基板処理装置および基板搬送方法
【課題】搬送レシピ設定を簡略化することができ、最適な搬送ルートで被処理基板を搬送することができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】フープに対するウエハの搬入出を行う搬入出用搬送機構を有する搬入出部と、ウエハに対して所定の処理を行う複数の処理ユニットを有し、これら処理ユニットに対するウエハの搬送を行う主搬送機構を有する処理部と、搬入出部と処理部との間でウエハの受け渡しを行う複数の受け渡しユニットと、搬入出用搬送機構および主搬送機構によるウエハの搬送フローを制御する搬送フロー制御部と、搬入用および搬出用のフープの選択ならびに使用する処理ユニットの選択を行う選択部と、選択部で選択された搬入用および搬出用のフープならびに処理ユニットに応じて、使用する受け渡しユニットを自動的に選択し、ウエハの搬送ルートを自動的に生成する搬送レシピ作成部とを具備する。
【解決手段】フープに対するウエハの搬入出を行う搬入出用搬送機構を有する搬入出部と、ウエハに対して所定の処理を行う複数の処理ユニットを有し、これら処理ユニットに対するウエハの搬送を行う主搬送機構を有する処理部と、搬入出部と処理部との間でウエハの受け渡しを行う複数の受け渡しユニットと、搬入出用搬送機構および主搬送機構によるウエハの搬送フローを制御する搬送フロー制御部と、搬入用および搬出用のフープの選択ならびに使用する処理ユニットの選択を行う選択部と、選択部で選択された搬入用および搬出用のフープならびに処理ユニットに応じて、使用する受け渡しユニットを自動的に選択し、ウエハの搬送ルートを自動的に生成する搬送レシピ作成部とを具備する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を収納する収納容器から複数の処理ユニットのいずれかに対して基板を搬送し、基板に対して所定の処理を行う基板処理装置およびそのような基板処理装置における基板搬送方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造プロセスやフラットパネルディスプレー（ＦＰＤ）の製造プロセスにおいては、被処理基板である半導体ウエハやガラス基板に対して、パーティクルやコンタミネーションを除去する洗浄処理や、レジスト塗布・現像処理等が行われている。
【０００３】
このような処理を行う基板処理装置は、所定の処理を行う複数の処理ユニットが集積して構成されており、収納容器に収納された複数の被処理基板を搬送装置を用いて順次各処理ユニットに搬送して処理を行い、各処理ユニットで処理された後の被処理基板を収納容器に収納するという動作が行われる。
【０００４】
この種の基板処理装置は非常に高速で処理を行うことが要求されるため、基板を収納する収納容器が載置される搬入出部と、所定の処理を行う処理ユニットが複数集積して構成された処理部と、搬入出部と処理部との間に多数積層して設けられた、被処理基板を受け渡すための複数の受け渡しユニットと、被処理基板を搬送する搬送機構を設けたものが用いられ、収納容器から順次取り出された被処理基板を搬送装置によりいずれかの受け渡しユニットに搬送し、この受け渡しユニットから搬送機構により各処理ユニットに搬送し、処理後は被処理基板を処理ユニットからいずれかの受け渡しユニットを経て収納容器に収容することが行われている（例えば特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−１１０６０９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述のような複数の処理ユニットと複数の受け渡しユニットを有する処理装置では、収納容器から複数の受け渡しユニットのうちいずれかを介して複数の処理ユニットのうちのいずれかに搬送して処理を行い、また、複数の処理を行う場合には、さらに別の処理ユニットへ搬送して別の処理を行い、処理後の被処理基板をいずれかの受け渡しユニットを介して収納容器に搬送する必要がある。ここで、用いる収納容器、処理ユニット、受け渡しユニットには処理のパターンに応じて種々の組み合わせが存在するため、被処理基板の搬送ルートを規定する搬送レシピは、オペレータが、使用するモジュール、つまり収納容器、受け渡しユニット、処理ユニットを全て指定することにより作成している。
【０００７】
ところで、近時、この種の基板処理装置においては、処理のスループットに対する要求が益々厳しくなっており、それに対応すべく処理ユニットや受け渡しユニットの数が増加しているため、搬送レシピ作成の都度、使用するモジュールを全て指定することは煩雑であるとともに、モジュールの指定の内容によって、受け渡しユニットの使い方に制限が発生するため、レシピ作成時に指定が正しいかを検証し、正しくない場合には再作成する必要があり、手間がかかる。また、指定が正しく、搬送が可能であるとしても、それがスループットを考慮した場合に最適な受け渡しユニットを選択しているかどうかを把握することは困難である。
【０００８】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、搬送レシピ設定を簡略化することができ、最適な搬送ルートで被処理基板を搬送することができる基板処理装置およびそのような基板処理装置における基板搬送方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る基板処理装置は、被処理基板を収納する収納容器が載置される載置台を有する搬入出部と、被処理基板に対して所定の処理を行う複数の処理ユニットを有する処理部と、前記搬入出部と前記処理部との間で、被処理基板の受け渡しを行う複数の受け渡しユニットと、被処理基板搬入用の収納容器および被処理基板搬出用の収納容器の選択、ならびに使用する基板を処理する処理ユニットの選択を受け付ける選択部と、前記選択部で選択が受け付けられた被処理基板搬入用の収納容器および被処理基板搬出用の収納容器ならびに処理ユニットに応じて、複数の受け渡しユニットから使用する受け渡しユニットを自動的に選択し、被処理基板の搬送ルートを自動的に生成して搬送レシピを作成する搬送レシピ作成部とを具備することを特徴とする。
【００１０】
本発明に係る基板搬送方法は、被処理基板を収納する収納容器から被処理基板を搬出した後、被処理基板の受け渡しを行う複数の受け渡しユニットのいずれかを介して、被処理基板に対して所定の処理を行う複数の処理ユニットのいずれかに搬送して、被処理基板に所定の処理を行う基板処理装置における基板搬送方法であって、収納容器および使用する処理ユニットを選択し、選択された収納容器および処理ユニットに応じて、使用する受け渡しユニットを自動的に選択し、被処理基板の搬送ルートを自動的に生成して搬送レシピを作成し、前記作成した搬送レシピに基づいて被処理基板の搬送を制御することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、搬入用の収納容器および搬出用の収納容器の選択、ならびに使用する処理ユニットの選択を行い、選択された搬入用の収納容器および搬出用の収納容器ならびに処理ユニットに応じて、使用する受け渡しユニットを自動的に選択し、被処理基板の搬送ルートを自動的に生成して搬送レシピを作成するので、搬送レシピ設定を簡略化することができ、最適なスループットが得られる搬送ルートでウエハＷを搬送することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の一実施形態に係る基板処理装置の概略構造を示す平面図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る基板処理装置の概略構造を示す縦断側面図である。
【図３】図１の基板処理装置における処理ブロックの内部を示す図である。
【図４】処理ブロックを搬入出ブロックの反対側から見た図である。
【図５】処理ブロックの積層タワーおよび受け渡し用搬送機構を搬入出ブロック側から見た図である。
【図６】図１の基板処理装置の制御部の構成を示すブロック図である。
【図７】操作部における搬送レシピ編集画面のメイン画面を示す図である。
【図８】図７の搬送レシピ編集画面から表示されたモジュール選択画面を示す図である。
【図９】搬送レシピ生成部で生成された搬送レシピの例を示す図である。
【図１０】搬送アームアクセステーブルを示す図である。
【図１１】搬送レシピ生成部で生成された搬送レシピが表示された表示画面を示す図である。
【図１２】図１１の搬送レシピ表示画面の受け渡しユニットが展開された画面を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、添付図面を参照して本発明の実施形態について具体的に説明する。本実施形態では、本発明に係る基板処理装置を、被処理基板である半導体ウエハ（以下、単にウエハと記す）の表面および裏面のスクラブ洗浄を行う装置に適用した例について説明する。なお、ウエハの表面はデバイス形成面であり、裏面はその反対側の面である。
【００１４】
図１は本実施形態に係る基板処理装置の概略構造を示す平面図であり、図２はその縦断側面図、図３は図１の基板処理装置における処理ブロックの内部を示す図、図４は処理ブロックを搬入出ブロックの反対側から見た図、図５は処理ブロックの積層タワーおよび受け渡し用搬送機構を搬入出ブロック側から見た図である。これらに示すように、基板処理装置１００は、被処理基板であるウエハＷが密閉状態で所定枚数（例えば２５枚）収納される収納容器（カセット）であるフープ（ＦＯＵＰ；Front
Opening Unified Pod）Ｆを載置し、ウエハＷの搬入出するための搬入出ブロック１と、ウエハＷに対してスクラブ洗浄処理を行うための処理ブロック２と、基板処理装置１００の各構成部を制御するための制御部５とを有している。
【００１５】
搬入出ブロック１は、フープＦを複数個載置可能な載置台１１と、この載置台１１から見て前方の壁面に設けられる開閉部１２と、開閉部１２を介してフープＦに対するウエハＷの搬入出および処理ブロック２の後述する所定の受け渡しユニットに対するウエハＷの搬入出を行う搬入出用搬送機構１０とを有している。
【００１６】
処理ブロック２は、ウエハＷに対してスクラブ洗浄を行う洗浄処理部３と、洗浄処理前または洗浄処理後のウエハＷの受け渡し、およびウエハＷの反転を行う受け渡し／反転部４とを有している。
【００１７】
洗浄処理部３は、下段部３ａおよび上段部３ｂの上下２段の処理部を有しており、下段部３ａはウエハＷに対してスクラブ洗浄を行う４つのスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）３１〜３４と、ウエハＷを搬送する主ウエハ搬送機構３０とを有しており、主ウエハ搬送機構３０を挟んで一方側（手前側）に下から順にスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）３１、３２が積層された状態で設けられており、反対側（奥側）に下から順にスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）３３、３４が積層された状態で設けられている。また、上段部３ｂはウエハＷに対してスクラブ洗浄を行う４つのスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）４１〜４４と、ウエハＷを搬送する主ウエハ搬送機構４０とを有しており、主ウエハ搬送機構４０を挟んで一方側（手前側）に下から順にスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）４１、４２が積層された状態で設けられており、反対側（奥側）に下から順にスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）４３、４４が積層された状態で設けられている。
【００１８】
受け渡し／反転部４は、複数の受け渡しユニット（ＴＲＳ）とウエハＷを反転する反転ユニット（ＲＶＳ）とが積層された積層タワー２１と、積層タワー２１の特定の受け渡しユニット間でウエハＷの搬送を行う受け渡し用搬送機構２０とを有している。
【００１９】
積層タワー２１は、洗浄処理部３の下段部３ａに対応する下部２１ａと上段部３ｂに対応する上部２１ｂを有している。下部２１ａは、下から順に反転ユニット（ＲＶＳ）３５、６つの受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１１，２１２，２１３，２１４，２１５，２１６、反転ユニット（ＲＶＳ）３６が積層されている。また上部２１ｂは、下から順に反転ユニット（ＲＶＳ）４５、４つの受け渡しユニット（ＴＲＳ）２２１，２２２，２２３，２２４、反転ユニット（ＲＶＳ）４６が積層されている。
【００２０】
