【課題】基板を収納する基板収納容器を梱包して輸送するときに、外気温が変化しても基板収納容器に収納した基板が結露したり、汚染されてしまうことを防止できる基板収納容器及びその梱包体を提供する。
【解決手段】開口を有し基板を収納する容器本体と、開口を閉鎖する蓋体とを有する基板収納容器１であって、この基板収納容器１を、梱包袋１１と、緩衝材１３と、梱包箱１４とからなる梱包資材を使用して梱包するときに、基板収納容器１または梱包資材の少なくとも１つに保温層１２を設けて、基板収納容器１を取り囲むことを特徴とする。前記保温層１２は、空気層を有しているようにすること、また、調湿剤を有しているようにすること、また、前記基板収納容器１が、外周部に保護部材８を備えてるようにし、これを梱包する基板収納容器１の梱包体とすること、が好ましい。 （もっと読む）

【課題】 装置内部からのパーティクル飛散を防止するとともに、ＣＶＤやＰＶＤなどの腐食性ガスを使用する環境においても内部に腐食性ガスが侵入することがなく、極めて長期的に安定した耐腐食性能を得ることができるプリアライナー装置を提供する。
【解決手段】 機枠２１の内部を機枠２１に設けた排気用継ぎ手３２から真空排気などにより吸引することによって陰圧化するとともに、機枠２１の外側に外被容器１１を設け、外被容器１１には気体導入用の継ぎ手１２を設けておき、気体導入用の継ぎ手１２から清浄なエアを印加して機枠２１と外被容器１１との間の空間１４に充填することで、外被容器１１の内側を外部雰囲気３に対して陽圧とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の態様は、かかる課題の認識に基づいてなされたものであり、パーティクル汚染の発生を大幅に抑制することができ、かつ、静電チャックの載置面側に形成された樹脂層の密着力が高い静電チャックおよび静電チャックの製造方法を提供する。
【解決手段】被処理物を載置する側の主面に形成された突起部と、前記突起部の周辺に形成された平面部と、を有する誘電体基板と、前記突起部と、前記平面部と、を覆うように形成された樹脂層と、を備えた静電チャックであって、前記突起部の頂面の表面粗さは、前記平面部の表面粗さより小さいこと、を特徴とする静電チャックが提供される。 （もっと読む）

【課題】搬送中に基板の位置ずれを生じにくく、且つ、パーティクルの発生を抑制可能な基板搬送装置及びこれを備えた基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板搬送装置は、基板Ｗを保持して水平方向に移動可能な保持部材１０を備え、この保持部材１０は基板Ｗの下面側の周縁部を保持するために基板Ｗの載置領域の周方向に沿って複数設けられ、垂直方向の断面が円弧状の凹曲面である保持面１３、１４を備えている。 （もっと読む）

【課題】ハロゲン系腐蝕性ガスに対する耐蝕性に優れた実用的な耐蝕性部材を提供すること。
【解決手段】耐蝕性部材１００は、下部耐熱性部材１０１及び上部耐熱性部材１０２からなる耐熱性部材の表面を窒化アルミニウムの被覆膜１０３が覆って保護しており、上部耐熱性部材１０２の内部には、静電チャック用の電極１０４ａ、１０４ｂとウエハを加熱するヒータ１０５が内蔵されている。窒化アルミニウム膜１０３は、化学気相成長法により成膜されたＣＶＤ膜であり、相対密度が５０％以上９８％未満であり、硬度は２ＧＰａ以上１０ＧＰａ以下である。このような窒化アルミニウム膜１０３は、膜厚を十分に厚くしても割れや欠けが生じ難く、熱プロセスを受けた場合でもパーティクルの発生が抑制されるため、ハロゲン系腐蝕性ガスに対する耐蝕性に優れた実用的な耐蝕性部材が提供される。 （もっと読む）

