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Fターム[5F031PA26]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 特殊目的 (8,207) | 汚染防止 (1,146) | 部材からの汚染物質の溶出・発生の防止 (483)

Fターム[5F031PA26]に分類される特許

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【課題】 パーティクルの発生を低減することが可能な基板温調固定装置を提供することを課題とする。
【解決手段】 この基板温調固定装置は、基体の一方の面に載置される吸着対象物を吸着保持する静電チャックと、前記静電チャックを支持するベースプレートと、を有し、前記基体の他方の面と対向する前記ベースプレートの一方の面の外周には、土手部が設けられていることを要件とする。 (もっと読む)


【課題】実質的に粘着力を有さないクリーニング層を備えるクリーニング機能付搬送部材であって、搬送性能に優れ、エッジ付近を含むチャックテーブル全面にわたって均一に異物除去性能に優れ、さらに、ウェハのハンドリング部であるウェハエッジ部分付近への異物付着や汚れ付着が効果的に防止でき、機械式固定方式におけるウェハ接触部への異物付着や汚れ付着が効果的に防止できる、クリーニング機能付搬送部材を提供する。また、そのようなクリーニング機能付搬送部材の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のクリーニング機能付搬送部材は、クリーニング層を有するクリーニング機能付搬送部材であって、該クリーニング層は実質的に粘着力を有さず、該クリーニング層は、搬送部材の一方の面の全面と、搬送部材のエッジ部分と、搬送部材のもう一方の面の一部とを連続的に覆うように形成されている。 (もっと読む)


【課題】大型のウェーハの裏面を真空吸着して保持する吸着ハンドにおいて、ウェーハの自重による変形および真空吸着力による局所的な変形を抑制する。
【解決手段】ウェーハを吸着するための吸着部を有し、この吸着部と前記ウェーハの裏面との間に減圧部を生じさせることにより前記ウェーハを吸着して保持する吸着ハンドであって、前記吸着部を3か所以上設け、これらの吸着部の中心を頂点とする多角形の内側に前記ウェーハの中心が位置し、且つ前記吸着部が前記ウェーハの外周の内側に位置するように前記ウェーハを保持する。 (もっと読む)


【課題】ウェーハを支持するときに、フィルムの露出部分を少なくする。
【解決手段】一面にフィルム(3)が貼付けられているウェーハ20を支持するウェーハ支持具(30)は、ウェーハ周りに配置される第一筒部材(31)と、第一筒部材周りに配置される第二筒部材(32)とを具備し、フィルムが第一筒部材周りにおいて第一部材側に折曲げられて、第一筒部材と第二筒部材との間に保持され、それにより、ウェーハを支持する。第二筒部材は、半径方向内側に延びて第一筒部材の端部を支持する支持部材(33a)を含んでもよい。また、第一筒部材の外周面および第二筒部材の内周面には互いに係合する係合部(37、38)が備えられていてもよい。 (もっと読む)


【課題】磁気ディスク等の基板を搬送し、基板処理を施して大量に生産する基板処理システムのスループット及び生産性の向上のため、各処理チャンバにおける処理時間(タクトタイム)を短縮する。
【解決手段】基板搬送装置は、ゲートバルブを介して連結されたチャンバと、前記ゲートバルブを開状態にして前記チャンバ間でキャリアを搬送路に沿って搬送する搬送機構と、前記キャリアが前記チャンバの停止位置に到達する前に前記キャリアを検知するセンサと、前記センサからの検知信号に基づき前記ゲートバルブの閉動作を開始するよう制御する制御器とを有する。 (もっと読む)


【課題】被処理物の傷付きと汚れを防ぎ、さらなる低発塵性を実現した真空吸着パッドおよび真空吸着装置を提供する。
【解決手段】その表面で被処理物Wを吸着保持しその裏面で真空源に通じる多孔質カーボンから成る真空吸着パッド2の表面をフッ素樹脂で被覆するようにして、被処理物をフッ素樹脂の被膜F’を介して真空吸着パッドに吸着させる。また、フッ素樹脂を導電性フッ素樹脂にして、真空吸着パッドがカーボン材料本来の導電性を失うおそれをなくす。 (もっと読む)


