【課題】複数の建屋間の位置に相対的な位置ずれが発生し搬送車の走行方向と異なる方向の変位が生じた場合でも、該搬送車が該複数の工場間を安定して搬送可能な半導体ウエハの搬送装置および搬送システムを提供する。
【解決手段】搬送ユニット１００は、天井側吊り部材１と、吊りボルト２と、吊りサポート（可動サポート部）３と、軌道ユニット（軌道部）４と、搬送車走行面５と、接続板（接続部）６と、各部材同士を固定するボルトとを有し、変位追従部１０１は、ｙ軸方向に延びるスライド機構（スライド部）３１を有し、該搬送ユニット１００に該スライド機構３１を設けることで、搬送車７が移動できるように構成する。 （もっと読む）

【課題】突き上げピンと突き上げピンを上下に移動するモータとを有する複数の突き上げピンユニットを用いて、基板のロード／アンロードを行う際、異常発生時に、全ての突き上げピンユニットのモータを迅速に停止させて、基板の損傷を防止する。
【解決手段】複数の突き上げピンユニットを、複数のグループに分ける。各同期制御回路６０において、グループ内の各突き上げピンユニットのモータ１１から発生された異常信号を検出し、グループ内の少なくとも１つの突き上げピンユニットのモータ１１からの異常信号を検出したとき、グループ内の全ての突き上げピンユニットのモータ１１を停止させると共に、通信ケーブル５２を介して他の同期制御回路６０へ異常を通知し、また、通信ケーブル５２を介して他の同期制御回路６０から異常の通知を受けたとき、グループ内の全ての突き上げピンユニットのモータ１１を停止させる。 （もっと読む）

【課題】真空下の半導体処理システムにおいて加工中の製品を処理する方法及びシステムに関する。
【解決手段】複数のロボットアームセットを持つロボットコンポーネントを使用した半導体を搬送するシステムであって、ロボットコンポーネント４００２は加工中の製品を搬送する下部ロボットアームセットを有し、ロボットコンポーネントは前記下部ロボットアームセットに対して実質上垂直な位置に、前記加工中の製品を搬送する上部ロボットアームセットを有する。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の搬送効率を低下させずに、搬送装置における振動を軽減する。
【解決手段】半導体装置の搬送装置９０は、半導体装置３を保持する搬送ハンド（第１搬送ハンド１）と、搬送ハンドを移動させる搬送ハンド移動機構（第１搬送ハンド移動機構１０）を有する。更に、おもり（第１おもり３１）と、おもりを移動させるおもり移動機構（第１おもり移動機構４０）を有する。更に、搬送ハンド移動機構及びおもり移動機構の動作制御を行う制御部６０を有する。制御部６０は、おもりが搬送ハンドの移動と同期して該搬送ハンドと逆方向に移動するように、搬送ハンド移動機構及びおもり移動機構の動作制御を行う。 （もっと読む）

【課題】搬送レシピ設定を簡略化することができ、最適な搬送ルートで被処理基板を搬送することができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】フープに対するウエハの搬入出を行う搬入出用搬送機構を有する搬入出部と、ウエハに対して所定の処理を行う複数の処理ユニットを有し、これら処理ユニットに対するウエハの搬送を行う主搬送機構を有する処理部と、搬入出部と処理部との間でウエハの受け渡しを行う複数の受け渡しユニットと、搬入出用搬送機構および主搬送機構によるウエハの搬送フローを制御する搬送フロー制御部と、搬入用および搬出用のフープの選択ならびに使用する処理ユニットの選択を行う選択部と、選択部で選択された搬入用および搬出用のフープならびに処理ユニットに応じて、使用する受け渡しユニットを自動的に選択し、ウエハの搬送ルートを自動的に生成する搬送レシピ作成部とを具備する。 （もっと読む）

【課題】基板に異物が付着するのを防ぐことができる基板カートリッジ、基板処理装置、基板処理システム、制御装置及び表示素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】基板が出し入れされる開口部を有し、前記開口部を介した前記基板を収容するカートリッジ本体と、前記カートリッジ本体に設けられ、外部接続部に対して着脱可能に接続されるマウント部とを備え、前記開口部は、前記マウント部と前記外部接続部との間の接続状態に応じて、前記基板によって閉塞可能に設けられている。 （もっと読む）

【課題】トレイからガラス基板を取り出してガラス基板の確認をするのではなく、パレットに収納された基板枚数、基板の種別（以下、基板種別）を判定することを可能としたガラス基板枚葉トレイ段積み用パレットを提供する。
【解決手段】ガラス基板を収納したトレイを段積みするパレットであって、段積みパレットの蓋部または段積みパレットの土台部に備えられたレーザー発光手段と、段積みパレットの土台部または段積みパレットの蓋部に備えられたレーザー検知手段と、レーザー発光手段とレーザー検知手段の間にガラス基板の種別によって異なる形状を有する１角を配置し、１角を透過したレーザー光を検知手段によって得られた検知情報を出力する情報出力部と、検知情報を処理する情報処理部と、を有することを特徴とするガラス基板枚葉トレイ段積み用パレット。 （もっと読む）