【課題】ＦＯＵＰの蓋部を開けることなくＦＯＵＰ内のウェーハに対するマッピング処理を適切に行うことができるとともに、構造の簡素化及び不要なコストアップ抑制を図ることが可能なマッピング機構を提供する。
【解決手段】高さ方向へ複数段に亘ってウェーハＷを載置し得るウェーハ載置部と開閉可能な蓋部１２とを有するＦＯＵＰ１に対してマッピングを行うマッピング機構Ｍを、ロードポートに設けた投光部２４１及び受光部２４２と、投光部２４１と受光部２４２との間においてＦＯＵＰ１におけるウェーハ載置部の各段部に載置されたウェーハＷの少なくとも一部を横切り得る光路Ｌ上に設けられ光を透過させる窓部１２Ｂ、１２Ｃとから構成した。 （もっと読む）

【課題】薄板状ワークを吸着し、搬送するに際し、ウエハを搬送し、所望位置に載置するまでの過程で別途のデバイスに受け渡す受渡し工程を不要とでき、しかも、ウエハにダメージを与えない、産業用の搬送機械に取り付けられる、ワーク搬送用機器と、このワーク搬送用機器が取付けられた産業用の搬送機械を使用するワーク搬送方法を提供する。
【解決手段】ワーク搬送用機器１０は、薄板状ワークＷを吸着する吸引孔２ａを具備する２以上の把持部材２，…と、２以上の把持部材２，…を一体に固定する本体部材１と、を少なくとも有し、把持部材２のうち、少なくとも吸引孔２ａの開設された領域は本体部材１の側端から張り出して張り出し箇所２’を形成しており、本体部材１のうち、吸着される薄板状ワークＷ側の側面には撓み防止部材１４が配されて張り出し箇所２’を支持しており、少なくとも、該張り出し箇所２’が薄板状ワークＷ側へ撓むのを抑止している。 （もっと読む）

【課題】 パーティクルの発生を、より良く抑制することが可能な基板処理方法を提供すること。
【解決手段】 被処理体に対する処理エリアを制限するクランプリングを用い、被処理体に対する処理エリアを制限しながら被処理体に対して処理を行う基板処理方法であって、加熱機構を有した載置台上に、被処理体を載置する工程（ｔ１）と、加熱機構を用いて、載置台に載置された被処理体を目標加熱温度まで加熱する工程（ｔ２）と、目標加熱温度に達した被処理体に、被処理体に対する処理エリアを制限するクランプリングを接触させる工程（ｔ３、Ａ）と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】歪みのあるウエハを受け取り、且つ平面に保持するウエハ保持装置、半導体製造装置およびウエハ吸着方法を提供する。
【解決手段】支柱３４は下部にフランジを備えた略凸状の断面をもち、カバー３８でブロック３６上に保持されている。チップ３０、リング３２、支柱３４は何れもチューブ状の中空構造であり、チップ３０の先端（上端）には吸着穴が開口している。カバー３８は穴４２に支柱３４が挿通されるようにフランジをブロック３６の上に保持している。フランジとカバー３８との間には圧電素子４０が設けられており、チップ３０が引っ張られる方向に外力が作用すると、支柱３４がブロック３６からフランジを離間させるように動き、カバー３８内部でフランジが圧電素子４０をカバー３８に向けて押圧する構成とされている。 （もっと読む）