【課題】 保持する試料への不純物やパーティクルの付着、および傷の発生等を抑制する。
【解決手段】 主面上に複数の凹部が設けられた基体と、前記基体の前記凹部に配された略球形状の支持体と、を備え、前記支持体は、前記凹部の内側に設けられた接合部材によって前記基体と接合する部位と、前記主面より上方に配置され、試料と当接して前記試料を支持する部位と、を有することを特徴とする試料支持具を提供する。 (もっと読む)


【課題】クリーンルームにおいて光起電性モジュールをスパッタシステムへ輸送する際に、該モジュールの容易な回転、先のスパッタプロセスの検査、及び同じスパッタシステム又は生産システムの他の部位への該モジュールの新たな供給を可能にする。
【解決手段】本発明は、特に、クリーンルームにおいて光起電性モジュールをコーティングする際に、スパッタコーティングシステムへの基板ウエハ供給を反転する装置及び方法に関する。本装置及び方法は、a)光起電性モジュールの基板ウエハ(19)を保持する輸送フレーム(11)と、b)輸送フレーム(11)をマウントし、回転させ、輸送する手段を有する回転装置と、c)回転装置をスパッタコーティングシステムに対して正確に整列させる手段と、d)スパッタプロセスを検査する検知装置(18)と、上記ステップを遂行するためのプログラムコードを有するコンピュータプログラムと、を備える。 (もっと読む)


【課題】IMSシステムにおいてポッドの蓋に付随する極微小な塵等のミニエンバイロンメント内への拡散を抑制するポッド及び該ポッドに応じたFIMSシステムを提供する。
【解決手段】ポッドの蓋外側面内に被係合部3cを配置し、ポッド開口周囲に配される蓋が嵌合可能なフランジ部2cに対して外部空間より被係合部3cにアクセス可能となる挿通孔2eを配する。ラッチ機構はフランジ部2cにおけるポッド本体側の面においてフランジ側壁に平行な方向に摺動可能に支持され、ラッチ機構5における係合部5bは挿通孔2eを介して被係合部3cに至り、ラッチ機構の移動に応じて係合及び非係合の状態変化を為す。 (もっと読む)


【課題】半導体ウェーハとチャックピンとの接触に起因するパーティクルの発生を抑制する。
【解決手段】本発明のイオン注入装置のチャック機構は、支持盤の半導体ウェーハ28が載置される面の反対側の面に、回転体の中心と半導体ウェーハの中心を結ぶ線(対称軸40)に軸対称に起立して設けられた支軸42と、支軸回りに回動可能かつ一端部が半導体ウェーハの内周側の周縁部より外側へ突出して設けられたリンク部材44と、リンク部材の一端部から半導体ウェーハの方向に起立して設けられたチャックピン46と、リンク部材を時計回りに回動させるチャックバネ48を備えている。リンク部材は、チャックバネによる回動を妨げる方向に回転体の回転に伴う遠心力を働かせるカウンタウェイト52が着脱可能になっており、カウンタウェイトの重量を異ならせてこの遠心力を調整可能になっている。 (もっと読む)