下部２１ａの６つの受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１１〜２１６のうち、３つの受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１１，２１３，２１５は、洗浄処理部３の下段部３ａでの処理に対応したものであり、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１２，２１４は、例えば、上部２１ｂの受け渡しユニット（ＴＲＳ）２２１，２２２へウエハＷを受け渡すために用いられる。また、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１６は、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２２３，２２４からウエハＷを受け取るために用いられる。受け渡しユニット（ＴＲＳ）２２１，２２２，２２３，２２４は、洗浄処理部３の上段部３ｂでの処理に対応したものである。そして、例えば、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１１，２１２，２１３，２１４，２２１，２２２がウエハＷの搬入専用に用いられ、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１５，２１６，２２３，２２４がウエハＷの搬出専用に用いられる。
【００２１】
上記搬入出用搬送機構１０は、２枚の搬送アーム１０ａ，１０ｂを有しており、これら搬送アーム１０ａ，１０ｂは一体的に、進退移動、昇降移動、鉛直軸回りの回転、およびフープＦの配列方向への移動が可能となっている。そして、この搬入出用搬送機構１０により、フープＦと下部２１ａの受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１１〜２１６との間でウエハＷの授受が可能となっている。このとき、２つの搬送アーム１０ａ，１０ｂによりウエハＷ２枚を同時に搬送可能となっている。
【００２２】
上記主搬送機構３０は、搬送アーム３０ａを有しており、搬送アーム３０ａは、進退移動、昇降移動、鉛直軸回りの回転が可能となっている。主搬送機構３０は、この搬送アーム３０ａにより、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１１，２１２，２１３，２１４，２１５，２１６、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）３１〜３４、反転ユニット（ＲＶＳ）３５，３６にアクセス可能となっており、これらの間でウエハＷを授受することが可能となっている。
【００２３】
上記主搬送機構４０は、搬送アーム４０ａを有しており、この搬送アーム４０ａは、進退移動、昇降移動、鉛直軸回りの回転が可能となっている。主搬送装置４０は、この搬送アーム４０ａにより、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２２１，２２２，２２３，２２４、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）４１〜４４、反転ユニット（ＲＶＳ）４５，４６にアクセス可能となっており、これらの間でウエハＷが授受される。
【００２４】
上記受け渡し用搬送機構２０は、搬送アーム２０ａを有しており、この搬送アーム２０ａは進退移動、昇降移動が可能となっている。受け渡し用搬送機構２０は、この搬送アーム２０ａにより、下部２１ａの受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１１，２１２，２１３，２１４，２１５，２１６と、上部２１ｂの受け渡しユニット（ＴＲＳ）２２１，２２２，２２３，２２４との間でウエハＷの授受が可能となっている。図５では、受け渡し用搬送機構２０を、下部２１ａの受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１３，２１４と上部２１ｂの受け渡しユニット（ＴＲＳ）２２１，２２２，２２３，２２４との間でのウエハＷの授受を行うために用いる例を示している。
【００２５】
上記スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）３１〜３４，４１〜４４は、カップ内にウエハＷを水平に保持し、ウエハＷを回転させた状態で、洗浄液を供給しながらウエハＷの上面をブラシ洗浄するものである。
【００２６】
上記反転ユニット（ＲＶＳ）３５，３６，４５，４６は、ウエハＷを保持し、垂直方向に１８０°回転させてウエハＷの表裏を反転させる反転機構を有している。反転機構によりウエハＷを反転させることによって、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）３１〜３４，４１〜４４において、ウエハＷの表面および裏面の任意の面のスクラブ洗浄が可能となっている。
【００２７】
上記制御部５は、図６に示すように、洗浄処理装置１におけるウエハの搬送および各ユニットでの処理を制御するものであり、上位の制御部である主制御部５０と、各搬送機構および各ユニットを制御する下位の制御部である副制御部６０とを有している。主制御部５０は、マイクロプロセッサ（ＭＰＵ）を備えた演算部５１と、操作部５２と、処理に必要な情報を記憶する記憶部５３とを有している。
【００２８】
操作部５２と記憶部５３とは演算部５１に接続されている。操作部５２は、例えばタッチパネル方式のディスプレイからなっており、処理に必要な所定の操作を行うようになっている。記憶部５３は、一時的に情報の読み出しおよび書き込みを行う機能と、基板処理装置１００で実行される各種処理を行うために必要な制御プログラムや、基板処理装置１００の各構成部に所定の処理を実行させるためのレシピを記憶する機能を有している。レシピ等の制御プログラムは記憶部５３の中の記憶媒体に記憶されている。
【００２９】
制御部５は、このように基板処理装置１００の全体を制御するものであるが、本実施形態では、受け渡しユニット（ＴＲＳ）を自動的に選択し、搬送レシピを自動的に作成することに特徴があり、以下その点を中心として詳細に説明する。
【００３０】
主制御部５０の演算部５１は、ウエハの搬送フローを一括して制御する搬送フロー制御部５５と、ユニットでの処理を一括して制御するユニット制御部５６と、使用する受け渡しユニット（ＴＲＳ）を自動的に選択し、ウエハＷの搬送ルートを自動的に生成して搬送レシピを作成する搬送レシピ作成部５７とを有している。
【００３１】
また、操作部５２は、ウエハ搬入に用いるフープＦ、処理に用いるスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）および反転ユニット（ＲＶＳ）、ウエハ搬出に用いるフープＦを選択する選択部５８を有している。操作部５２は複数の操作画面に切替可能であり、後述するように、その搬送レシピ編集画面上での操作により表示されたモジュール選択画面が選択部５８として機能する。
【００３２】
副制御部６０は、搬入出用搬送機構１０を制御する搬入出用搬送機構制御部６１と、受け渡し用搬送機構２０を制御する受け渡し用搬送機構制御部６２と、主搬送機構３０、４０を制御する主搬送機構制御部６３と、スクラブ洗浄ユニット３１〜３４、４１〜４４を個別的に制御するスクラブ洗浄ユニット制御部６４と、反転ユニット３５，３６，４５，４６を個別的に制御する反転ユニット制御部６５とを有している。そして、搬送フロー制御部５５が、搬入出用搬送機構制御部６１、受け渡し用搬送機構制御部６２、および主搬送機構制御部６３を制御し、ユニット制御部５６が、スクラブ洗浄ユニット制御部６４、および反転ユニット制御部６５を制御するようになっている。
【００３３】
上記主制御部５０において、搬送レシピ作成部５７は、操作部５２の選択部５８により、ウエハ搬入に用いるフープＦ、処理に用いるスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）および反転ユニット（ＲＶＳ）、ウエハ搬出に用いるフープＦが選択されると、それに応じて使用する受け渡しユニット（ＴＲＳ）を自動的に選択し、搬送機構による搬送ルートを自動生成し、搬送レシピを作成するものである。搬送レシピ作成部５７で作成された搬送レシピは、記憶部５３に記憶される。そして、搬送フロー制御部５５は、搬送レシピ作成部５７で作成された搬送レシピを記憶部５３から呼び出し、その搬送レシピに基づいて、搬入出用搬送機構制御部６１、受け渡し用搬送機構制御部６２、および主搬送機構制御部６３に制御指令を送り、搬入出用搬送機構１０、受け渡し用搬送機構２０、主搬送機構３０および４０の搬送動作を制御する。
【００３４】
以下、搬送レシピ作成部５７における搬送レシピの作成について、図７〜１２に基づいて詳細に説明する。
なお、以下の説明において、フープＦ、受け渡しユニット（ＴＲＳ）、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）、反転ユニット（ＲＶＳ）の一つひとつをモジュールと呼ぶ。また、４つのフープＦのモジュール番号は１−１〜１−４であるが、画面上、１−＊と表示する。さらに、画面においては、受け渡しユニットを「ＴＲＳ」、スクラブ洗浄ユニットを「ＳＣＲ」、反転ユニットを「ＲＶＳ」、搬入出用搬送機構１０を「ＣＲＡ」、主搬送機構３０，４０を「ＰＲＡ」、受け渡し用搬送機構２０を「ＭＰＲＡ」と表示している。また、搬入出用搬送機構１０、主搬送機構３０，４０、受け渡し用搬送機構２０のモジュール番号は、１−０、３−０、４−０、２−０、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１１〜２１６，２２１〜２２４のモジュール番号は、２−１１〜２−１６，２−２１〜２−２４、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）３１〜３４，４１〜４４のモジュール番号は、３−１〜３−４，４−１〜４−４、反転ユニット（ＲＶＳ）３５，３６，４５，４６のモジュール番号は、３−５，３−６，４−５，４−６と表示している。さらに、搬入側のフープ（カセット）Ｆを「Ｓｔａｒｔ−ＣＳ」または「開始ステージ」または「ＦＵＳＴ］、搬出側のフープ（カセット）Ｆを「Ｅｎｄ−ＣＳ」または「終了ステージ」または「ＦＵＳＴ」と表示している。
【００３５】
操作部５２における搬送レシピ編集画面のメイン画面は図７に示すようになっており、この画面のレシピ作成ボタン６０をタッチすることにより、図８に示すモジュール選択画面が表示され、これが選択部５８として機能する。そして、このモジュール選択画面において、使用するＳｔａｒｔ−ＣＳおよびＥｎｄ−ＣＳの番号を入力するとともに、使用するモジュール番号のプロセスモジュール（ＳＣＲおよびＲＶＳ）をタッチして選択する。受け渡しユニット（ＴＲＳ）および搬送機構（ＣＲＡ、ＭＰＲＡ、ＰＲＡ）は自動的に選択されるため選択することができない。
【００３６】
搬送レシピ作成部５７では、選択部５８において選択されたフープＦ、および選択部５８において選択されたプロセスモジュールに応じて、予めパラメータとして持っている装置構成設定に基づいて、使用するＴＲＳを外部からの指定なしに自動的に選択し、搬送機構１０，２０，３０，４０による搬送ルートを自動生成する。このとき処理時間をシミュレートすることによって、スループットが最適となるＴＲＳの自動選択および搬送ルートの自動生成を行うことができる。
【００３７】
パラメータとしては、複数の受け渡しユニットの各々につけられた使用優先順位を挙げることができ、使用優先順位の早いものから自動的に選択されるようにするようにすることができる。次の使用順位の受け渡しユニットが使用中の場合には、使用可能なものの中で最も使用優先順位の早いものが自動選択されるようにすることができる。
【００３８】
本実施形態では、処理前のウエハＷの搬入用の受け渡しユニット（ＴＲＳ）と処理後のウエハＷの搬出用の受け渡しユニット（ＴＲＳ）を決定し、割り当てられた番号の若い順より使用優先順位が早く（高く）なるように決定する。
【００３９】
具体的には、例えば、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１１，２１２，２１３，２１４を搬入用とし受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１５，２１６を搬出用とした場合に、以下のようにして受け渡しユニットの自動的選択、および搬送レシピの作成が行われる。なお、以下の説明において、ＣＲＡは搬入出用搬送機構１０、ＴＲＳは受け渡しユニットである。また、下段部３ａおよび上段部３ｂの表記は、そこでの主搬送機構３０，４０による搬送およびスクラブ洗浄ユニット等の処理ユニットでの処理を含んでいる。
【００４０】
１枚目：ＴＲＳ２１１→下段部３ａ→ＴＲＳ２１５→ＣＲＡ→容器
２枚目：ＴＲＳ２１２→ＴＲＳ２２１→上段部３ｂ→ＴＲＳ２２３→ＴＲＳ２１６→ＣＲＡ→容器
３枚目：ＴＲＳ２１３→下段部３ａ→ＴＲＳ２１５→ＣＲＡ→容器
４枚目：ＴＲＳ２１４→ＴＲＳ２２２→上段部３ｂ→ＴＲＳ２２４→ＴＲＳ２１６→ＣＲＡ→容器
５枚目：ＴＲＳ２１１→下段部３ａ→ＴＲＳ２１５→ＣＲＡ→容器
６枚目：ＴＲＳ２１２→ＴＲＳ２２１→上段部３ｂ→ＴＲＳ２２３→ＴＲＳ２１６→ＣＲＡ→容器
７枚目：ＴＲＳ２１３→下段部３ａ→ＴＲＳ２１５→ＣＲＡ→容器
８枚目：ＴＲＳ２１４→ＴＲＳ２２２→上段部３ｂ→ＴＲＳ２２４→ＴＲＳ２１６→ＣＲＡ→容器
【００４１】