【課題】処理容器内の脱気処理を十分に行って高真空にできると共に、高温に耐え得る載置台構造を提供する。
【解決手段】被処理体Ｗに対して金属を含む薄膜を形成するために被処理体を載置する載置台構造３２において、内部にチャック用電極３４と加熱ヒータ３６とが埋め込まれたセラミック製の載置台３８と、載置台の周辺部の下面に接続された金属製のフランジ部１００と、フランジ部とネジ１２６により接合されると共に内部に冷媒を流すための冷媒通路４０が形成された金属製の基台部４２と、フランジ部と基台部との間に介在された金属シール部材１３０とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板を確実に把持し、基板を目的の位置に載置するときも基板保持部材との接触などの問題が無いハンド構成を提供すること
【解決手段】ベース部材２１に対し、基準位置と把持位置との間をスライド可能であって、基板２７を載置するスライド部材２１と、スライド部材２１を常に基準位置へ戻す方向に力を加える反力部材２５と、スライド部材２１を把持位置へ移動させるときにこれと接触し、スライド部材２１が基準位置にあるときはこれと離れる駆動部２９と、スライド部材２１が基準位置にあるとき、基板２７の周囲と一定の隙間３３を有し、スライド部材２１が把持位置にあるとき、基板２７のエッジを保持可能なＶ字溝を有する第１の基板保持部材３１と、スライド部材２１が基準位置にあるとき、基板２７の周囲と一定の隙間３３を有するように駆動部２９に配置され、スライド部材２１が把持位置にあるとき、基板２７のエッジを保持可能なＶ字溝を有する第２の基板保持部材３０と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】板状基体の搬送方向からの位置ずれの補正が可能であり、安定した高精度の搬送が可能であって、かつ静電気の発生、およびパーテイクルの発生を、低減することができる浮上搬送装置および浮上搬送方法を得る。
【解決手段】板状基体の搬送路を形成する基台１０と、前記基台１０を覆う囲い板２０と、前記基台１０に配置された複数の噴射ノズルおよび複数の吸引ノズルと、板状基体の搬送時のずれを検出する手段とで構成される浮上搬送装置１００であって、前記複数の噴射ノズルは、板状基体を前記基台１０の面に沿って浮上搬送させ、前記複数の吸引ノズルは、前記噴射ノズルの列の外側に配置されて、板状基体の搬送時のずれを検出する手段からの信号によって、前記複数の吸引ノズルのいずれかの吸引力が調整されて、前記板状基体３０の搬送のずれが補正される浮上搬送装置１００とする。 （もっと読む）

【課題】基板を冷却するにあたり、その基板の変形を抑えることができる基板冷却ステージを提供すること。
【解決手段】本発明の基板冷却ステージは、基板の裏面がその表面に接するかまたは近接する台座部と、基板を冷却するために前記台座部の表面を冷却する冷却手段と、前記台座部にて前記基板に接するかまたは近接する領域の全周に亘って、あるいはその周方向に沿った複数箇所に設けられ、上方外方側へ向かって傾斜するように伸びると共に基板の周縁を下方にガイドするための傾斜ガイド部材とを備えており、所定の温度になるまで放熱されていない基板が台座部に近接することが防がれるので、基板が急激に冷却されて変形してしまうことを抑えることができる。また、前記冷却手段の他にガスを供給して基板を冷却する場合、そのガス供給レシピを基板に形成されている膜に応じて設定する必要が無くなるので有利である。 （もっと読む）

【課題】本発明の態様は、パーティクル汚染の発生を抑制することができ、被処理物の離脱応答性が良好で、静電チャックの載置面部分に形成された被覆部の剥離耐久性が高い静電チャックおよび静電チャックの製造方法を提供する。
【解決手段】被処理物を載置する側の主面に形成された突起部と、前記突起部の周辺に形成された平面部と、を有する誘電体基板と、前記突起部と、前記平面部と、を覆うように形成された被覆部と、を備えた静電チャックであって、前記平面部の少なくとも一部には、前記被覆部が形成されていない領域が設けられていること、を特徴とする静電チャックが提供される。 （もっと読む）

【課題】シール性能が安定して信頼性の高いプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】その内側が減圧される真空容器５０９と、この真空容器の壁に配置されその内外を連通し処理対象の試料がやりとりされる開口１２０１と、前記壁の外側に配置され前記開口１２０１を気密に閉塞および開放する弁体１００１と、この弁体上の前記開口の周囲の前記壁と接する側に配置されこの弁体が開口１２０１を閉塞した状態で前記壁及び弁体１００１と接触して前記開口の内側を封止するシール部材１００２と、このシール部材を構成する前記壁と接触する凸状の曲面を有した第１の凸部及びこの凸部から延在し弁体１００１と係合してその内側に取り付けられる張り出し部と、弁体１００１の前記壁と接する側に取り付けられ前記張り出し部の少なくとも一部をこの弁体に押し付けて位置決めするカバー１００３とを備えた真空処理装置。 （もっと読む）

