薄いガラスシート（７）用の担体（３１）が開示される。担体は、第１（１５）および第２（１７）の対向表面を有するエラストマー（９）と、前記エラストマー（９）の第１の表面（１５）に接着した支持体（１１）とを備えている。使用中、薄いガラスシート（７）がエラストマーの第２の表面（１７）に直接接触し、かつ、取り外し可能に接着する。薄いガラスシート（７）に、強いが、取り外し可能な接着を提供するため、エラストマーの第２の表面（１７）は１０〜９０の範囲のショアＡ硬さおよび１８５ナノメートル以下の粗さを有する。このようにして、担体／ガラスシート組立体（１３）は、薄いガラスシート（７）の露出面（２３）における電子部品の製造の間に遭遇する状況に耐えることができる。
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【課題】ウエーハ、カセット及び搬送手段の破損を防止するウエーハ加工装置を提供。
【解決手段】ウエーハカセット５０と、カセット載置台７４と、カセットにウエーハを搬入・搬出する搬送手段５４とを備え、搬送手段は、載置台に載置されたカセットに進退可能に配設され、カセットに対してウエーハを搬入・搬出するウエーハ加工装置であって、搬送手段とカセット又はウエーハとの衝突を検出する衝突検出機構９０と、搬送手段を制御する制御手段とを具備し、載置台は、ウエーハ加工装置の架台上に微少動可能に組みつけられ、衝突検出機構は、載置台又は架台の何れか一方に固定された作用板と、載置台又は架台の他方に作用板と対向して配設された接触スイッチとを含み、搬送手段と、カセット又はウエーハとの衝突時に発生する載置台の微小動によって接触スイッチが作用板に接触することで衝突を検出し、衝突を検出した際、搬送手段の動作を停止させる。 （もっと読む）

【課題】ロボットの解体・点検作業を必要とするようなトラブルが発生する前に、ロボットの異常状態を検出すること。
【解決手段】本発明のロボットにおいては、ロボット制御手段40が、アーム駆動手段及び手首軸駆動手段を駆動してエンドエフェクタ25を所定の実位置に移動させ、エンドエフェクタ25が所定の実位置に到達した時点でのロボットアーム28の姿勢及び手首軸の角度位置を検出し、その検出結果に基づいて所定の実位置に対応する計測位置を算出して記憶し、異なる時点において取得された複数の計測位置の時系列データに基づいてロボットの状態を判定する。 （もっと読む）

【課題】 積層された半導体ウエハと保護シートとを取り違えることなく吸着して搬送することができるようにする。
【解決手段】 可撓性アーム２６の先端部下面で保護シート２２を吸着して持ち上げる。この場合、保護シート２２の重さは１〜２ｇと比較的小さい。このため、保護シート２２を持ち上げた可撓性アーム２６の撓み量は比較的小さい。一方、可撓性アーム２６の先端部下面で半導体ウエハ２３を吸着して持ち上げた場合には、半導体ウエハ２３の重さが保護シート２２の重さの数十倍とかなり大きいので、可撓性アーム２６の撓み量は比較的大きい。可撓性アーム２６の撓み量は歪みゲージ２７で検出される。そして、半導体ウエハ２３と保護シート２２との重さの相違から、今、可撓性アーム２６で持ち上げているものが保護シート２２および半導体ウエハ２３のいずれであるか判別される。この後、保護シート２２または半導体ウエハ２３を吸着部材で吸着して別の箇所に搬送する。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の歩留りの向上を図る。
【解決手段】トレイ７には、それぞれにウェハレベルＣＳＰ５を収容可能な複数のポケット７ａが設けられており、かつそれぞれのポケット７ａには、ウェハレベルＣＳＰ５の複数の半田バンプ３を支持する台座部７ｂと、台座部７ｂの周囲に形成された側壁７ｃとが設けられており、ウェハレベルＣＳＰ５の製造の後工程における工程間の搬送などで、このトレイ７のポケット７ａでウェハレベルＣＳＰ５を収容した際に、半導体チップの主面の有機膜を支持するのではなく複数の半田バンプ３を台座部７ｂによって支持することにより、前記有機膜に傷が形成されたり、前記有機膜が剥離して異物となって製品に付着したりすることを防止でき、その結果、製品であるウェハレベルＣＳＰ５（半導体装置）の歩留りや品質の向上を図る。 （もっと読む）