搬入出用搬送機構１０のウエハＷの搬送が２枚同時でもよく、その場合は、最初に、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１１，２１２に同時にウエハＷを搬入する。この際に、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１１から洗浄処理部３の下段部３ａにウエハＷが搬送され、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１２から受け渡しユニット（ＴＲＳ）２２１を介して上段部３ｂにウエハＷが搬送される。処理後は、洗浄処理部３の下段部３ａから受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１５にウエハＷが搬送され、上段部３ｂから受け渡しユニット（ＴＲＳ）２２３を介して受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１６にウエハＷが搬送される。そして、搬入出搬送機構１０により受け渡しユニット１５、２１６からウエハＷが２枚同時に搬出される。
【００４２】
次に、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１３、２１４に同時にウエハＷを搬入する。この際には、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１３から洗浄処理部３の下段部３ａにウエハＷが搬送され、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１４から受け渡しユニット（ＴＲＳ）２２２を介して上段部３ｂにウエハＷが搬送される。処理後は、洗浄処理部３の下段部３ａから受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１５にウエハＷが搬送され、上段部３ｂから受け渡しユニット（ＴＲＳ）２２４を介して受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１６にウエハＷが搬送される。そして、搬入出搬送機構１０により受け渡しユニット１５、２１６からウエハＷが２枚同時に搬出される。
【００４３】
搬送レシピ作成部５７において実際に作成した搬送レシピの例について図９を参照して説明する。ここでは、スループットを向上させるために搬入出用搬送機構１０の２つの搬送アーム１０ａ，１０ｂにより一度に２枚のウエハを搬送する例を示す。搬送レシピはモジュール毎に番号がつけられており、その番号毎にステップ番号が通し番号で付されている。
【００４４】
図９において、番号１は図８のモジュール選択画面から選択された開始ステージ（フープ番号）であり、番号２は搬入用の受け渡しユニット（ＴＲＳ）であり、番号３〜６は図８のモジュール選択画面から選択されたプロセスモジュール（反転ユニット（ＲＶＳ）およびスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ））であり、番号７は搬出用の受け渡しユニット（ＴＲＳ）であり、番号８は図８のモジュール選択画面から選択された終了ステージ（フープ番号）である。これらのうち、番号１、８の搬入ステージおよび搬出ステージの選択、ならびに番号３〜６のプロセスモジュールの選択は、上述したように、オペレータの選択に基づいて行われ、番号２の搬入用の受け渡しユニット（ＴＲＳ）および番号７の搬出用の受け渡しユニット（ＴＲＳ）の選択、および搬送機構による全体的な搬送ルートの生成については、選択された搬入ステージおよび搬出ステージならびにプロセスモジュールに応じて自動的に行われる。
【００４５】
なお、プロセスモジュールの選択はこの例に限るものではなく、例えば洗浄処理部３の下段部３ａのプロセスモジュールのみを選択する場合、下段部３ａおよび上段部３ｂの一部のプロセスモジュールのみを選択する場合、例えば、表面洗浄処理のみを行うため、反転ユニット（ＲＶＳ）を選択しない場合や、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）の一部を選択する場合等、種々のケースが考えられ、本実施形態ではこのような種々のケースに応じて、受け渡しユニット（ＴＲＳ）および搬送機構による搬送ルートを自動的に作成する。
【００４６】
搬送レシピ作成部５７における受け渡しユニット（ＴＲＳ）の選択に際しては、予め記憶部５３に記憶された図１０に示す搬送アームアクセステーブルのアクセス制限フラグをキーとして、受け渡しユニット（ＴＲＳ）を搬入用（搬入出ブロック１→処理ブロック２）と搬出用（処理ブロック２→搬入出ブロック１）に分類する。すなわち、搬送アームアクセステーブルのアクセス制限フラグは、空欄は未設定であり、アクセス制限が未設定の受け渡しユニット（ＴＲＳ）を搬入用とし、アクセス制限が設定されている受け渡しユニット（ＴＲＳ）を搬出用とする。したがって、図９の例では、受け渡しユニット（ＴＲＳ）が全て有効な場合には、搬入用の受け渡しユニット（ＴＲＳ）のモジュール番号は、２−１１〜２−１４、２−２１、２−２２であり、搬出用の受け渡しユニット（ＴＲＳ）のモジュール番号は、２−１５、２−１６、２−２３、２−２４である。
【００４７】
また、図１０の搬送アームアクセステーブルは装置の設定パラメータの一つとして機能するものであり、選択部５８によるプロセスモジュールの選択から、用いられる搬送機構（搬送アーム）を逆に求め、その搬送アームがアクセス可能な受け渡しユニット（ＴＲＳ）を求めるとともに、最適なスループットとなる搬送ルートを求める。
【００４８】
搬入用の受け渡しユニット（ＴＲＳ）のレシピデータ（番号２）については、プロセスモジュール選択時に同時に作成される。図９の例では番号３の反転ユニット（ＲＶＳ）の選択の際に同時に作成される。同一番号複数ステップ（番号２、ステップ２〜７）の受け渡しユニット（ＴＲＳ）はモジュール番号でソートする（昇順）。また、ここでは、いくつかの受け渡しユニット（ＴＲＳ）は、異なる搬送アーム、具体的にはＭＰＲＡがアクセスするが、このような場合でも同一番号に登録することが可能となっている。また、上段部３ｂのプロセスモジュールが未選択の場合には、ＭＰＲＡ経由の受け渡しユニット（ＴＲＳ）である２−２１と２−２２は選択対象外とされる。
【００４９】
下段部３ａおよび上段部３ｂのプロセスモジュールが選択された場合には、スループットを高める観点から、下段部３ａの搬入用の受け渡しユニット（ＴＲＳ）として用いられる２−１１，２−１３と、上段部３ｂの搬入用の受け渡しユニット（ＴＲＳ）として用いられる２−２１，２−２２とに対して、交互にウエハＷを搬送するように制御される。
【００５０】
なお、ウエハの洗浄処理は複数のフープＦについて連続的に行われるが、例えば、一つのフープの最後のウエハの洗浄処理が下段部３ａで行われ、次のフープの最初のウエハが下段部３ａに搬入された場合には、対応に時間がかかってスループットが低下するおそれがある。そのため、一つのフープの最後のウエハと次のフープの最初のウエハとが異なる処理部に搬入されるように搬送レシピが作成されることが好ましい。
【００５１】
搬出用の受け渡しユニット（ＴＲＳ）の搬送レシピについては、終了ステージ選択時に同時に作成される。図９の例では番号８の終了ステージ選択時に同時に番号７の搬送レシピが作成される。同一番号複数ステップの受け渡しユニット（ＴＲＳ）はモジュール番号でソートする（昇順）。また、上段部３ｂのプロセスモジュールが未選択の場合には、ＭＰＲＡ経由の受け渡しユニット（ＴＲＳ）である２−２３と２−２４は選択対象外とされる。
【００５２】
番号３〜６のプロセスモジュールのレシピデータについては、オペレータがステップ毎にモジュールを選択する。
【００５３】
このようにして作成された図９の搬送レシピの内容について具体的に説明する。
【００５４】
レシピデータの番号１では搬入出用搬送機構１０（ＣＲＡ１−０）の２つの搬送アーム１０ａ，１０ｂにより、選択されたフープ（１−１〜１−４）からウエハＷを２枚ずつ取り出す動作を繰り返す。
【００５５】
番号２では、搬送アーム１０ａ，１０ｂに載せられたウエハＷを受け渡しユニット（ＴＲＳ）の２−１１，２−１２に載置し、受け渡し用搬送機構２０（ＭＰＲＡ２−０）により２−１２に載せられたウエハＷを２−２１に搬送し、次いで、搬送アーム１０ａ，１０ｂに載せられたウエハＷを受け渡しユニット（ＴＲＳ）の２−１３，２−１４に載置し、受け渡し用搬送機構２０（ＭＰＲＡ２−０）により２−１４に載せられたウエハＷを２−２２に搬送するといった動作を繰り返し行う。すなわち、２−１２，２−１４は中継の受け渡しユニットとして用い、下段部３ａに対応する２−１１，２−１３と上段部３ｂに対応する２−２１，２−２２に交互に搬送する。
【００５６】
番号３では、下段部３ａにおける主搬送機構３０（ＰＲＡ３−０）の搬送アーム３０ａにより２−１１，２−１３に載せられたウエハＷを反転ユニット（ＲＶＳ）の３−５に順次搬送し、上段部３ｂにおける主搬送機構４０（ＰＲＡ４−０）搬送アーム４０ａにより２−２１，２−２２に載せられたウエハＷを反転ユニット（ＲＶＳ）の４−５に順次搬送する。
【００５７】
番号４では、ＰＲＡ３−０の搬送アーム３０ａにより３−５で反転されたウエハＷをスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）の３−１，３−２に順次搬送し、ＰＲＡ４−０の搬送アーム４０ａにより４−５で反転されたウエハＷをスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）の４−１，４−２に順次搬送する。
【００５８】
番号５では、ＰＲＡ３−０の搬送アーム３０ａにより３−１，３−２のウエハＷを反転ユニット（ＲＶＳ）の３−６に順次搬送し、ＰＲＡ４−０の搬送アーム４０ａにより４−１，４−２のウエハＷを反転ユニット（ＲＶＳ）の４−６に順次搬送する。
【００５９】
番号６では、ＰＲＡ３−０の搬送アーム３０ａにより３−６で反転されたウエハＷをスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）の３−３，３−４に順次搬送し、ＰＲＡ４−０の搬送アーム４０ａにより４−６で反転されたウエハＷをスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）の４−３，４−４に順次搬送する。
【００６０】
番号７では、ＰＲＡ３−０の搬送アーム３０ａにより３−３，３−４のウエハＷを受け渡しユニット（ＴＲＳ）の２−１５に順次搬送し、ＰＲＡ４−０の搬送アーム４０ａにより受け渡しユニット（ＴＲＳ）の２−２３，２−２４に順次搬送し、２−２３，２−２４のウエハＷをＭＰＲＡ２−０の搬送アーム２０ａにより、２−１６に搬送する動作を繰り返す。
【００６１】
番号８では、ＣＲＡ１−０の搬送アーム１０ａ，１０ｂにより、２−１５，２−１６から選択されたフープ（１−１〜１−４）へウエハＷを２枚ずつ収納させる動作を繰り返す。
【００６２】
なお、この搬送レシピは、最初にスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）の３−１，３−２および４−１，４−２でウエハＷの裏面洗浄を行い、次いでスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）の３−３，３−４および４−３，４−４でウエハＷの表面洗浄を行う例である。
【００６３】
このようにして作成された搬送レシピは図１１に示すように編集画面として表示され、搬入ステージ、搬出ステージ、ＲＶＳ、ＳＣＲは必要に応じて編集可能となっている。これらに変更がある場合には、受け渡しユニット（ＴＲＳ）の選択およびレシピデータの作成を再度行う。図１１に示すように、受け渡しユニット（ＴＲＳ）は自動的に選択され編集の必要がないため、搬入用と搬出用とでグループ化し、２ステップで表示し、未展開状態となっており、モジュール番号は２−＊で表している。展開した状態を確認したい場合には、図１１の画面で展開ボタン６１にタッチすることにより、図１２に示すような受け渡しユニット（ＴＲＳ）が展開した画面が現れる。
【００６４】
このようにして作成した搬送レシピは、搬送レシピ編集画面から登録して保存することが可能であり、登録済みの搬送レシピを呼び出して用いることができ、呼び出した搬送レシピを編集画面で編集することも可能である。
【００６５】
なお、搬送レシピ作成部５７により作成した搬送レシピに基づいて搬送フローの制御を行う際には、搬送フロー制御部５５から搬入出用搬送機構制御部６１、受け渡し用搬送機構制御部６２、および主搬送機構制御部６３に制御指令を送り搬送機構１０，２０，３０，４０を制御する。
【００６６】
次に、以上に例示した搬送レシピに基づいてウエハＷに対して洗浄処理を行う際の動作について図１〜５を参照して簡単に説明する。
【００６７】
まず、ウエハ取り出し用として指定されたフープＦから搬入出用搬送機構１０の２つの搬送アーム１０ａ，１０ｂにより２枚のウエハＷが取り出され、下段部３ａに対応する受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１１，２１２に受け渡される。受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１１に受け渡されたウエハＷは、下段部３ａにおける処理に供され、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１２に受け渡されたウエハＷは受け渡し用搬送機構２０の搬送アームにより、上段部３ｂに対応する受け渡しユニット（ＴＲＳ）２２１に搬送されて、上段部３ｂにおける処理に供される。