【課題】基板トレイの揺れ、さらには発塵を抑えて、安定した高速搬送を可能とする基板搬送装置を提供する。
【解決手段】基板トレイ２３が取り付けられたキャリア２０と、キャリアの搬送機構１２と、キャリアの上部を非接触に案内するキャリアの案内機構とからなり、案内機構を、前記キャリアの上部に搬送路に沿って取り付けられた第１の磁石列２２と、この上方又は下方に、搬送路に沿って真空室１０に取り付けられ第２の磁石列１４とで構成したことを特徴とする。さらに、第１の磁石列及び第２の磁石列を搬送方向に垂直な方向に所定の間隔を開け複数列配置し、対向する磁石列間で吸引力が働き、隣り向かいの磁石列間では反発力が働くように、磁石を配置する。 （もっと読む）

【課題】被吸着物に付与する吸着力を大きくすることができる静電吸着保持装置、露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】第２静電吸着保持装置３４は、支持面４１を有する基体４０を備え、基体４０の支持面４１側には、ウエハＷを支持するための複数の凸状の支持部４９が設けられている。また、第２静電吸着保持装置３４は、誘電材料で構成される誘電部材４２を備え、該誘電部材４２は、支持面４１上であって、且つ各支持部４９の間に設けられている。また、誘電部材４２内には、複数の第１電極部４４及び複数の第２電極部４６が設けられている。そして、各電極部４４，４６に電圧が印加されると、ウエハＷは、誘電部材４２がクーロン力を発揮することにより、基体４０に静電吸着される。 （もっと読む）

電子デバイスの製造において基板を移動させるシステム、方法、および装置が提供される。いくつかの態様では、基部部分および少なくとも３つのパッドを有するエンドエフェクタが提供される。各パッドは接触表面を有し、接触表面の少なくとも１つは湾曲した形状を有する。エンドエフェクタによって支持される基板は、パッドに対して著しく摺動することなく、比較的高い横方向のｇ力で移動させることができる。追加の態様も提供される。
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【課題】半導体ウェーハの金属汚染を防止し、かつ半導体ウェーハの内外において損傷を防止する。
【解決手段】気相成長装置１００は、加熱した半導体ウェーハ１を金属製の円板状の冷却プレート１１に近接して、半導体ウェーハ１を冷却する冷却チャンバ１０を備える。冷却チャンバ１０は、冷却プレート１１に取り付けて、半導体ウェーハ１の周縁を周方向に間隔をあけて支持する複数の支持部材１３を備える。支持部材１３は、半導体ウェーハ１が載置される円弧状の頂部が冷却プレート１１の中心に向かう支持面１３１と、支持面１３１から突出して半導体ウェーハ１の外周を部分的に囲う段差１３２を有する。円弧状の頂部は、半導体ウェーハ１が冷却プレート１１に接触しない所定の高さを設けると共に、冷却プレート１１の中心に向かって下り傾斜している。 （もっと読む）

【課題】実質的に粘着力を有さないクリーニング層を備えるクリーニング機能付搬送部材であって、搬送性能に優れ、エッジ付近を含むチャックテーブル全面にわたって均一に異物除去性能に優れ、さらに、ウェハのハンドリング部であるウェハエッジ部分付近への異物付着や汚れ付着が効果的に防止でき、機械式固定方式におけるウェハ接触部への異物付着や汚れ付着が効果的に防止できる、クリーニング機能付搬送部材を提供する。また、そのようなクリーニング機能付搬送部材の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のクリーニング機能付搬送部材は、クリーニング層を有するクリーニング機能付搬送部材であって、該クリーニング層は実質的に粘着力を有さず、該クリーニング層は、搬送部材の一方の面の全面と、搬送部材のエッジ部分と、搬送部材のもう一方の面の一部とを連続的に覆うように形成されている。 （もっと読む）