実施の形態では、ウェーハフレームＷの平面を鉛直方向に沿わせた状態に倒立させて搬送するので、搬送経路は、少なくとも、ウェーハフレームＷの移動距離とウェーハフレームＷの厚さとを乗じた面積だけで済むので、従来よりも搬送経路に要する面積を小さくすることができる。 （もっと読む）

【課題】シール材および窒素ガスの使用の増加を防止しつつ、外気の侵入を防止することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】ウエハ１が待機する待機室１２を形成した筐体１１と、待機室１２内に形成されて窒素ガス３０が循環する循環路３１と、循環路３１の途中に設けられて窒素ガス３０を循環させる送風機４３を有するクリーンユニット４１とを備えた熱処理装置１０において、筐体１１内の送風機４３の吸込側空間５５に隔離室５１を形成する仕切板５０を設け、隔離室５１を排気する排気ダクト５２を設ける。窒素ガスが循環路を循環する際に、筐体の隙間から酸素を含む外気が送風機の吸込側空間に侵入する現象を防止する。 （もっと読む）

【課題】平面研磨装置等において、研磨を行い、純水等でリンスした後、純水等で研磨定盤に付着した平板状ワークを縁部から吸着しながら剥がして搬出するための真空吸着ヘッドを提供する。
【解決手段】本発明の真空吸着ヘッド３は、板状基体３１、板状基体３１に設けられた吸引口３４、及び、吸引口３４を取り囲むように一方の端面で板状基体３１の平坦面に取り付けられ、他方の端面が真空吸着面を構成する弾性筒状壁体３２を備えている。弾性筒状壁体３２は、平板状ワークＷの縁部に近い側の壁３２１がその中心に近い側の壁３２２より狭い壁幅を備えている。これにより、吸引時に平板状ワークＷを介して弾性筒状壁体３２が大気圧を受けて圧縮変形するとき、縁部に近い側の壁３２１がその中心に近い側の壁３２２よりも大きく圧縮変形し、縁部側から剥がされる。 （もっと読む）

【課題】
ストロークの大きな真空搬送装置であっても、適時にその駆動系を覆う容器の内部を真空排気出来る基板搬送装置を提供することを本発明の課題とする。
【解決手段】
本発明の係わる真空搬送装置は、内部を排気し得る第一の容器、前記第一の容器内に位置する内部を排気し得る第二の容器、前記第二の容器を一の方向に並進移動をさせる運動手段、排気手段と連通／遮断をするバルブ及び第一の容器に設けられた中空部分を有する第一の接合部、前記第二の容器に設けられた前記第一の接続部に対向する中空柱状体の突出部並びに前記中空柱状体の突出部の内側を移動可能で、前記第一の接合部に前記運動手段により接合可能な中空柱状体の部分を有する第二の接続部を有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】 クレーン機構が設置されていない工場においても、組み立てることが可能な搬送機構の組み立て方法を提供すること。
【解決手段】 搬送体を保持するピックユニットと、ピックユニットをスライドさせるスライドユニットと、スライドユニットを駆動させるドライブユニットと、を含む搬送体を搬送する搬送機構の組み立て方法であって、搬送機構が収容される搬送室４の天井部に、ユニットを吊り上げる吊り上げ機構７を取り付け、この吊り上げ機構７を用いて、搬送室の内部に搬入されたユニットどうしを搬送室４の内部で組み立てる。 （もっと読む）

【課題】搬送アームに基板を真空吸着して搬送する場合において、容易に交換することができるとともに、長時間吸着してもウェハに固着することがなく、安定してウェハを真空吸着することができる真空吸着パッドを提供する。
【解決手段】基板を真空吸着して搬送する基板搬送装置１６の搬送アーム１７（１９）に形成された取付孔２２又は貫通孔に取り付けられて、搬送アーム１７（１９）に設けられた真空吸引路２１と連結されて基板を真空吸着する真空吸着パッド２０であって、第１の開口部４４が形成された上面部４１と、取り付けられたときに取付孔２２または貫通孔と対向し、シール部材３２を装着する装着部４６が形成された側周面部４２とを有する。 （もっと読む）

【課題】直線案内装置への潤滑剤の供給を容易かつ安定して行うことができる技術を提供すること。
【解決手段】Ｙ軸移動基体４１により、潤滑剤注入口４４と給脂ロッド７の先端部とを嵌合させた状態で当該給脂ロッド７を押圧すると、給脂ロッド７の基端側のピストン７１が移動して、シリンダ室６１の圧力が給脂ロッド７内の潤滑剤供給路７３の圧力よりも高くなる。シリンダ室６１内はグリスで充填されているため、第１の逆止弁７５ａが開いて当該潤滑剤供給路７３内にグリスが取り込まれて、潤滑剤注入口４４を介してＹ軸移動基体４１に供給される。Ｙ軸移動基体４１を退行させて給脂ロッド７の押圧を解除すると、給脂ロッド７がバネ７２により復帰しようとし、潤滑剤貯留室６４の圧力がシリンダ室６１よりも高くなるので、第２の逆止弁６２が開いてシリンダ室６１内にグリスが補充される。 （もっと読む）

【課題】電子部品の搬送効率を高く保ちながら、電子部品が破損することがない電子部品用搬送装置を提供する。
【解決手段】電子部品を有する第１の受け渡し部と、電子部品を移載させる第２の受け渡し部と、電子部品吸着用の吸着コレット１１と、吸引装置と、吸着コレット１１を水平移動させる移動装置（ターンテーブル３、駆動装置１３）とを備える。吸着コレット１１は上下方向に移動できないように移動装置に保持される。吸引装置は、吸着コレット１１が第１の受け渡し部の上方にあるときに吸引を開始し、吸着コレット１１が第２の受け渡し部の上方にあるときに吸引を停止する。第１の受け渡し部と第２の受け渡し部との間には、電子部品と吸着コレット１１とが水平移動可能な移動空間Ｓ１〜Ｓ５が形成されている。 （もっと読む）