【００６８】
次の２枚のウエハＷは、搬入出用搬送機構１０の２つの搬送アーム１０ａ，１０ｂが空いた時点で、同じ取り出し用のフープＦから搬送アーム１０ａ，１０ｂにより取り出され、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１３，２１４に受け渡される。受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１３に受け渡されたウエハＷは、下段部３ａにおける処理に供され、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１４に受け渡されたウエハＷは受け渡し用搬送機構２０の搬送アームにより、上段部３ｂに対応する受け渡しユニット（ＴＲＳ）２２２に搬送されて、上段部３ｂにおける処理に供される。
【００６９】
受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１１，２１３に搬送されたウエハＷは、主搬送機構３０の搬送アーム３０ａにより反転ユニット（ＲＶＳ）３５に順次搬送され、そこでウエハＷの裏面が上面になるようにウエハＷが反転される。次いで、反転されたウエハＷは、主搬送機構３０の搬送アーム３０ａによりスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）３１，３２に順次搬送され、そこで、ウエハＷを回転させながら上面となったウエハＷの裏面に洗浄液を供給し、ブラシによるスクラブ洗浄を行う。裏面洗浄後のウエハＷは、主搬送機構３０の搬送アーム３０ａにより反転ユニット（ＲＶＳ）３６に順次搬送され、そこでウエハＷの表面が上面になるようにウエハが反転される。次いで、反転されたウエハＷは、主搬送機構３０の搬送アーム３０ａによりスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）３３，３４に順次搬送され、そこで、ウエハＷを回転させながら上面となったウエハＷの表面に洗浄液を供給し、ブラシによるスクラブ洗浄を行う。表面洗浄後のウエハＷは、主搬送機構３０の搬送アーム３０ａにより受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１５に順次搬送される。
【００７０】
一方、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２２１，２２２に搬送されたウエハＷは、上段部３ｂにおける主搬送機構４０の搬送アーム４０ａにより反転ユニット（ＲＶＳ）４５に順次搬送され、そこでウエハＷの裏面が上面になるようにウエハＷが反転される。次いで、反転されたウエハＷは、主搬送機構４０の搬送アーム４０ａによりスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）４１，４２に順次搬送され、そこで、ウエハＷを回転させながら上面となったウエハＷの裏面に洗浄液を供給し、ブラシによるスクラブ洗浄を行う。裏面洗浄後のウエハＷは、主搬送機構４０の搬送アーム４０ａにより反転ユニット（ＲＶＳ）４６に順次搬送され、そこでウエハＷの表面が上面になるようにウエハが反転される。次いで、反転されたウエハＷは、主搬送機構４０の搬送アーム４０ａによりスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）４３，４４に順次搬送され、そこで、ウエハＷを回転させながら上面となったウエハＷの表面に洗浄液を供給し、ブラシによるスクラブ洗浄を行う。表面洗浄後のウエハＷは、主搬送機構４０の搬送アーム４０ａにより受け渡しユニット（ＴＲＳ）２２３，２２４に順次搬送される。受け渡しユニット（ＴＲＳ）２２３，２２４のウエハＷは、受け渡し用搬送機構２０の搬送アーム２０ａにより受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１６に順次搬送される。
【００７１】
受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１５，２１６に存在するウエハＷは、搬入出用搬送機構１０の２つの搬送アーム１０ａ，１０ｂにより受け渡しユニット（ＴＲＳ）により一度に受け取られ、ウエハ収納用として指定されたフープＦに収納される。
【００７２】
これらの動作を繰り返すことにより、下段部３ａでの洗浄処理と上段部３ｂでの洗浄処理を交互に行い、一つのフープＦの全てのウエハＷについての洗浄処理を行う。
【００７３】
なお、以上は、図９に例示した搬送レシピに基づいた処理動作であり、搬送レシピが変更された場合には、それに応じて処理動作は変更される。
【００７４】
以上のように、本実施形態によれば、ウエハＷを搬入・搬出するためのフープＦおよび処理ユニット（プロセスモジュール）であるスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）および反転ユニット（ＲＶＳ）を選択（指定）し、それに応じて、使用する受け渡しユニット（ＴＲＳ）を自動的に選択し、かつ搬送機構による搬送ルートを自動生成して搬送レシピを作成するので、搬送レシピ設定を簡略化することができ、最適なスループットが得られる搬送ルートでウエハＷを搬送することができる。
【００７５】
従来は、種々の処理のパターンに対応するために、ウエハＷを搬入・搬出するためのフープＦ、および処理ユニット（プロセスモジュール）であるスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）および反転ユニット（ＲＶＳ）を選択（指定）可能とし、それに応じて受け渡しユニット（ＴＲＳ）および搬送ルートも選択および設定するようにしていたため、搬送レシピの設定に手数がかかり、またプロセスモジュールの指定の内容によって、受け渡しユニット（ＴＲＳ）の使い方に制限が発生するため、作成時に指定が正しいかを検証し、正しくない場合には再作成する必要があり、手間がかかる。また、指定が正しくてもスループットが最適になっているとは限らなかった。
【００７６】
これに対し、本実施形態では、受け渡しユニット（ＴＲＳ）の選択および搬送ルートの設定を上述のように自動的に行うことができるので、搬送レシピを作成する際の手数が減り、検証も不要となるため、搬送レシピの設定を著しく簡略化することができ、さらに選択されたフープＦ、選択されたプロセスモジュールに応じて、予めパラメータとして持っている装置構成設定に基づいてプロセス処理時間をシミュレートすることにより、スループットが最適になる搬送ルートを設定することが可能となる。
【００７７】
なお、本発明は上記実施形態に限定されることなく、種々変形可能である。
例えば、上記実施形態では、ウエハの表裏面洗浄を行う装置を例にとって示したが、本発明はこれに限らず、複数の処理ユニットと複数の受け渡しユニットとを有し、搬入出部の収納容器に収納されている被処理基板を複数のいずれかの受け渡しユニットを介して複数の処理ユニットのいずれかに搬送し、処理後の被処理基板をいずれかの受け渡しユニットを介して収納容器に収納する装置であれば、処理の内容は問わない。装置構成も上記実施形態に限らず、本発明を実施可能な種々の装置を採用可能である。
【００７８】
さらに、上記実施形態では被処理基板として半導体ウエハを用いた場合について示したが、液晶表示装置（ＬＣＤ）用のガラス基板に代表されるフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）用の基板等、他の基板に適用可能であることは言うまでもない。
【符号の説明】
【００７９】
１；搬入出ブロック
２；処理ブロック
３；洗浄処理部
４；受け渡し／反転部
５；制御部
１０；搬入出用搬送機構
２０；受け渡し用搬送機構
２１；積層タワー
３０，４０；主搬送機構
３１〜３４、４１〜４４；スクラブ洗浄ユニット
３５，３６，４５，４６；反転ユニット
５０；主制御部
５１；演算部
５２；操作部
５３；記憶部
５５；搬送フロー制御部
５６；ユニット制御部
５７；搬送レシピ作成部
５８；選択部
１００；基板処理装置
２１１〜２１６，２２１〜２２４；受け渡しユニット
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を収納する収納容器から複数の処理ユニットのいずれかに対して基板を搬送し、基板に対して所定の処理を行う基板処理装置およびそのような基板処理装置における基板搬送方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造プロセスやフラットパネルディスプレー（ＦＰＤ）の製造プロセスにおいては、被処理基板である半導体ウエハやガラス基板に対して、パーティクルやコンタミネーションを除去する洗浄処理や、レジスト塗布・現像処理等が行われている。
【０００３】
このような処理を行う基板処理装置は、所定の処理を行う複数の処理ユニットが集積して構成されており、収納容器に収納された複数の被処理基板を搬送装置を用いて順次各処理ユニットに搬送して処理を行い、各処理ユニットで処理された後の被処理基板を収納容器に収納するという動作が行われる。
【０００４】
この種の基板処理装置は非常に高速で処理を行うことが要求されるため、基板を収納する収納容器が載置される搬入出部と、所定の処理を行う処理ユニットが複数集積して構成された処理部と、搬入出部と処理部との間に多数積層して設けられた、被処理基板を受け渡すための複数の受け渡しユニットと、被処理基板を搬送する搬送機構を設けたものが用いられ、収納容器から順次取り出された被処理基板を搬送装置によりいずれかの受け渡しユニットに搬送し、この受け渡しユニットから搬送機構により各処理ユニットに搬送し、処理後は被処理基板を処理ユニットからいずれかの受け渡しユニットを経て収納容器に収容することが行われている（例えば特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−１１０６０９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述のような複数の処理ユニットと複数の受け渡しユニットを有する処理装置では、収納容器から複数の受け渡しユニットのうちいずれかを介して複数の処理ユニットのうちのいずれかに搬送して処理を行い、また、複数の処理を行う場合には、さらに別の処理ユニットへ搬送して別の処理を行い、処理後の被処理基板をいずれかの受け渡しユニットを介して収納容器に搬送する必要がある。ここで、用いる収納容器、処理ユニット、受け渡しユニットには処理のパターンに応じて種々の組み合わせが存在するため、被処理基板の搬送ルートを規定する搬送レシピは、オペレータが、使用するモジュール、つまり収納容器、受け渡しユニット、処理ユニットを全て指定することにより作成している。
【０００７】
ところで、近時、この種の基板処理装置においては、処理のスループットに対する要求が益々厳しくなっており、それに対応すべく処理ユニットや受け渡しユニットの数が増加しているため、搬送レシピ作成の都度、使用するモジュールを全て指定することは煩雑であるとともに、モジュールの指定の内容によって、受け渡しユニットの使い方に制限が発生するため、レシピ作成時に指定が正しいかを検証し、正しくない場合には再作成する必要があり、手間がかかる。また、指定が正しく、搬送が可能であるとしても、それがスループットを考慮した場合に最適な受け渡しユニットを選択しているかどうかを把握することは困難である。
【０００８】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、搬送レシピ設定を簡略化することができ、最適な搬送ルートで被処理基板を搬送することができる基板処理装置およびそのような基板処理装置における基板搬送方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る基板処理装置は、被処理基板を収納する収納容器が載置される載置台を有する搬入出部と、被処理基板に対して所定の処理を行う複数の処理ユニットを有する処理部と、前記搬入出部と前記処理部との間で、被処理基板の受け渡しを行う複数の受け渡しユニットと、被処理基板搬入用の収納容器および被処理基板搬出用の収納容器の選択、ならびに使用する基板を処理する処理ユニットの選択を受け付ける選択部と、前記選択部で選択が受け付けられた被処理基板搬入用の収納容器および被処理基板搬出用の収納容器ならびに処理ユニットに応じて、複数の受け渡しユニットから使用する受け渡しユニットを自動的に選択し、被処理基板の搬送ルートを自動的に生成して搬送レシピを作成する搬送レシピ作成部とを具備することを特徴とする。
【００１０】
