ロボットのピボットアーム組立体を製造する方法は、剛体で加工可能な材料から円形の円盤を形成すること、及び円盤の中心を貫通して円形の穴を形成することを含む。穴を画定する内側表面に外側軸受トラックが一体的に形成されると共に、その穴あき円盤が、外側軸受トラックに係合する固定部を備えた加工装置内に位置決めされる。そして、一体の外輪、アーム、歯付き歯車セグメントが円盤に加工され、ピボットアーム組立体の外側部分が形成される。内側軸受トラックを備えた内倫が一体の外輪の内側に位置決めされ、転がり軸受要素が第１及び第２の軸受トラックに挿入される。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理システムにおいてエンドエフェクタのアラインメントを校正するためのシステムおよび方法
【解決手段】プラズマ処理システムにおいてチャックに対するエンドエフェクタのアラインメントを校正するための方法が提供される。方法は、エンドエフェクタをチャックの上に位置決めすることと、チャックおよびエンドエフェクタの静止画像を撮影することとを含む。方法は、チャックの中心およびエンドエフェクタによって定められたエンドエフェクタ規定中心を決定するために静止画像を処理することを含む。方法は、エンドエフェクタ規定中心とチャックの中心との間の位置差を決定することを含む。方法は、また、エンドエフェクタがウエハを運ぶときにロボットメカニズムが位置差を調整するようにロボットメカニズムを制御するために、位置差をロボットコントローラに提供することも含む。 （もっと読む）

【課題】ウエーハの欠けや割れを引き起こさずに、ウエーハに貼り付けられたテープまたはフィルムを切断する方法を提供する。
【解決手段】本発明のテープまたはフィルム２の切断方法は、ウエーハ１を切断する切断工具の刃先と、ウエーハ外周の接線との間に一定の角度９を設け、前記角度９を保ちながら、ウエーハ１に貼り付けられたテープまたはフィルム２を、ウエーハ１の外径より大きく切断する。これにより、切断工具の刃先３がウエーハ１の端面部に直接接することがない。 （もっと読む）

【課題】各ベローズブロックの伸縮を可及的に均一化することができ、耐久性が高い多ベローズ機構及び多ベローズ機構の設置方法を提供する。
【解決手段】多ベローズ機構１２を仮設置し、各ベローズブロック１６の最伸張時・最短縮時における長さを仮設定したときの、垂直伸張動作に於ける最伸長時の最下方ベローズブロック１６ｄ及び最短縮時における最上方ベローズブロック１６ａそれぞれの余裕分δ１、δ２を各ベローズブロック１６に均等に振り分け、各ベローズブロック１６の伸縮を均一化することにより、多ベローズ機構１２の長寿命化を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】外部のガス導入装置などによる加圧手段に頼ることなく、簡便な構造で収納空間を外部環境よりも高い圧力に維持することが可能な収納容器を提供することを目的とする。
【解決手段】収納部を収納する収納空間に、容積が可変なポンプ空間を前記収納空間に対して気密に連結して形成した。前記ポンプ空間の内容積を変化させるために移動可能な作用部を有する。たとえば、作用部には伸縮自在のベローズや弾性体を用いる。さらに、ポンプ空間は収納空間と一体とすることも可能である。 （もっと読む）

【課題】パーティクルの発生もなく、しかも、装置の寿命を縮めることなく残留電荷と絶縁破壊との防止を図ることができるワーク保持装置を提供する。
【解決手段】ワーク保持装置１は、ウエハＷを吸着して保持するチャックであり、ベース２と吸着フィルム３とを備える。ベース２には、冷却水路２０やリフトピン２１が設けられている。吸着フィルム３は、接着剤４を介して、ベース２の表面２ａに貼り付けられている。かかる吸着フィルム３は、ウエハＷが接触した際に、ウエハＷをファンデルワールス力で吸着することができる表面構造と柔軟性とを有している。好ましくは、吸着フィルム３をシリコーンゴムで形成する。 （もっと読む）

【課題】ゲートの退避および閉塞移動時も含めてゲート開放状態から閉塞状態および閉塞状態から開放状態において、ゲート退避室への異物の侵入、付着を少なくする。
【解決手段】シャッタは、ゲートがゲート退避室に収納されたときに、シャッタ移動室を移動されてシャッタシール部が固定シール部に接触することによって入口を閉塞し、かつゲートがシャッタ移動室を移動されて第一のゲートシール部が固定シールに接触することによって排気口を閉塞したときに、シャッタ移動室を移動されてシャッタシール部が第二のゲートシール部に接触することによって入口を閉塞する。 （もっと読む）

【課題】絶縁層の膜厚を均一化して吸着力を向上させた静電チャックを提供する。
【解決手段】内部電極２の同心円方向に、くし型状に入り込んだ複数のスリット２１ａ，２１ｂ等を配設するとともに、半径方向に直線状に延びるスリット２３ａ，２３ｂ等が配され、同心円方向のスリット２１ａ，２１ｂ等の一端が半径方向のスリット２３ａ，２３ｂ等に繋がった構成とする。かかる電極構造により、焼結時において、電極の円周方向の膨張と半径方向の膨張の双方が吸収され緩和され、絶縁層の膜厚を均一化できる。 （もっと読む）