半導体ウエハなどの加工物を処理するための半導体加工処理装置が提供される。関連する作動制御方法がまた提供される。前記装置は、加工物を受けるように構成された静電チャック及び静電チャックに接続された固定電圧電源を含む。静電チャックは固定電極組立体を有し、固定電圧電源は固定電極組立体に接続される。固定電圧電源は、固定電極組立体のための直流固定電圧を生成するように構成された直流（ＤＣ）電圧発生器と、固定電極組立体のためのＡＣ励起信号を生成するように構成された交流（ＡＣ）電圧発生器と、固定電極組立体に接続された処理構成とを含む。該処理構成は、ＡＣ励起信号に応じて得られる加工品の存在信号の特質を分析し、またその特質に基づいて、静電チャックに関する加工品の適当／不適当な位置決めを確かめるように構成される。 （もっと読む）

【課題】ロードポート装置、加工処理装置の構造的な改良と、制御プログラムの改良と、を最小限に抑えることが可能なパージ制御装置を提供する。
【解決手段】パージ装置３２は、加工物１を収容するクリーンボックス２から、加工物を壁に設けられた開口部１０を介して内部空間へ出し入れするロードポート装置３に取り付けて使用され、開口部へ向けてガスを噴出しパージ処理をする。パージ装置を制御するパージ制御装置３１は、ロードポート装置に電気的に接続され、ロードポート装置を動作させる動作命令を生成する上位装置５１から、動作命令を受信する送受信手段３５と、上位装置から受信した動作命令を、ロードポート装置とパージ装置とにパージ処理を含む動作をさせる変換動作命令に変換する制御手段３３と、を備える。制御手段により変換された変換動作命令が、ロードポート装置とパージ装置とへ送受信手段により送信される。 （もっと読む）

【課題】カセット内のウエハの状態を迅速に知ることができるウエハ搬送システム、および、ウエハ収納カセットを提供する。
【解決手段】複数のウエハを収納するカセットに読み出し書き込み可能なメモリを備えた無線タグを設け、カセットをウエハ搬送装置へ設置したときに、カセット内のウエハの有無を検出するセンサに電源が供給されて、無線タグにウエハの有無の情報が書き込まれ、ウエハ搬送装置に設けられた読み取り装置で、無線タグのメモリに記憶されたウエハに関する情報を読み出し、当該ウエハを搬送アームでカセットから取り出す構成とした。 （もっと読む）

【課題】安全かつ簡易な構成の半導体搬送装置のメンテナンスにおいて行うロボット遠隔教示作業のインターロック系統切替機構を備えた半導体搬送装置を提供する。
【解決手段】点検調整用の開口部１０と、この開口部１０を蔽う開閉自在のカバー２と、このカバー２が開状態のときインターロック３が作動し、装置の駆動を停止させるインターロック回路３と、を備えた搬送用ロボットによって半導体試料を搬送する半導体搬送装置１であって、さらに、カバー２が開状態のときに、操作できるキースイッチ４を有し、キースイッチ４は、ノーマルモードＮとメンテナンスモードＭを選択することができ、ノーマルモードＮは、インターロック３を有効とし、メンテナンスモードＭは、インターロック３を無効にするとともに、さらに搬送ロボットの搬送位置を調整する遠隔教示用のティーチングペンダント５の使用を有効とさせる構成とした。 （もっと読む）

【課題】効率的な除湿がなされる除湿手段を備えたウェーハ加工装置を提供する。
【解決手段】チャックテーブル２６に空気吸引作用を発生させる減圧管３０や、切削ユニット４７，５７のエアベアリング機構に供給する圧縮空気を除湿する除湿装置８０を備える。除湿装置８０には、除湿によって分離された水分を外部に放出するためのパージ用空気が供給されるが、そのパージ用空気として、減圧管３０および切削ユニット４７，５７から排出される圧縮空気を再利用する。従来のように除湿した圧縮空気の一部をパージ用空気に利用するといったロスを生じさせず、除湿の効率化を図る。 （もっと読む）