本発明に係る基板搬送方法は、被処理基板を収納する収納容器から被処理基板を搬出した後、被処理基板の受け渡しを行う複数の受け渡しユニットのいずれかを介して、被処理基板に対して所定の処理を行う複数の処理ユニットのいずれかに搬送して、被処理基板に所定の処理を行う基板処理装置における基板搬送方法であって、収納容器および使用する処理ユニットを選択し、選択された収納容器および処理ユニットに応じて、使用する受け渡しユニットを自動的に選択し、被処理基板の搬送ルートを自動的に生成して搬送レシピを作成し、前記作成した搬送レシピに基づいて被処理基板の搬送を制御することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、搬入用の収納容器および搬出用の収納容器の選択、ならびに使用する処理ユニットの選択を行い、選択された搬入用の収納容器および搬出用の収納容器ならびに処理ユニットに応じて、使用する受け渡しユニットを自動的に選択し、被処理基板の搬送ルートを自動的に生成して搬送レシピを作成するので、搬送レシピ設定を簡略化することができ、最適なスループットが得られる搬送ルートでウエハＷを搬送することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の一実施形態に係る基板処理装置の概略構造を示す平面図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る基板処理装置の概略構造を示す縦断側面図である。
【図３】図１の基板処理装置における処理ブロックの内部を示す図である。
【図４】処理ブロックを搬入出ブロックの反対側から見た図である。
【図５】処理ブロックの積層タワーおよび受け渡し用搬送機構を搬入出ブロック側から見た図である。
【図６】図１の基板処理装置の制御部の構成を示すブロック図である。
【図７】操作部における搬送レシピ編集画面のメイン画面を示す図である。
【図８】図７の搬送レシピ編集画面から表示されたモジュール選択画面を示す図である。
【図９】搬送レシピ生成部で生成された搬送レシピの例を示す図である。
【図１０】搬送アームアクセステーブルを示す図である。
【図１１】搬送レシピ生成部で生成された搬送レシピが表示された表示画面を示す図である。
【図１２】図１１の搬送レシピ表示画面の受け渡しユニットが展開された画面を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、添付図面を参照して本発明の実施形態について具体的に説明する。本実施形態では、本発明に係る基板処理装置を、被処理基板である半導体ウエハ（以下、単にウエハと記す）の表面および裏面のスクラブ洗浄を行う装置に適用した例について説明する。なお、ウエハの表面はデバイス形成面であり、裏面はその反対側の面である。
【００１４】
図１は本実施形態に係る基板処理装置の概略構造を示す平面図であり、図２はその縦断側面図、図３は図１の基板処理装置における処理ブロックの内部を示す図、図４は処理ブロックを搬入出ブロックの反対側から見た図、図５は処理ブロックの積層タワーおよび受け渡し用搬送機構を搬入出ブロック側から見た図である。これらに示すように、基板処理装置１００は、被処理基板であるウエハＷが密閉状態で所定枚数（例えば２５枚）収納される収納容器（カセット）であるフープ（ＦＯＵＰ；Front
Opening Unified Pod）Ｆを載置し、ウエハＷの搬入出するための搬入出ブロック１と、ウエハＷに対してスクラブ洗浄処理を行うための処理ブロック２と、基板処理装置１００の各構成部を制御するための制御部５とを有している。
【００１５】
搬入出ブロック１は、フープＦを複数個載置可能な載置台１１と、この載置台１１から見て前方の壁面に設けられる開閉部１２と、開閉部１２を介してフープＦに対するウエハＷの搬入出および処理ブロック２の後述する所定の受け渡しユニットに対するウエハＷの搬入出を行う搬入出用搬送機構１０とを有している。
【００１６】
処理ブロック２は、ウエハＷに対してスクラブ洗浄を行う洗浄処理部３と、洗浄処理前または洗浄処理後のウエハＷの受け渡し、およびウエハＷの反転を行う受け渡し／反転部４とを有している。
【００１７】
洗浄処理部３は、下段部３ａおよび上段部３ｂの上下２段の処理部を有しており、下段部３ａはウエハＷに対してスクラブ洗浄を行う４つのスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）３１〜３４と、ウエハＷを搬送する主ウエハ搬送機構３０とを有しており、主ウエハ搬送機構３０を挟んで一方側（手前側）に下から順にスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）３１、３２が積層された状態で設けられており、反対側（奥側）に下から順にスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）３３、３４が積層された状態で設けられている。また、上段部３ｂはウエハＷに対してスクラブ洗浄を行う４つのスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）４１〜４４と、ウエハＷを搬送する主ウエハ搬送機構４０とを有しており、主ウエハ搬送機構４０を挟んで一方側（手前側）に下から順にスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）４１、４２が積層された状態で設けられており、反対側（奥側）に下から順にスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）４３、４４が積層された状態で設けられている。
【００１８】
受け渡し／反転部４は、複数の受け渡しユニット（ＴＲＳ）とウエハＷを反転する反転ユニット（ＲＶＳ）とが積層された積層タワー２１と、積層タワー２１の特定の受け渡しユニット間でウエハＷの搬送を行う受け渡し用搬送機構２０とを有している。
【００１９】
積層タワー２１は、洗浄処理部３の下段部３ａに対応する下部２１ａと上段部３ｂに対応する上部２１ｂを有している。下部２１ａは、下から順に反転ユニット（ＲＶＳ）３５、６つの受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１１，２１２，２１３，２１４，２１５，２１６、反転ユニット（ＲＶＳ）３６が積層されている。また上部２１ｂは、下から順に反転ユニット（ＲＶＳ）４５、４つの受け渡しユニット（ＴＲＳ）２２１，２２２，２２３，２２４、反転ユニット（ＲＶＳ）４６が積層されている。
【００２０】
下部２１ａの６つの受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１１〜２１６のうち、３つの受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１１，２１３，２１５は、洗浄処理部３の下段部３ａでの処理に対応したものであり、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１２，２１４は、例えば、上部２１ｂの受け渡しユニット（ＴＲＳ）２２１，２２２へウエハＷを受け渡すために用いられる。また、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１６は、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２２３，２２４からウエハＷを受け取るために用いられる。受け渡しユニット（ＴＲＳ）２２１，２２２，２２３，２２４は、洗浄処理部３の上段部３ｂでの処理に対応したものである。そして、例えば、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１１，２１２，２１３，２１４，２２１，２２２がウエハＷの搬入専用に用いられ、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１５，２１６，２２３，２２４がウエハＷの搬出専用に用いられる。
【００２１】
上記搬入出用搬送機構１０は、２枚の搬送アーム１０ａ，１０ｂを有しており、これら搬送アーム１０ａ，１０ｂは一体的に、進退移動、昇降移動、鉛直軸回りの回転、およびフープＦの配列方向への移動が可能となっている。そして、この搬入出用搬送機構１０により、フープＦと下部２１ａの受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１１〜２１６との間でウエハＷの授受が可能となっている。このとき、２つの搬送アーム１０ａ，１０ｂによりウエハＷ２枚を同時に搬送可能となっている。
【００２２】
上記主搬送機構３０は、搬送アーム３０ａを有しており、搬送アーム３０ａは、進退移動、昇降移動、鉛直軸回りの回転が可能となっている。主搬送機構３０は、この搬送アーム３０ａにより、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１１，２１２，２１３，２１４，２１５，２１６、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）３１〜３４、反転ユニット（ＲＶＳ）３５，３６にアクセス可能となっており、これらの間でウエハＷを授受することが可能となっている。
【００２３】
上記主搬送機構４０は、搬送アーム４０ａを有しており、この搬送アーム４０ａは、進退移動、昇降移動、鉛直軸回りの回転が可能となっている。主搬送装置４０は、この搬送アーム４０ａにより、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２２１，２２２，２２３，２２４、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）４１〜４４、反転ユニット（ＲＶＳ）４５，４６にアクセス可能となっており、これらの間でウエハＷが授受される。
【００２４】
上記受け渡し用搬送機構２０は、搬送アーム２０ａを有しており、この搬送アーム２０ａは進退移動、昇降移動が可能となっている。受け渡し用搬送機構２０は、この搬送アーム２０ａにより、下部２１ａの受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１１，２１２，２１３，２１４，２１５，２１６と、上部２１ｂの受け渡しユニット（ＴＲＳ）２２１，２２２，２２３，２２４との間でウエハＷの授受が可能となっている。図５では、受け渡し用搬送機構２０を、下部２１ａの受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１３，２１４と上部２１ｂの受け渡しユニット（ＴＲＳ）２２１，２２２，２２３，２２４との間でのウエハＷの授受を行うために用いる例を示している。
【００２５】
上記スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）３１〜３４，４１〜４４は、カップ内にウエハＷを水平に保持し、ウエハＷを回転させた状態で、洗浄液を供給しながらウエハＷの上面をブラシ洗浄するものである。
【００２６】
上記反転ユニット（ＲＶＳ）３５，３６，４５，４６は、ウエハＷを保持し、垂直方向に１８０°回転させてウエハＷの表裏を反転させる反転機構を有している。反転機構によりウエハＷを反転させることによって、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）３１〜３４，４１〜４４において、ウエハＷの表面および裏面の任意の面のスクラブ洗浄が可能となっている。
【００２７】
上記制御部５は、図６に示すように、洗浄処理装置１におけるウエハの搬送および各ユニットでの処理を制御するものであり、上位の制御部である主制御部５０と、各搬送機構および各ユニットを制御する下位の制御部である副制御部６０とを有している。主制御部５０は、マイクロプロセッサ（ＭＰＵ）を備えた演算部５１と、操作部５２と、処理に必要な情報を記憶する記憶部５３とを有している。
【００２８】
操作部５２と記憶部５３とは演算部５１に接続されている。操作部５２は、例えばタッチパネル方式のディスプレイからなっており、処理に必要な所定の操作を行うようになっている。記憶部５３は、一時的に情報の読み出しおよび書き込みを行う機能と、基板処理装置１００で実行される各種処理を行うために必要な制御プログラムや、基板処理装置１００の各構成部に所定の処理を実行させるためのレシピを記憶する機能を有している。レシピ等の制御プログラムは記憶部５３の中の記憶媒体に記憶されている。
【００２９】
制御部５は、このように基板処理装置１００の全体を制御するものであるが、本実施形態では、受け渡しユニット（ＴＲＳ）を自動的に選択し、搬送レシピを自動的に作成することに特徴があり、以下その点を中心として詳細に説明する。
【００３０】
主制御部５０の演算部５１は、ウエハの搬送フローを一括して制御する搬送フロー制御部５５と、ユニットでの処理を一括して制御するユニット制御部５６と、使用する受け渡しユニット（ＴＲＳ）を自動的に選択し、ウエハＷの搬送ルートを自動的に生成して搬送レシピを作成する搬送レシピ作成部５７とを有している。
【００３１】
また、操作部５２は、ウエハ搬入に用いるフープＦ、処理に用いるスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）および反転ユニット（ＲＶＳ）、ウエハ搬出に用いるフープＦを選択する選択部５８を有している。操作部５２は複数の操作画面に切替可能であり、後述するように、その搬送レシピ編集画面上での操作により表示されたモジュール選択画面が選択部５８として機能する。
【００３２】