【課題】待ち時間及びサイクルタイムを短縮することができて効率的な処理を行うことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置では、制御部が、搬入出部７内の固定収容棚２５ａ〜２５ｆ、変位収容棚２９ａ〜２９ｅの一部を、ロードポートと処理ユニットとの間における「処理用」として設定するとともに、ストッカーとしての「保管用」として設定する。しかも、その割合を制御部が変更しているので、従来、外部のストッカーに一旦ＦＯＵＰを搬送する場合であっても、搬入出部７の「処理用」を「保管用」に制御部１３が設定変更することで搬送せずに済む。したがって、待ち時間及びサイクルタイムを短縮することができ、効率的な処理を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】１つのピックを前進及び後退させることで未処理の被処理体と処理済みの被処理体とを入れ替えすることが可能な載置台構造を提供する。
【解決手段】被処理体Ｗを収容することができる容器４６内に設けられて、搬入される被処理体を載置するための載置台構造において、載置台５８と、ベース台６４と、ベース台を昇降させる昇降手段７２と、ベース台に設けられ、その上端部で被処理体を支持する複数の第１のピン部６６と、載置台の外周側に位置されると共に外側へ屈伸復帰可能にベース台に起立させて設けられ、第１のピン部よりも長く設定されると共にその上端部で載置台上の被処理体とは異なる被処理体を支持する複数の第２ピン部６８と、ベース台の上昇時に第２ピン部を一時的に外側へ展開させる展開機構６９とを備える。これにより１つのピックを前進及び後退させることで未処理の被処理体と処理済みの被処理体とを入れ替える。 （もっと読む）

【課題】Ｗｅｔ処理装置（洗浄装置あるいは現像装置等液体を用いるプロセス処理機）内の基板搬送にも適用可能で、配管系の不要なコンパクトな基板吸着装置の提供を目的とした。
【解決手段】少なくとも、基板を気密に吸着するためのラッパ状の吸着口を備えるゴムパッド８と、前記ゴムパッドの基部を膜保持ハウジング３０を介して気密に被覆するダイアフラム膜７と、前記ダイアフラム膜７を変形させるための圧力制御ブロック３と、を有することを特徴とする基板吸着装置である。 （もっと読む）

【課題】異常により所定の処理が停止しても、リトライ処理を行うことで、ウェハ回収作業等の実施に起因する装置稼働率の低下を抑止できる基板処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】ウェハ１を搬送する搬送手段と、前記搬送手段を制御する制御手段を備えた基板処理装置であって、前記搬送手段が、前記基板を搬送中にエラーが発生して一時停止したときに、前記制御手段は、所定回数のリトライ処理を前記搬送手段に実施させても前記エラーが解消されない場合、前記搬送手段を待機状態（コマンド入力待ち状態）に移行させる。 （もっと読む）

【課題】高スループット化と省フットプリント化の相反する条件の両立を実現する。
【解決手段】搬送室１２と、基板を処理する処理室１６とを有し、前記搬送室１２は、基板を当該搬送室１２から前記処理室１６へ搬送する第１の基板搬送部材を有し、前記処理室１６は、前記搬送室１２と隣接され、第１の基板載置台３７を有する第１の処理部３６と、前記第１の処理部３６の内、前記搬送室１２とは異なる側に隣接され、第２の基板載置台４１を有する第２の処理部３８と、前記第１の処理部３６と前記第２の処理部３８の間で基板を搬送する第２の基板搬送部材４０と、少なくとも前記第２の基板搬送部材４０を制御する制御部とを有する。 （もっと読む）

【課題】部品の点数の大幅な増加や大型化等を防ぎつつ、マスクの交換時間を短くすること。
【解決手段】第１のマスクＭ１での露光中に、第１のハンドラ１１ａがマスク保管部６から次に使用する第２のマスクＭ２を取り出し、プリアライメントステージ５に載せてプリアライメントを行う。露光が終わると第２のハンドラ１２ａが第１のマスクＭ１をプリアライメントステージ５まで運ぶ。マスク退避機構１３の第３のハンドラ１３ａは第１のマスクＭ１を受け取りいったん保持する。第２のハンドラ１２ａは、第２のマスクＭ２を保持し、マスクステージ２へ搬送する。同時に第３のハンドラ１３ａが保持していた第１のマスクＭ１を第１のハンドラが受け取ってマスク保管部６に回収する。マスク退避機構１３を設けマスクを退避させるようにしたのでマスクの交換時間を短縮することができる。 （もっと読む）