【課題】 真空室に配備されたゲートバルブの作動用エアの供給が不足した場合でも、ゲートバルブが急激に開放されることを防止する。
【解決手段】 圧力制御機構２０１では、エアシリンダ１２３へ供給されるエアが停止すると、メカニカルバルブ１２１のポートが切り替わり、エアオペレートバルブ１１３が開放され、真空リーク用ポート１０９、気体導入配管１１１および連通孔１０７を介して真空状態の搬送室３内へ外部気体が少しずつ流入する。搬送室３の圧力制御は、逆止弁１０３およびバッファタンク１０５によってエアシリンダ４７の作動用エアを確保した状態で行われるため、ゲートバルブ７ｂの急激な開放が防止される。 （もっと読む）

【課題】地震の発生を予知して開放中の収納容器からの被処理体の飛び出しを防止し、被害を最小限に抑える。
【解決手段】収納容器３の搬送機構１３を有する搬送領域Ｓａと、熱処理炉５よりも下方の作業領域Ｓｂに設けられ蓋体１７上に複数枚の被処理体を搭載した保持具４を支持して熱処理炉に搬入搬出する昇降機構１８と、搬送領域Ｓａと作業領域Ｓｂを仕切る隔壁６の開口部を移載部の収納容器の蓋と一緒に開閉するドア機構１５と、通信回線２６を介して配信される初期微動に基く緊急地震情報を受信する受信部２８又は初期微動を直接検知する初期微動検知部と、受信した緊急地震情報又は検知した初期微動に基いて半導体製造装置１の運転を停止する第１工程、及び、上記ドア機構１５が開状態にある時にドア機構１５を閉作動させる第２工程を実行する制御部２９とを備える。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理システムにおいてエンドエフェクタのアラインメントを校正するためのシステムおよび方法
【解決手段】プラズマ処理システムにおいてチャックに対するエンドエフェクタのアラインメントを校正するための方法が提供される。方法は、エンドエフェクタをチャックの上に位置決めすることと、チャックおよびエンドエフェクタの静止画像を撮影することとを含む。方法は、チャックの中心およびエンドエフェクタによって定められたエンドエフェクタ規定中心を決定するために静止画像を処理することを含む。方法は、エンドエフェクタ規定中心とチャックの中心との間の位置差を決定することを含む。方法は、また、エンドエフェクタがウエハを運ぶときにロボットメカニズムが位置差を調整するようにロボットメカニズムを制御するために、位置差をロボットコントローラに提供することも含む。 （もっと読む）

【課題】従来のウェハ検出用センサでは狭視界タイプの透過形センサを用いたために、その投光ビームが小さくなって、光軸調整が必要であり、投、受光部のそれぞれ２ケ所に光軸調整機構を設けなければならない。
【解決手段】ウェハ２２が光ビームを遮り、この光ビームの遮断を受光側で検出することによって前記ウェハの有無を検出するウェハ検出用センサであって、光ビームを出射して投光ビームＦ１を形成する投光部と、検出領域からの光である受光ビームＦ−１を受光する受光部とを備えたセンサ部１と、投光ビームＦ１を入射光として反射して受光ビームＦ−１を形成すると共に、投光ビームＦ１の進行方向である光軸と受光ビームＦ−１の進行方向である光軸との位置を変える直角プリズム２とを備え、ウェハ２２の有無を検出する光ビームに投光ビームＦ１を使用したものである。 （もっと読む）

【課題】 基板処理装置の内部に滞留している基板を基板及び基板処理装置の損傷を抑制させつつ短時間で回収することが可能な基板処理装置の提供。
【解決手段】基板を処理する処理室と基板を搬送する搬送手段と搬送手段を制御する制御手段とを備え、制御手段は、基板の搬送経路上の複数の位置にて基板の有無を検出するセンサと、操作員による操作を受け付ける操作端末とを備え、センサからの検出信号に基づいて搬送経路上における基板の位置を示す基板位置情報を作成するとともに、基板を搬送する度に基板位置情報を更新し、基板位置情報に基づいて基板処理装置の画像上に基板の画像を移動可能に表示した画面を操作端末に表示し、基板位置情報にて示される基板の位置と実際の基板の位置とが異なるエラーを発見した場合には、搬送手段による搬送動作を一時中断するとともに、操作端末からの基板の画像の移動操作を受け付けて基板位置情報を更新する。 （もっと読む）