耐プラズマコーティング材料、耐プラズマコーティング、及びそのようなコーティングをハードウェア部品上に形成する方法。一実施形態では、ハードウェア部品は静電チャック(ESC)であり、耐プラズマコーティングはESCの表面上に形成される。耐プラズマコーティングは、熱溶射以外の方法によって形成され、これによって有利な材料特性を有する耐プラズマコーティングを提供する。
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【課題】半導体装置の歩留りの向上を図る。
【解決手段】トレイ7には、それぞれにウェハレベルCSP5を収容可能な複数のポケット7aが設けられており、かつそれぞれのポケット7aには、ウェハレベルCSP5の複数の半田バンプ3を支持する台座部7bと、台座部7bの周囲に形成された側壁7cとが設けられており、ウェハレベルCSP5の製造の後工程における工程間の搬送などで、このトレイ7のポケット7aでウェハレベルCSP5を収容した際に、半導体チップの主面の有機膜を支持するのではなく複数の半田バンプ3を台座部7bによって支持することにより、前記有機膜に傷が形成されたり、前記有機膜が剥離して異物となって製品に付着したりすることを防止でき、その結果、製品であるウェハレベルCSP5(半導体装置)の歩留りや品質の向上を図る。 (もっと読む)


【課題】昇降ピンごとに位置調整を行って挿通孔と昇降ピンとの位置合わせを正確に行うことができ、昇降ピンと挿通孔内面のこすれ等によるパーティクルの発生を抑制することができる基板載置台を提供すること。
【解決手段】基板載置台は、載置台本体と、載置台本体に対して基板を昇降する基板昇降機構とを有する。基板昇降機構は、挿通孔に挿通された昇降ピン52と、昇降ピン52を支持する昇降アーム59と、昇降アーム59を介して昇降ピンを昇降させるアクチュエータと、昇降ピン52を昇降アーム59に取り付ける昇降ピン取り付け部60とを有し、昇降ピン取り付け部60は、昇降アーム59に設けられた凹所と、昇降ピン52がねじ止めされ、昇降アーム59の上面と面接触する底面と底面から下方へ突出して凹所に遊嵌される突出部とを有するベース部材63と、ベース部材63をクランプするクランプ部材64とを有する。 (もっと読む)


【課題】高温環境下において搬送物を確実に保持して高速搬送を図るとともに、搬送物の搬送時におけるダストをできるだけ少なくする技術を提供する。
【解決手段】本発明の搬送装置50は、駆動源からの動力が伝達される複数のアームを有する伸縮自在なリンク機構20と、リンク機構20の動作先端部において隣接する第3の左アーム3L、第3の右アーム3Rによって連結され基板10を載置するための載置部5とを備える。載置部5には、基板10の側部と当接して係止するための係止部5a、5bが設けられる。リンク機構20の隣接する第3の左アーム3L、第3の右アーム3Rには、基板10の側部と当接し基板10を載置部5の係止部5a、5bに対して付勢する付勢部6aを有する弾性の付勢部材6が固定される。付勢部材6は、第3の左アーム3L、第3の右アーム3Rの相対的な角度関係に応じて載置部5の係止部5a、5bに対する付勢部6aの距離が変化するように構成されている。 (もっと読む)


【課題】薄型のポッドを複数縦に積み上げる様式にてロード可能なFIMSシステムを提供する。
【解決手段】ポッドをロードするプレート上に吸着パッドを配し、当該パッドによる吸着保持によってポッドの該プレートに保持固定する。吸着パッドに吸引力を付与するためのチューブは必要最低限の空間厚さを有する箱状部材内部の収容空間にて収容し、該チューブの撓み得る領域は該収容空間内部にのみ存在することとする。 (もっと読む)


【課題】半導体ウェーハのバックグラインドされた裏面に回路が形成される場合に、裏面の回路の汚染や損傷を抑制し、リングスペーサを省略して薄い半導体ウェーハの破損を防止できる半導体ウェーハ用治具を提供する。
【解決手段】バックグラインドされた薄い半導体ウェーハWを搭載する積層可能な治具であって、中空に形成され、半導体ウェーハWよりも拡径の治具本体1と、治具本体1に形成されて半導体ウェーハWを支持する複数の弾性支持片10とを備える。そして、各弾性支持片10を、治具本体1の内周縁部から上方内側に傾斜しながら伸長する傾斜起立部11と、傾斜起立部11の上部に屈曲形成されて半導体ウェーハWの周縁部を水平に支持する保持部13とから形成する。半導体ウェーハWの表裏面に何も接触させないので、例えバックグラインドされた裏面に回路が形成される場合でも、汚染を嫌う裏面に合紙等が接触することがない。 (もっと読む)