【課題】半導体基板であるウエハに対して、ウエハの向きを所定の向きに合わせた後、真空処理室にて真空処理を行うに装置において、スループットを高めること。
【解決手段】予備真空室２１（２２）内にウエハを載置して温度調整するための温調プレート４を設け、この温調プレート４に突没自在な回転ステージ５を設ける。ラインセンサ６を構成する発光部６１を回転ステージ５の上方側又は下方側の一方に設け、受光部６２を他方に設ける。前記温調プレートにおける、発光部６１の光軸に対応する位置に光透過部４３を形成する。回転ステージ５にウエハを載置し、ラインセンサ６を用いて、大気雰囲気と真空雰囲気の切り替え時にウエハの向きを合わせる。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の製造検査装置の搬送室に異常が生じたとき、オペレータが縮退運転状態であることを知らずに処理が継続されることによるスループットの低下を防止し、搬送室の異常に対する修理等を早期に行うことができるようにする。
【解決手段】試料室へ試料を搬送する２つの搬送室のそれぞれの状態を検出するセンサと、センサからの信号に基づいて監視を行う搬送制御装置とを備え、搬送制御装置は、１つの搬送室の異常を検知したとき、異常を検知された搬送室の入口側，出口側ゲートバルブのうちの少なくとも１つを閉鎖し、予め自動モードが設定されている場合は自動縮退運転に移行して縮退運転状態であることを表示装置へ表示させ、予め手動モードが設定されている場合は、２つの搬送室のうちのどちらが異常であるかを表示させるとともに、縮退運転を行うか装置を停止させるかを選択させる画面を表示装置へ表示させる。 （もっと読む）

【課題】 省スペースで、かつ処理装置との間のロードアンロードと並行して、搬送車との間でカセットの受け渡しができる、ローダアンローダを提供する。
【構成】 ローダアンローダに、カセットを載置する載置部と処理装置との間でカセット内の物品を受け渡しする移載装置とを備えたユニットを、搬送車の移動経路に沿って複数設ける。複数のユニットを搬送車の移動経路に沿って移動させる移動機構と、コントローラとを設け、１つのユニットが処理装置との間で物品を移載している際に、他のユニットを搬送車との間でカセットを移載する位置に配置する。 （もっと読む）

【課題】 セル統合方式のレール型物品移送方式が適用された半導体移送システムにおいて、正常な物品移送中に発生しうる特定の区間での車両集中または車両不足現象を体系的かつ効果的に防止できる半導体移送システム及びその車両制御方法を提供することで、半導体製造ラインでの物品移送効率を向上させる。
【解決手段】 車両数の範囲が設定された複数の区間を互いに連結し、前記各区間の内部または各区間の間を複数の車両が移動するように経路を提供するレールと、前記車両の移動時に車両数が前記各区間で前記設定範囲に維持されるかどうかを判断し、車両数が前記各区間のうち少なくとも一つの区間で設定範囲から逸脱する場合、前記各区間のうち少なくとも一つの区間で設定範囲に維持されるように前記車両の移動を制御する車両制御部と、を含んで半導体移送システムを構成する。 （もっと読む）

【課題】大型基板インデックス型ロードロック群を有する装置に匹敵する基板スループットを達成可能で且つ相当に低コストの基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置５０において、複数の基板支持シェルフ有する第１の基板保持位置を有するロードロック５８に対して基板を搬入及び搬出する方法であって、非インデックス型ロードロックであるロードロック５８が有する前記第１の基板保持位置内の第１の基板支持シェルフから未処理基板を除去するステップと、前記未処理基板が、前記基板保持位置の前記基板支持シェルフの垂直方向運動無しに前記第１の基板支持シェルフから除去された後かつ他のいずれかの既処理または未処理基板が、ロードロック５８が有する前記第１の基板保持位置の他の基板支持シェルフに挿入もしくはそこから除去される前に既処理の基板を前記第１の基板支持シェルフに挿入する挿入ステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】可撓性基板の搬送位置制御のために新たな設備を設置することが不要であり、既存の搬送ラインの構成をそのまま維持できるとともに、可撓性基板の搬送位置を所望の方向へ迅速かつ確実に移動させることが可能な基板搬送位置制御装置を提供することにある。
【解決手段】可撓性基板１０に張力を付与し、可撓性基板１０を長手方向に沿って搬送する曲率半径可変ロール１を備え、曲率半径可変ロール１は、曲率半径を軸方向で部分的に変化させることによって、可撓性基板１０が接触した際に生ずる張力に可撓性基板１０の幅方向で分布を与え、可撓性基板１０の搬送位置を変化させるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】基板のずれや落下を防止すると共に、露光装置のスループットの向上に有利な技術を提供する。
【解決手段】レチクルのパターンを基板に転写する露光装置であって、前記基板の下面を吸着して保持しながら前記基板を搬送する搬送部と、前記搬送部によって前記基板を鉛直下方向の加速をともない搬送する場合の搬送加速度が前記搬送部によって前記基板を鉛直上方向の加速をともない搬送する場合の搬送加速度よりも小さくなるように、前記搬送部の搬送条件を制御する制御部と、を有することを特徴とする露光装置を提供する。 （もっと読む）