副制御部６０は、搬入出用搬送機構１０を制御する搬入出用搬送機構制御部６１と、受け渡し用搬送機構２０を制御する受け渡し用搬送機構制御部６２と、主搬送機構３０、４０を制御する主搬送機構制御部６３と、スクラブ洗浄ユニット３１〜３４、４１〜４４を個別的に制御するスクラブ洗浄ユニット制御部６４と、反転ユニット３５，３６，４５，４６を個別的に制御する反転ユニット制御部６５とを有している。そして、搬送フロー制御部５５が、搬入出用搬送機構制御部６１、受け渡し用搬送機構制御部６２、および主搬送機構制御部６３を制御し、ユニット制御部５６が、スクラブ洗浄ユニット制御部６４、および反転ユニット制御部６５を制御するようになっている。
【００３３】
上記主制御部５０において、搬送レシピ作成部５７は、操作部５２の選択部５８により、ウエハ搬入に用いるフープＦ、処理に用いるスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）および反転ユニット（ＲＶＳ）、ウエハ搬出に用いるフープＦが選択されると、それに応じて使用する受け渡しユニット（ＴＲＳ）を自動的に選択し、搬送機構による搬送ルートを自動生成し、搬送レシピを作成するものである。搬送レシピ作成部５７で作成された搬送レシピは、記憶部５３に記憶される。そして、搬送フロー制御部５５は、搬送レシピ作成部５７で作成された搬送レシピを記憶部５３から呼び出し、その搬送レシピに基づいて、搬入出用搬送機構制御部６１、受け渡し用搬送機構制御部６２、および主搬送機構制御部６３に制御指令を送り、搬入出用搬送機構１０、受け渡し用搬送機構２０、主搬送機構３０および４０の搬送動作を制御する。
【００３４】
以下、搬送レシピ作成部５７における搬送レシピの作成について、図７〜１２に基づいて詳細に説明する。
なお、以下の説明において、フープＦ、受け渡しユニット（ＴＲＳ）、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）、反転ユニット（ＲＶＳ）の一つひとつをモジュールと呼ぶ。また、４つのフープＦのモジュール番号は１−１〜１−４であるが、画面上、１−＊と表示する。さらに、画面においては、受け渡しユニットを「ＴＲＳ」、スクラブ洗浄ユニットを「ＳＣＲ」、反転ユニットを「ＲＶＳ」、搬入出用搬送機構１０を「ＣＲＡ」、主搬送機構３０，４０を「ＰＲＡ」、受け渡し用搬送機構２０を「ＭＰＲＡ」と表示している。また、搬入出用搬送機構１０、主搬送機構３０，４０、受け渡し用搬送機構２０のモジュール番号は、１−０、３−０、４−０、２−０、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１１〜２１６，２２１〜２２４のモジュール番号は、２−１１〜２−１６，２−２１〜２−２４、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）３１〜３４，４１〜４４のモジュール番号は、３−１〜３−４，４−１〜４−４、反転ユニット（ＲＶＳ）３５，３６，４５，４６のモジュール番号は、３−５，３−６，４−５，４−６と表示している。さらに、搬入側のフープ（カセット）Ｆを「Ｓｔａｒｔ−ＣＳ」または「開始ステージ」または「ＦＵＳＴ］、搬出側のフープ（カセット）Ｆを「Ｅｎｄ−ＣＳ」または「終了ステージ」または「ＦＵＳＴ」と表示している。
【００３５】
操作部５２における搬送レシピ編集画面のメイン画面は図７に示すようになっており、この画面のレシピ作成ボタン６０をタッチすることにより、図８に示すモジュール選択画面が表示され、これが選択部５８として機能する。そして、このモジュール選択画面において、使用するＳｔａｒｔ−ＣＳおよびＥｎｄ−ＣＳの番号を入力するとともに、使用するモジュール番号のプロセスモジュール（ＳＣＲおよびＲＶＳ）をタッチして選択する。受け渡しユニット（ＴＲＳ）および搬送機構（ＣＲＡ、ＭＰＲＡ、ＰＲＡ）は自動的に選択されるため選択することができない。
【００３６】
搬送レシピ作成部５７では、選択部５８において選択されたフープＦ、および選択部５８において選択されたプロセスモジュールに応じて、予めパラメータとして持っている装置構成設定に基づいて、使用するＴＲＳを外部からの指定なしに自動的に選択し、搬送機構１０，２０，３０，４０による搬送ルートを自動生成する。このとき処理時間をシミュレートすることによって、スループットが最適となるＴＲＳの自動選択および搬送ルートの自動生成を行うことができる。
【００３７】
パラメータとしては、複数の受け渡しユニットの各々につけられた使用優先順位を挙げることができ、使用優先順位の早いものから自動的に選択されるようにするようにすることができる。次の使用順位の受け渡しユニットが使用中の場合には、使用可能なものの中で最も使用優先順位の早いものが自動選択されるようにすることができる。
【００３８】
本実施形態では、処理前のウエハＷの搬入用の受け渡しユニット（ＴＲＳ）と処理後のウエハＷの搬出用の受け渡しユニット（ＴＲＳ）を決定し、割り当てられた番号の若い順より使用優先順位が早く（高く）なるように決定する。
【００３９】
具体的には、例えば、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１１，２１２，２１３，２１４を搬入用とし受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１５，２１６を搬出用とした場合に、以下のようにして受け渡しユニットの自動的選択、および搬送レシピの作成が行われる。なお、以下の説明において、ＣＲＡは搬入出用搬送機構１０、ＴＲＳは受け渡しユニットである。また、下段部３ａおよび上段部３ｂの表記は、そこでの主搬送機構３０，４０による搬送およびスクラブ洗浄ユニット等の処理ユニットでの処理を含んでいる。
【００４０】
１枚目：ＴＲＳ２１１→下段部３ａ→ＴＲＳ２１５→ＣＲＡ→容器
２枚目：ＴＲＳ２１２→ＴＲＳ２２１→上段部３ｂ→ＴＲＳ２２３→ＴＲＳ２１６→ＣＲＡ→容器
３枚目：ＴＲＳ２１３→下段部３ａ→ＴＲＳ２１５→ＣＲＡ→容器
４枚目：ＴＲＳ２１４→ＴＲＳ２２２→上段部３ｂ→ＴＲＳ２２４→ＴＲＳ２１６→ＣＲＡ→容器
５枚目：ＴＲＳ２１１→下段部３ａ→ＴＲＳ２１５→ＣＲＡ→容器
６枚目：ＴＲＳ２１２→ＴＲＳ２２１→上段部３ｂ→ＴＲＳ２２３→ＴＲＳ２１６→ＣＲＡ→容器
７枚目：ＴＲＳ２１３→下段部３ａ→ＴＲＳ２１５→ＣＲＡ→容器
８枚目：ＴＲＳ２１４→ＴＲＳ２２２→上段部３ｂ→ＴＲＳ２２４→ＴＲＳ２１６→ＣＲＡ→容器
【００４１】
搬入出用搬送機構１０のウエハＷの搬送が２枚同時でもよく、その場合は、最初に、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１１，２１２に同時にウエハＷを搬入する。この際に、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１１から洗浄処理部３の下段部３ａにウエハＷが搬送され、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１２から受け渡しユニット（ＴＲＳ）２２１を介して上段部３ｂにウエハＷが搬送される。処理後は、洗浄処理部３の下段部３ａから受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１５にウエハＷが搬送され、上段部３ｂから受け渡しユニット（ＴＲＳ）２２３を介して受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１６にウエハＷが搬送される。そして、搬入出搬送機構１０により受け渡しユニット１５、２１６からウエハＷが２枚同時に搬出される。
【００４２】
次に、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１３、２１４に同時にウエハＷを搬入する。この際には、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１３から洗浄処理部３の下段部３ａにウエハＷが搬送され、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１４から受け渡しユニット（ＴＲＳ）２２２を介して上段部３ｂにウエハＷが搬送される。処理後は、洗浄処理部３の下段部３ａから受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１５にウエハＷが搬送され、上段部３ｂから受け渡しユニット（ＴＲＳ）２２４を介して受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１６にウエハＷが搬送される。そして、搬入出搬送機構１０により受け渡しユニット１５、２１６からウエハＷが２枚同時に搬出される。
【００４３】
搬送レシピ作成部５７において実際に作成した搬送レシピの例について図９を参照して説明する。ここでは、スループットを向上させるために搬入出用搬送機構１０の２つの搬送アーム１０ａ，１０ｂにより一度に２枚のウエハを搬送する例を示す。搬送レシピはモジュール毎に番号がつけられており、その番号毎にステップ番号が通し番号で付されている。
【００４４】
図９において、番号１は図８のモジュール選択画面から選択された開始ステージ（フープ番号）であり、番号２は搬入用の受け渡しユニット（ＴＲＳ）であり、番号３〜６は図８のモジュール選択画面から選択されたプロセスモジュール（反転ユニット（ＲＶＳ）およびスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ））であり、番号７は搬出用の受け渡しユニット（ＴＲＳ）であり、番号８は図８のモジュール選択画面から選択された終了ステージ（フープ番号）である。これらのうち、番号１、８の搬入ステージおよび搬出ステージの選択、ならびに番号３〜６のプロセスモジュールの選択は、上述したように、オペレータの選択に基づいて行われ、番号２の搬入用の受け渡しユニット（ＴＲＳ）および番号７の搬出用の受け渡しユニット（ＴＲＳ）の選択、および搬送機構による全体的な搬送ルートの生成については、選択された搬入ステージおよび搬出ステージならびにプロセスモジュールに応じて自動的に行われる。
【００４５】
なお、プロセスモジュールの選択はこの例に限るものではなく、例えば洗浄処理部３の下段部３ａのプロセスモジュールのみを選択する場合、下段部３ａおよび上段部３ｂの一部のプロセスモジュールのみを選択する場合、例えば、表面洗浄処理のみを行うため、反転ユニット（ＲＶＳ）を選択しない場合や、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）の一部を選択する場合等、種々のケースが考えられ、本実施形態ではこのような種々のケースに応じて、受け渡しユニット（ＴＲＳ）および搬送機構による搬送ルートを自動的に作成する。
【００４６】
搬送レシピ作成部５７における受け渡しユニット（ＴＲＳ）の選択に際しては、予め記憶部５３に記憶された図１０に示す搬送アームアクセステーブルのアクセス制限フラグをキーとして、受け渡しユニット（ＴＲＳ）を搬入用（搬入出ブロック１→処理ブロック２）と搬出用（処理ブロック２→搬入出ブロック１）に分類する。すなわち、搬送アームアクセステーブルのアクセス制限フラグは、空欄は未設定であり、アクセス制限が未設定の受け渡しユニット（ＴＲＳ）を搬入用とし、アクセス制限が設定されている受け渡しユニット（ＴＲＳ）を搬出用とする。したがって、図９の例では、受け渡しユニット（ＴＲＳ）が全て有効な場合には、搬入用の受け渡しユニット（ＴＲＳ）のモジュール番号は、２−１１〜２−１４、２−２１、２−２２であり、搬出用の受け渡しユニット（ＴＲＳ）のモジュール番号は、２−１５、２−１６、２−２３、２−２４である。
【００４７】
また、図１０の搬送アームアクセステーブルは装置の設定パラメータの一つとして機能するものであり、選択部５８によるプロセスモジュールの選択から、用いられる搬送機構（搬送アーム）を逆に求め、その搬送アームがアクセス可能な受け渡しユニット（ＴＲＳ）を求めるとともに、最適なスループットとなる搬送ルートを求める。
【００４８】
搬入用の受け渡しユニット（ＴＲＳ）のレシピデータ（番号２）については、プロセスモジュール選択時に同時に作成される。図９の例では番号３の反転ユニット（ＲＶＳ）の選択の際に同時に作成される。同一番号複数ステップ（番号２、ステップ２〜７）の受け渡しユニット（ＴＲＳ）はモジュール番号でソートする（昇順）。また、ここでは、いくつかの受け渡しユニット（ＴＲＳ）は、異なる搬送アーム、具体的にはＭＰＲＡがアクセスするが、このような場合でも同一番号に登録することが可能となっている。また、上段部３ｂのプロセスモジュールが未選択の場合には、ＭＰＲＡ経由の受け渡しユニット（ＴＲＳ）である２−２１と２−２２は選択対象外とされる。
【００４９】
下段部３ａおよび上段部３ｂのプロセスモジュールが選択された場合には、スループットを高める観点から、下段部３ａの搬入用の受け渡しユニット（ＴＲＳ）として用いられる２−１１，２−１３と、上段部３ｂの搬入用の受け渡しユニット（ＴＲＳ）として用いられる２−２１，２−２２とに対して、交互にウエハＷを搬送するように制御される。
【００５０】
なお、ウエハの洗浄処理は複数のフープＦについて連続的に行われるが、例えば、一つのフープの最後のウエハの洗浄処理が下段部３ａで行われ、次のフープの最初のウエハが下段部３ａに搬入された場合には、対応に時間がかかってスループットが低下するおそれがある。そのため、一つのフープの最後のウエハと次のフープの最初のウエハとが異なる処理部に搬入されるように搬送レシピが作成されることが好ましい。