【課題】従来のようにカセット等の容器とアダプタユニットの切換作業をすることなく、被検査体の非自動搬送及び自動搬送に対応させることができるアダプタユニット内蔵型ローダ室を提供する。
【解決手段】本発明のローダ室１０は、カセット載置部１１とは別のバッファテーブル配置部１３に半導体ウエハＷを自動搬送するＲＧＶ４０に対応して設けられ、ＲＧＶ４０及びプローバ室２０それぞれとの間で搬送される半導体ウエハＷを複数保持するアダプタユニットを備えている。 （もっと読む）

【課題】被搬送物を搬送先にまで高精度に搬送することができる搬送装置および搬送方法を提供する。
【解決手段】基板トレイ搬送装置は、基板３を載せた基板トレイ１７を搬送アーム２６によって把持し、載置台５まで搬送する。搬送アーム２６の先端部には、反射型光ファイバーセンサー２５を有している。搬送アーム２６は縁に到達する直前に減速する。その際、センサー２５は載置台５の縁を検出する。搬送アーム２６が減速しているので、センサー２５による縁位置の検出は安定化する。制御装置３７は、センサー２５による縁位置の検出結果に基づき、載置台５の縁から載置台５の中心までの距離と、基板トレイ１７からセンサー２５までの距離とを加えた距離だけ、載置台５の縁から搬送アーム２６を移動させるように、第一の移動機構２８を制御する。 （もっと読む）

本発明の実施形態は、再現可能かつ正確な基板処理を維持しながら、システム処理量を増大させ、システム稼働時間を改善し、かつデバイス歩留り性能を改善した処理システム内で基板を処理する装置および方法を提供する。システムは、システム制御装置によって制御される複数の平面の移動子を介して平面のモータを使用することによって横方向に位置決めできる複数の処理ネストを含むことができる。各処理ネストによって支持される基板は、回転アクチュエータによってその角度を決定できる。システムは、とりわけ、スクリーン印刷、インクジェット印刷、熱処理、デバイス試験、および材料除去プロセスに使用することができる。
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【課題】移動体の位置情報を高精度で計測する。
【解決手段】 露光ステーション２００では、ウエハを保持するステージＷＦＳ１の位置情報は、計測アーム７１Ａを含む第１の微動ステージ位置計測系により計測され、計測ステーション３００では、ウエハを保持するステージＷＦＳ２の位置情報は、計測アーム７１Ｂを含む第２の微動ステージ位置計測系により計測される。露光装置１００は、ステージＷＦＳ２が計測ステーション３００から露光ステーション２００へ搬送される際、このステージＷＦＳ２の位置情報を計測可能な第３の微動ステージ計測系を有する。第３の微動ステージ計測系は、複数のＹヘッド９６，９７を含むエンコーダシステムとレーザ干渉計７６ａ〜７６ｄを含むレーザ干渉計システムとを含む。 （もっと読む）

【課題】処理条件の異なる基板の組合わせを処理実行前に、事前にチェックし、自動運転が失敗することを未然に防止し、自動運転失敗に伴う時間のロスを無くし、基板処理装置の稼働率の向上を図る。
【解決手段】基板処理をする為の基板載置手段を有する複数の処理室２５，２６と、該処理室へ基板４を搬送する第１搬送手段５を有する前記各処理室と真空ゲート２７，２８を介して連設される第１搬送室２と、大気圧状態で基板を搬送する第２搬送手段１６を有する第２搬送室１３と、前記第１搬送室と前記第２搬送室を連結する減圧可能な予備室７，８と、前記第２搬送室に連設され複数の基板が収納される基板収納手段２４と、該基板収納手段と前記処理室との間の搬送を前記第１搬送手段や前記第２搬送手段により制御させる為の制御手段とを設けた基板処理装置１であって、前記制御手段は自動運転開始時に基板毎に割付けられた処理レシピの整合性を判断する。 （もっと読む）

【課題】搬送機構の部品の消耗を抑え、従来に比べてメンテナンス間隔の長い処理装置を提供する。
【解決手段】プロセスモジュールは被処理体に対して処理を行い、前段モジュールにはこのプロセスモジュールに搬入される前の被処理体が載置される。搬送機構５は、プロセスモジュールと前記前段モジュールとの間で、被処理体を搬送し、制御部６１は、一連の搬送動作が一時停止する前記搬送機構の待ち時間が発生するときに、前記搬送機構の搬送速度を減少させる制御信号を出力する。 （もっと読む）

【課題】処理ブロックにて処理済みの基板をキャリアへ搬送する搬送手段を備えた基板処理装置において、前記搬送手段の搬送工程数の上昇を抑えてスループットを向上させること。
【解決手段】処理ブロックから基板を搬出するための第２の受け渡しモジュールに基板があり、その基板を格納するキャリアがキャリア載置部に載置されていない場合には、第２の受け渡しモジュールの基板をバッファモジュールに搬送し、第２の受け渡しモジュールに基板があり、その基板を格納するキャリアが前記キャリア載置部に載置されている場合には、バッファモジュールにてそのキャリアに搬送される基板の有無にかかわらず、第２の受け渡しモジュールにある基板を前記キャリアに搬送することで、キャリアとバッファモジュールと第２の受け渡しモジュールとの間で基板を搬送する搬送手段の搬送工程数を抑え、スループットの低下を抑えることができる。 （もっと読む）