【課題】半導体処理装置を構成する部材に蓚酸系陽極酸化処理を施すことにより、前記部材からの微粒子の発塵を抑制する。
【解決手段】ウエハを真空処理する複数の真空処理室7と、該各真空処理室にウエハを搬入出する真空搬送手段8を備えた真空搬送容器6と、前記各真空処理室にウエハを搬入出するための大気雰囲気あるいは真空雰囲気に切り替え可能なロードロック室9と、ウエハを収納できる複数のカセットを載置し得るカセット載置手段10と、該カセット載置手段上の任意のカセット内からウエハを抜き取れるように構成された大気搬送手段4とを備え、前記任意のカセット内のウエハを前記大気搬送手段及び前記切り替え可能なロードロック室並びに前記真空搬送手段を介して各真空処理室に搬入し、前記各真空処理室で真空処理された処理済ウエハを搬出する真空処理装置において、前記真空搬送容器6を構成する部材の内表面には蓚酸を用いた陽極酸化処理を施した。 (もっと読む)


【課題】2つの部屋を連通する際に一方の部屋の雰囲気を他方の部屋へ流入させることなく両部屋の差圧をゼロにすることが可能な圧力調整装置を提供する。
【解決手段】開閉可能になされた開閉ドアG1〜G8を介して連通された、圧力差が生ずることのある第1の部屋と第2の部屋の圧力調整装置において、第1の部屋と第2の部屋とを連通する連通路66と、連通路の途中に介設された第1及び第2の開閉弁68,70と、連通路の第1及び第2の開閉弁との間に接続されて、連通路に所定の圧力の清浄ガスを供給するガス供給通路72と、ガス供給通路の途中に介設されたガス開閉弁74と、開閉ドアを開く直前に、第1及び第2の開閉弁を閉じた状態で連通路内に清浄ガスを貯め込み、次に、貯め込んだ清浄ガスを第1及び第2の部屋へ供給するために第1及び第2の開閉弁を開くように制御する弁制御部76とを備えるように構成する。 (もっと読む)


【課題】ケーブル類からのガスの発生の問題をなくし、また、真空室の真空状態を確保しつつ真空室外から真空室内の可動部の位置を検出することができる真空処理装置を提供する。
【解決手段】センサヘッド32により支持台4等の位置情報を検出し、送信機95により位置情報を光信号L1、L2及びL3に変換し透光部113bを介して真空室1外の受信機81に出射し、受信機81で光信号L1、L2及びL3を受信しドライバ/電源ユニット8で位置情報に変換することができる。つまり、真空室1外から支持台4等の位置情報を検出するために、真空室1の隔壁11に貫通孔を形成して位置情報を送信するためのケーブルをこの貫通孔を介して真空室1外へ導出したり、真空室1内に敷設したりする必要がない。従って、ケーブル類からのガスの発生の問題をなくし、真空室1の真空状態を確保しつつ真空室1外から真空室1内の支持台4等の位置を検出できる。 (もっと読む)


【課題】優れた振動防止および保護効果を有し、パーティクルの発生を減少させること。
【解決手段】トップカバーとボトムカバーとを含み、ボトムカバーの収納空間の中に緩衝位置決め装置を配置したレチクルポッドのキャリアケースであって、緩衝位置決め装置は、キャリア構造部品と、複数の弾性部品とを含む。キャリア構造部品は、底部と、底部に接続し縦方向に湾曲し延伸した複数の翼部により構成される。複数の弾性部品は、底部に接続しもう1つの向かい合う縦方向に湾曲し、湾曲部を有する複数の弾性部品を形成する。弾性部品の複数の湾曲部は同一平面上に形成する。 (もっと読む)


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