【００５１】
搬出用の受け渡しユニット（ＴＲＳ）の搬送レシピについては、終了ステージ選択時に同時に作成される。図９の例では番号８の終了ステージ選択時に同時に番号７の搬送レシピが作成される。同一番号複数ステップの受け渡しユニット（ＴＲＳ）はモジュール番号でソートする（昇順）。また、上段部３ｂのプロセスモジュールが未選択の場合には、ＭＰＲＡ経由の受け渡しユニット（ＴＲＳ）である２−２３と２−２４は選択対象外とされる。
【００５２】
番号３〜６のプロセスモジュールのレシピデータについては、オペレータがステップ毎にモジュールを選択する。
【００５３】
このようにして作成された図９の搬送レシピの内容について具体的に説明する。
【００５４】
レシピデータの番号１では搬入出用搬送機構１０（ＣＲＡ１−０）の２つの搬送アーム１０ａ，１０ｂにより、選択されたフープ（１−１〜１−４）からウエハＷを２枚ずつ取り出す動作を繰り返す。
【００５５】
番号２では、搬送アーム１０ａ，１０ｂに載せられたウエハＷを受け渡しユニット（ＴＲＳ）の２−１１，２−１２に載置し、受け渡し用搬送機構２０（ＭＰＲＡ２−０）により２−１２に載せられたウエハＷを２−２１に搬送し、次いで、搬送アーム１０ａ，１０ｂに載せられたウエハＷを受け渡しユニット（ＴＲＳ）の２−１３，２−１４に載置し、受け渡し用搬送機構２０（ＭＰＲＡ２−０）により２−１４に載せられたウエハＷを２−２２に搬送するといった動作を繰り返し行う。すなわち、２−１２，２−１４は中継の受け渡しユニットとして用い、下段部３ａに対応する２−１１，２−１３と上段部３ｂに対応する２−２１，２−２２に交互に搬送する。
【００５６】
番号３では、下段部３ａにおける主搬送機構３０（ＰＲＡ３−０）の搬送アーム３０ａにより２−１１，２−１３に載せられたウエハＷを反転ユニット（ＲＶＳ）の３−５に順次搬送し、上段部３ｂにおける主搬送機構４０（ＰＲＡ４−０）搬送アーム４０ａにより２−２１，２−２２に載せられたウエハＷを反転ユニット（ＲＶＳ）の４−５に順次搬送する。
【００５７】
番号４では、ＰＲＡ３−０の搬送アーム３０ａにより３−５で反転されたウエハＷをスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）の３−１，３−２に順次搬送し、ＰＲＡ４−０の搬送アーム４０ａにより４−５で反転されたウエハＷをスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）の４−１，４−２に順次搬送する。
【００５８】
番号５では、ＰＲＡ３−０の搬送アーム３０ａにより３−１，３−２のウエハＷを反転ユニット（ＲＶＳ）の３−６に順次搬送し、ＰＲＡ４−０の搬送アーム４０ａにより４−１，４−２のウエハＷを反転ユニット（ＲＶＳ）の４−６に順次搬送する。
【００５９】
番号６では、ＰＲＡ３−０の搬送アーム３０ａにより３−６で反転されたウエハＷをスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）の３−３，３−４に順次搬送し、ＰＲＡ４−０の搬送アーム４０ａにより４−６で反転されたウエハＷをスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）の４−３，４−４に順次搬送する。
【００６０】
番号７では、ＰＲＡ３−０の搬送アーム３０ａにより３−３，３−４のウエハＷを受け渡しユニット（ＴＲＳ）の２−１５に順次搬送し、ＰＲＡ４−０の搬送アーム４０ａにより受け渡しユニット（ＴＲＳ）の２−２３，２−２４に順次搬送し、２−２３，２−２４のウエハＷをＭＰＲＡ２−０の搬送アーム２０ａにより、２−１６に搬送する動作を繰り返す。
【００６１】
番号８では、ＣＲＡ１−０の搬送アーム１０ａ，１０ｂにより、２−１５，２−１６から選択されたフープ（１−１〜１−４）へウエハＷを２枚ずつ収納させる動作を繰り返す。
【００６２】
なお、この搬送レシピは、最初にスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）の３−１，３−２および４−１，４−２でウエハＷの裏面洗浄を行い、次いでスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）の３−３，３−４および４−３，４−４でウエハＷの表面洗浄を行う例である。
【００６３】
このようにして作成された搬送レシピは図１１に示すように編集画面として表示され、搬入ステージ、搬出ステージ、ＲＶＳ、ＳＣＲは必要に応じて編集可能となっている。これらに変更がある場合には、受け渡しユニット（ＴＲＳ）の選択およびレシピデータの作成を再度行う。図１１に示すように、受け渡しユニット（ＴＲＳ）は自動的に選択され編集の必要がないため、搬入用と搬出用とでグループ化し、２ステップで表示し、未展開状態となっており、モジュール番号は２−＊で表している。展開した状態を確認したい場合には、図１１の画面で展開ボタン６１にタッチすることにより、図１２に示すような受け渡しユニット（ＴＲＳ）が展開した画面が現れる。
【００６４】
このようにして作成した搬送レシピは、搬送レシピ編集画面から登録して保存することが可能であり、登録済みの搬送レシピを呼び出して用いることができ、呼び出した搬送レシピを編集画面で編集することも可能である。
【００６５】
なお、搬送レシピ作成部５７により作成した搬送レシピに基づいて搬送フローの制御を行う際には、搬送フロー制御部５５から搬入出用搬送機構制御部６１、受け渡し用搬送機構制御部６２、および主搬送機構制御部６３に制御指令を送り搬送機構１０，２０，３０，４０を制御する。
【００６６】
次に、以上に例示した搬送レシピに基づいてウエハＷに対して洗浄処理を行う際の動作について図１〜５を参照して簡単に説明する。
【００６７】
まず、ウエハ取り出し用として指定されたフープＦから搬入出用搬送機構１０の２つの搬送アーム１０ａ，１０ｂにより２枚のウエハＷが取り出され、下段部３ａに対応する受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１１，２１２に受け渡される。受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１１に受け渡されたウエハＷは、下段部３ａにおける処理に供され、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１２に受け渡されたウエハＷは受け渡し用搬送機構２０の搬送アームにより、上段部３ｂに対応する受け渡しユニット（ＴＲＳ）２２１に搬送されて、上段部３ｂにおける処理に供される。
【００６８】
次の２枚のウエハＷは、搬入出用搬送機構１０の２つの搬送アーム１０ａ，１０ｂが空いた時点で、同じ取り出し用のフープＦから搬送アーム１０ａ，１０ｂにより取り出され、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１３，２１４に受け渡される。受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１３に受け渡されたウエハＷは、下段部３ａにおける処理に供され、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１４に受け渡されたウエハＷは受け渡し用搬送機構２０の搬送アームにより、上段部３ｂに対応する受け渡しユニット（ＴＲＳ）２２２に搬送されて、上段部３ｂにおける処理に供される。
【００６９】
受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１１，２１３に搬送されたウエハＷは、主搬送機構３０の搬送アーム３０ａにより反転ユニット（ＲＶＳ）３５に順次搬送され、そこでウエハＷの裏面が上面になるようにウエハＷが反転される。次いで、反転されたウエハＷは、主搬送機構３０の搬送アーム３０ａによりスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）３１，３２に順次搬送され、そこで、ウエハＷを回転させながら上面となったウエハＷの裏面に洗浄液を供給し、ブラシによるスクラブ洗浄を行う。裏面洗浄後のウエハＷは、主搬送機構３０の搬送アーム３０ａにより反転ユニット（ＲＶＳ）３６に順次搬送され、そこでウエハＷの表面が上面になるようにウエハが反転される。次いで、反転されたウエハＷは、主搬送機構３０の搬送アーム３０ａによりスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）３３，３４に順次搬送され、そこで、ウエハＷを回転させながら上面となったウエハＷの表面に洗浄液を供給し、ブラシによるスクラブ洗浄を行う。表面洗浄後のウエハＷは、主搬送機構３０の搬送アーム３０ａにより受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１５に順次搬送される。
【００７０】
一方、受け渡しユニット（ＴＲＳ）２２１，２２２に搬送されたウエハＷは、上段部３ｂにおける主搬送機構４０の搬送アーム４０ａにより反転ユニット（ＲＶＳ）４５に順次搬送され、そこでウエハＷの裏面が上面になるようにウエハＷが反転される。次いで、反転されたウエハＷは、主搬送機構４０の搬送アーム４０ａによりスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）４１，４２に順次搬送され、そこで、ウエハＷを回転させながら上面となったウエハＷの裏面に洗浄液を供給し、ブラシによるスクラブ洗浄を行う。裏面洗浄後のウエハＷは、主搬送機構４０の搬送アーム４０ａにより反転ユニット（ＲＶＳ）４６に順次搬送され、そこでウエハＷの表面が上面になるようにウエハが反転される。次いで、反転されたウエハＷは、主搬送機構４０の搬送アーム４０ａによりスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）４３，４４に順次搬送され、そこで、ウエハＷを回転させながら上面となったウエハＷの表面に洗浄液を供給し、ブラシによるスクラブ洗浄を行う。表面洗浄後のウエハＷは、主搬送機構４０の搬送アーム４０ａにより受け渡しユニット（ＴＲＳ）２２３，２２４に順次搬送される。受け渡しユニット（ＴＲＳ）２２３，２２４のウエハＷは、受け渡し用搬送機構２０の搬送アーム２０ａにより受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１６に順次搬送される。
【００７１】
受け渡しユニット（ＴＲＳ）２１５，２１６に存在するウエハＷは、搬入出用搬送機構１０の２つの搬送アーム１０ａ，１０ｂにより受け渡しユニット（ＴＲＳ）により一度に受け取られ、ウエハ収納用として指定されたフープＦに収納される。
【００７２】
これらの動作を繰り返すことにより、下段部３ａでの洗浄処理と上段部３ｂでの洗浄処理を交互に行い、一つのフープＦの全てのウエハＷについての洗浄処理を行う。
【００７３】
なお、以上は、図９に例示した搬送レシピに基づいた処理動作であり、搬送レシピが変更された場合には、それに応じて処理動作は変更される。
【００７４】
以上のように、本実施形態によれば、ウエハＷを搬入・搬出するためのフープＦおよび処理ユニット（プロセスモジュール）であるスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）および反転ユニット（ＲＶＳ）を選択（指定）し、それに応じて、使用する受け渡しユニット（ＴＲＳ）を自動的に選択し、かつ搬送機構による搬送ルートを自動生成して搬送レシピを作成するので、搬送レシピ設定を簡略化することができ、最適なスループットが得られる搬送ルートでウエハＷを搬送することができる。
【００７５】
従来は、種々の処理のパターンに対応するために、ウエハＷを搬入・搬出するためのフープＦ、および処理ユニット（プロセスモジュール）であるスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）および反転ユニット（ＲＶＳ）を選択（指定）可能とし、それに応じて受け渡しユニット（ＴＲＳ）および搬送ルートも選択および設定するようにしていたため、搬送レシピの設定に手数がかかり、またプロセスモジュールの指定の内容によって、受け渡しユニット（ＴＲＳ）の使い方に制限が発生するため、作成時に指定が正しいかを検証し、正しくない場合には再作成する必要があり、手間がかかる。また、指定が正しくてもスループットが最適になっているとは限らなかった。
【００７６】
これに対し、本実施形態では、受け渡しユニット（ＴＲＳ）の選択および搬送ルートの設定を上述のように自動的に行うことができるので、搬送レシピを作成する際の手数が減り、検証も不要となるため、搬送レシピの設定を著しく簡略化することができ、さらに選択されたフープＦ、選択されたプロセスモジュールに応じて、予めパラメータとして持っている装置構成設定に基づいてプロセス処理時間をシミュレートすることにより、スループットが最適になる搬送ルートを設定することが可能となる。
【００７７】
なお、本発明は上記実施形態に限定されることなく、種々変形可能である。