【課題】無電力の場合でも真空状態を保ち続ける真空保持設備を提供する。
【解決手段】第１電磁弁１４の一端は、吸気ポート１１に接続し、他端は真空生成器１３のガス入口１３１に接続しており、電力により動作するとき、ガスが第１電磁弁１４を流れ、真空生成器１３のガス入口１３１に入り、真空出力を生成する。第２電磁弁１５の一端は、吸気ポート１１と真空生成器１３の真空出口１３３と並列的に接続し、他端は出力ポート１２に接続しており、それを操作して出力ポート１２をガス出力または真空出力とすることができる。また、切り替えスイッチ１６の一端は吸気ポート１１に接続し、他端は真空生成器１３に接続し、正常な操作のときには切り替えスイッチ１６を閉じ、突発的な電力のない状況が発生した場合に切り替えスイッチ１６を開き、ガス源がこの通路を介し真空生成器１３に供給され、真空を生成し続け、ウェハの吸着を継続する。 （もっと読む）

【課題】天井走行式搬送車を有する搬送装置において、人を含む障害物を的確に検出して安全性を確保する。
【解決手段】この搬送装置は天井走行式の搬送車を有する。搬送車の進行方向側の表面の略全体を覆う位置には、障害物の接触を検出する為のカバーを含む障害物検出装置が設けられている。よって、搬送車の進行方向側に存在する障害物を確実に検出できる。搬送車は、自身を駆動する為の駆動部と駆動部を制御する制御部を有し、障害物検出装置は障害物検出手段等を有する。障害物検出手段は、カバーへの障害物の接触時にカバーと障害物検出手段との相対的な距離に基づき制御部に対して障害物検出用の出力信号を出力する。制御部は、その出力信号に基づき駆動部を停止させる。よって、カバー全体が接触式スイッチとして機能し、搬送車の進行方向側に存在する障害物がカバーのどの位置に接触しても搬送車を直ちに停止させることができ安全性を確保できる。 （もっと読む）

【課題】基板保持手段に基板が保持されているか否かに応じて、処理液供給手段の供給動作を適切に禁止することができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】 薬液表面側バルブ２３の開成タイミングに至ったとき（ステップＳ１でＹＥＳ）、ＣＰＵ６０は、ウエハ保持センサ９からの出力をチェックする（ステップＳ２）。スピンチャック３にウエハＷが保持されていない場合には（ステップＳ３でＮＯ）、薬液ノズル４が退避位置以外に位置していれは（ステップＳ４でＮＯ）、ＣＰＵ６０は、薬液表面側バルブ２３の開成を禁止する（ステップＳ５）、薬液ノズル４が退避位置に位置していれは（ステップＳ４でＹＥＳ）、ＣＰＵ６０は、薬液表面側バルブ２３の開成を許可する（ステップＳ７）。この場合、表面側プリディスペンス処理を実行することができる。 （もっと読む）

【課題】搬送ユニットを有する外部装置と接続して使用する処理装置の安全性をより確実にする。
【解決手段】物品を処理する処理ユニットと、外部装置と前記処理ユニットとの間に配置された受け渡し部と前記処理ユニットとの間で物品を搬送する搬送ユニットと、該外部装置に対し前記受け渡し部への該物品の搬送を要求する要求信号を出力する制御部と、当該処理装置における保守の開始を示す信号を出力する出力部と、を有する処理装置において、前記制御部は、該要求信号を出力した後、前記出力部により出力された該保守の開始を示す信号に基づき、該外部装置に対し、前記受け渡し部への該物品の搬送を停止させるための信号を出力するように構成する。 （もっと読む）

【課題】基板の任意の停止位置および任意の回転位置で基板の保持状態および非保持状態を容易に検出することが可能な基板回転保持装置およびこれを備えた基板処理装置を提供する。
【解決手段】スピンベース１の上面に設けられた各回動式保持部材２の支持部２１の内部には、磁石２ａがそれぞれ設けられている。各回動式保持部材２の近傍には、ホール素子３が設けられている。各ホール素子３は、対応する各回動式保持部材２が時計方向および反時計方向に回転した場合に、各磁石２ａの磁力をそれぞれ検出する。スピンベース１の下面の受電コイル４の外側を取り囲むように回転軸Ｐを中心として環状の６つの発光素子群６ａ〜６ｆがそれぞれ設けられている。これらの発光素子群６ａ〜６ｆとそれぞれ所定の距離（スピンベース１の厚さ方向の距離）を隔てて、直径が異なる環状の６つの受光素子群９ａ〜９ｆがそれぞれ設けられている。 （もっと読む）