例えば、上記実施形態では、ウエハの表裏面洗浄を行う装置を例にとって示したが、本発明はこれに限らず、複数の処理ユニットと複数の受け渡しユニットとを有し、搬入出部の収納容器に収納されている被処理基板を複数のいずれかの受け渡しユニットを介して複数の処理ユニットのいずれかに搬送し、処理後の被処理基板をいずれかの受け渡しユニットを介して収納容器に収納する装置であれば、処理の内容は問わない。装置構成も上記実施形態に限らず、本発明を実施可能な種々の装置を採用可能である。
【００７８】
さらに、上記実施形態では被処理基板として半導体ウエハを用いた場合について示したが、液晶表示装置（ＬＣＤ）用のガラス基板に代表されるフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）用の基板等、他の基板に適用可能であることは言うまでもない。
【符号の説明】
【００７９】
１；搬入出ブロック
２；処理ブロック
３；洗浄処理部
４；受け渡し／反転部
５；制御部
１０；搬入出用搬送機構
２０；受け渡し用搬送機構
２１；積層タワー
３０，４０；主搬送機構
３１〜３４、４１〜４４；スクラブ洗浄ユニット
３５，３６，４５，４６；反転ユニット
５０；主制御部
５１；演算部
５２；操作部
５３；記憶部
５５；搬送フロー制御部
５６；ユニット制御部
５７；搬送レシピ作成部
５８；選択部
１００；基板処理装置
２１１〜２１６，２２１〜２２４；受け渡しユニット
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理基板を収納する収納容器が載置される載置台を有する搬入出部と、
被処理基板に対して所定の処理を行う複数の処理ユニットを有する処理部と、
前記搬入出部と前記処理部との間で、被処理基板の受け渡しを行う複数の受け渡しユニットと、
被処理基板搬入用の収納容器および被処理基板搬出用の収納容器の選択、ならびに使用する基板を処理する処理ユニットの選択を受け付ける選択部と、
前記選択部で選択が受け付けられた被処理基板搬入用の収納容器および被処理基板搬出用の収納容器ならびに処理ユニットに応じて、複数の受け渡しユニットから使用する受け渡しユニットを自動的に選択し、被処理基板の搬送ルートを自動的に生成して搬送レシピを作成する搬送レシピ作成部と
を具備することを特徴とする、基板処理装置。
【請求項２】
前記搬送レシピ作成部は、前記選択部において選択された被処理基板搬入用の収納容器または被処理基板搬出用の収納容器および処理ユニットに応じて、予めパラメータとして持っている装置構成設定に基づいて、前記複数の受け渡しユニットから使用する受け渡しユニットを自動的に選択し、被処理基板の搬送ルートを自動的に生成することを特徴とする、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記パラメータは、前記複数の受け渡しユニットの各々につけられた使用優先順位であり、使用優先順位の早いものから選択されるようにしたことを特徴とする、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記パラメータは、前記複数の受け渡しユニットの各々につけられた使用優先順位であり、使用可能な状態で使用優先順位の早いものから選択されるようにしたことを特徴とする、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記搬送レシピ作成部は、処理時間をシミュレートすることによって、スループットが最適となる受け渡しユニットの自動選択および搬送ルートの自動生成を行う機能を有することを特徴とする、請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記搬送レシピ作成部は、前記複数の受け渡しユニットを被処理基板の搬入用と搬出用に振り分ける機能を有することを特徴とする、請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記処理部は、複数の処理ユニットと前記複数の受け渡しユニットとの間で被処理基板を受け渡す主搬送機構を有し、
さらに、前記処理部は第１の組および第２の組を有し、前記複数の受け渡しユニットは、前記第１の組に対応するものと、前記第２の組に対応するものに分かれていることを特徴とする、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記選択部が前記第１の組および前記第２の組のいずれか一方を選択した場合に、前記搬送レシピ作成部は、選択しなかった方に対応する受け渡しユニットを選択しないことを特徴とする、請求項７に記載の基板処理装置。
【請求項９】
前記搬入出部は、さらに、前記収納容器と前記複数の受け渡しユニットの間で被処理基板の受け渡しを行う搬入出用搬送機構を有し、
前記複数の受け渡しユニットのうち前記搬入出用搬送機構がアクセス可能なものとアクセスできないものとの間で被処理基板を搬送する受け渡し用搬送機構をさらに具備し、
前記搬送レシピ作成部は、前記受け渡し用搬送機構が、前記複数の受け渡しユニットのうち前記搬入出用搬送機構がアクセス可能なものとアクセスできないものとの間で被処理基板を搬送するようにレシピを作成することを特徴とする、請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の基板処理装置。
【請求項１０】
被処理基板を収納する収納容器から被処理基板を搬出した後、被処理基板の受け渡しを行う複数の受け渡しユニットのいずれかを介して、被処理基板に対して所定の処理を行う複数の処理ユニットのいずれかに搬送して、被処理基板に所定の処理を行う基板処理装置における基板搬送方法であって、
収納容器および使用する処理ユニットを選択し、
選択された収納容器および処理ユニットに応じて、使用する受け渡しユニットを自動的に選択し、被処理基板の搬送ルートを自動的に生成して搬送レシピを作成し、
前記作成した搬送レシピに基づいて被処理基板の搬送を制御することを特徴とする、基板搬送方法。
【請求項１１】
前記搬送レシピは、前記複数の受け渡しユニットの各々に使用優先順位をつけて、使用優先順位の早いものから選択して作成されることを特徴とする、請求項１０に記載の基板搬送方法。
【請求項１２】
前記搬送レシピは、前記複数の受け渡しユニットの各々に使用優先順位をつけて、使用可能な状態で使用優先順位の早いものから選択して作成されることを特徴とする、請求項１０に記載の基板搬送方法。
【請求項１３】
前記搬送レシピは、処理時間をシミュレートすることによって、スループットが最適となる受け渡しユニットの自動選択および搬送ルートの自動生成を行って作成されることを特徴とする、請求項１０から請求項１２のいずれか１項に記載の基板搬送方法。
【請求項１４】
前記搬送レシピは、前記複数の受け渡しユニットを被処理基板の搬入用と搬出用に振り分けて作成されることを特徴とする、請求項１０から請求項１３のいずれか１項に記載の基板搬送方法。
【請求項１】
被処理基板を収納する収納容器が載置される載置台を有する搬入出部と、
被処理基板に対して所定の処理を行う複数の処理ユニットを有する処理部と、
前記搬入出部と前記処理部との間で、被処理基板の受け渡しを行う複数の受け渡しユニットと、
被処理基板搬入用の収納容器および被処理基板搬出用の収納容器の選択、ならびに使用する基板を処理する処理ユニットの選択を受け付ける選択部と、
前記選択部で選択が受け付けられた被処理基板搬入用の収納容器および被処理基板搬出用の収納容器ならびに処理ユニットに応じて、複数の受け渡しユニットから使用する受け渡しユニットを自動的に選択し、被処理基板の搬送ルートを自動的に生成して搬送レシピを作成する搬送レシピ作成部と
を具備することを特徴とする、基板処理装置。
【請求項２】
前記搬送レシピ作成部は、前記選択部において選択された被処理基板搬入用の収納容器または被処理基板搬出用の収納容器および処理ユニットに応じて、予めパラメータとして持っている装置構成設定に基づいて、前記複数の受け渡しユニットから使用する受け渡しユニットを自動的に選択し、被処理基板の搬送ルートを自動的に生成することを特徴とする、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記パラメータは、前記複数の受け渡しユニットの各々につけられた使用優先順位であり、使用優先順位の早いものから選択されるようにしたことを特徴とする、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記パラメータは、前記複数の受け渡しユニットの各々につけられた使用優先順位であり、使用可能な状態で使用優先順位の早いものから選択されるようにしたことを特徴とする、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記搬送レシピ作成部は、処理時間をシミュレートすることによって、スループットが最適となる受け渡しユニットの自動選択および搬送ルートの自動生成を行う機能を有することを特徴とする、請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記搬送レシピ作成部は、前記複数の受け渡しユニットを被処理基板の搬入用と搬出用に振り分ける機能を有することを特徴とする、請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記処理部は、複数の処理ユニットと前記複数の受け渡しユニットとの間で被処理基板を受け渡す主搬送機構を有し、
さらに、前記処理部は第１の組および第２の組を有し、前記複数の受け渡しユニットは、前記第１の組に対応するものと、前記第２の組に対応するものに分かれていることを特徴とする、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記選択部が前記第１の組および前記第２の組のいずれか一方を選択した場合に、前記搬送レシピ作成部は、選択しなかった方に対応する受け渡しユニットを選択しないことを特徴とする、請求項７に記載の基板処理装置。
【請求項９】
前記搬入出部は、さらに、前記収納容器と前記複数の受け渡しユニットの間で被処理基板の受け渡しを行う搬入出用搬送機構を有し、
前記複数の受け渡しユニットのうち前記搬入出用搬送機構がアクセス可能なものとアクセスできないものとの間で被処理基板を搬送する受け渡し用搬送機構をさらに具備し、
前記搬送レシピ作成部は、前記受け渡し用搬送機構が、前記複数の受け渡しユニットのうち前記搬入出用搬送機構がアクセス可能なものとアクセスできないものとの間で被処理基板を搬送するようにレシピを作成することを特徴とする、請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の基板処理装置。
【請求項１０】
被処理基板を収納する収納容器から被処理基板を搬出した後、被処理基板の受け渡しを行う複数の受け渡しユニットのいずれかを介して、被処理基板に対して所定の処理を行う複数の処理ユニットのいずれかに搬送して、被処理基板に所定の処理を行う基板処理装置における基板搬送方法であって、
収納容器および使用する処理ユニットを選択し、
選択された収納容器および処理ユニットに応じて、使用する受け渡しユニットを自動的に選択し、被処理基板の搬送ルートを自動的に生成して搬送レシピを作成し、
前記作成した搬送レシピに基づいて被処理基板の搬送を制御することを特徴とする、基板搬送方法。
【請求項１１】
前記搬送レシピは、前記複数の受け渡しユニットの各々に使用優先順位をつけて、使用優先順位の早いものから選択して作成されることを特徴とする、請求項１０に記載の基板搬送方法。
【請求項１２】
前記搬送レシピは、前記複数の受け渡しユニットの各々に使用優先順位をつけて、使用可能な状態で使用優先順位の早いものから選択して作成されることを特徴とする、請求項１０に記載の基板搬送方法。
【請求項１３】
前記搬送レシピは、処理時間をシミュレートすることによって、スループットが最適となる受け渡しユニットの自動選択および搬送ルートの自動生成を行って作成されることを特徴とする、請求項１０から請求項１２のいずれか１項に記載の基板搬送方法。
【請求項１４】
前記搬送レシピは、前記複数の受け渡しユニットを被処理基板の搬入用と搬出用に振り分けて作成されることを特徴とする、請求項１０から請求項１３のいずれか１項に記載の基板搬送方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【公開番号】特開２０１１−９７０２３（Ｐ２０１１−９７０２３Ａ）
【公開日】平成２３年５月１２日（２０１１．５．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１８６２６３（Ｐ２０１０−１８６２６３）
【出願日】平成２２年８月２３日（２０１０．８．２３）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年５月１２日（２０１１．５．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年８月２３日（２０１０．８．２３）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
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