【課題】処理室からの処理ガスの拡散を有効に防止することができる処理方法および処理システムを提供すること。
【解決手段】真空下で被処理基板Ｗに所定のガス処理を施す処理室３１と、処理室３１を真空引きする排気装置と、処理室３１に開閉装置Ｇを介して連結され、真空下に保持される真空予備室５とを備えた処理システム１００を用い、ハロゲン含有ガスを使用して処理室３１内で被処理基板Ｗを処理後、開閉装置Ｇを開放して被処理基板Ｗを真空予備室５へ搬送するにあたり、開閉装置Ｇを開放する直前に、排気装置により処理室３１内を真空引きし、処理室３１の圧力を真空予備室５の圧力よりも小さくし、処理室３１と真空予備室５との間の差圧が一定以上になった時点で、真空引きを継続しつつ、処理室３１内に不活性ガスを供給する。 （もっと読む）

【課題】クリーニング性を向上させた静電チャックのクリーニング方法を提供する。
【解決手段】静電チャックのクリーニングを実行する際、まず、金属ベースプレートの外周面と弾性プレートの外周面とに付着した成膜残渣を研磨して除去する（研磨工程：ステップＳ１）。そして、研磨工程で研磨された金属ベースプレートと弾性プレートとを洗浄し（洗浄工程：ステップＳ２）、洗浄工程で洗浄された金属ベースプレートと弾性プレートとを脱ガスさせる（脱ガス工程：ステップＳ３）。 （もっと読む）

【課題】基板を搬送する間や基板の位置合わせを行う間にその基板の温度調整を行うこと。
【解決手段】基板の裏面に対向する基板保持面を備えた基板保持部と、各々基板の裏面を支持し、基板との摩擦力によって当該基板の前記基板保持面に対する横滑りを防止する凸部と、前記基板保持面に開口し、基板の裏面に向けてガスを吐出するガス吐出口と、その一端が前記ガス吐出口に接続されたガス流路を流通するガスを温度調整する温度調整部と、を備え、基板の裏面に吐出された前記ガスは基板保持面と基板との隙間を流れ、その隙間の圧力が低下するベルヌーイ効果により、当該基板が基板保持部へ向けて吸引されることにより基板を保持するように基板保持装置を構成する。この基板保持装置は基板搬送手段や基板位置合わせ手段にも適用することができる。 （もっと読む）

【課題】装置の省スペースを実現しつつ、基板の端面の汚染に起因した問題（欠陥の発生、トラックや露光装置へのクロスコンタミネーション等）を回避できる基板処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】基板の端面を洗浄する端面洗浄処理ユニットＥＣを備える洗浄処理部９３を、インデクサブロック９に配置する。インデクサブロック９に設けられたインデクサロボットＩＲは、カセットＣから取り出した未処理基板Ｗを、処理部である反射防止膜用処理ブロック１０に搬送する前に洗浄処理部９３に搬送する。洗浄処理部９３においては、基板Ｗの端面および裏面を洗浄する。すなわち、端面および裏面が汚れた基板Ｗが処理部に搬入されることがないので、基板の端面や裏面の汚染に起因した問題を回避できる。 （もっと読む）

【課題】高温における全放射率が高く、基板載置装置に適した窒化アルミニウム焼結体を提供し、また、高温域においても充分な熱応答性を有する低パーティクル性の基板載置装置を提供する。
【解決手段】２００℃における全放射率が６０％以上であることを特徴とする窒化アルミニウム焼結体を用いた基板載置装置。発熱抵抗体を備える基体と、前記基体の表面に形成された突起部と、を具備する基板載置装置であって、前記基体の２００℃における全放射率が６０％以上である。 （もっと読む）

【課題】半導体加工装置に配設されている静電チャック自体が環境汚染物の発生源とならず、耐食性と耐プラズマ・エロージョン性に優れた静電チャックを提供する。
【解決手段】電極層と電気絶縁層とからなる静電チャック部材の外表面に、金属酸化物の超微粒子を含み、水素含有量が１５〜４０ａｔ％であるアモルファ状炭素・水素固形物の気相析出蒸着膜を有する静電チャック部材。 （もっと読む）

【課題】搬送チャンバに配置されたロボットと、搬送チャンバの間に用いる真空シールを、高価なベローズやリップシールに替るシール構造を提供する。
【解決手段】大面積基板を真空下で搬送するためのチャンバ本体２００は、真空搬送チャンバ１０６とリフト機構２５２と、前記リフト機構に結合された真空ロボットとで構成され、前記ロボットと前記真空搬送チャンバの底部２０４の間のシールを、転動形ダイヤフラム１８０によって行い、クリーンな真空環境に寄与する。 （もっと読む）

【解決手段】フォトマスク用合成石英ガラス基板を収容、保管するプラスチック製保管ケースであって、この保管ケースに収容されるガラス基板の表面又は表面及び裏面と対向する保管ケース内面に、保管ケースから発生するアウトガス成分の吸収剤を保持する吸収剤保持部材を取り付けてなり、この保持部材に保持される吸収剤の総量（ｇ）とこの吸収剤のＢＥＴ比表面積（ｍ²／ｇ）との積Ａ（ｍ²）と、保持部材が取り付けられた保管ケースの内面に対向するガラス基板の表面又は表面及び裏面の合計面積Ｂ（ｃｍ²）との比（Ａ／Ｂ）が１．０〜１２０ｍ²／ｃｍ²であるフォトマスク用合成石英ガラス基板保管ケース。
【効果】本発明によれば、ガラス基板を長期保存しても、基板表面への化学吸着が進みにくく、これによりガラス基板にＣｒ膜等を成膜する際の成膜ムラを抑制でき、生産性の向上及び歩留まり向上につながる。 （もっと読む）

【課題】床面を覆うカバーを容易に固定できるようにすると共に、レールの基礎となるベースプレートの側部を簡単にカバーできるようにして、更に有軌道台車の走行によるパーティクルの巻き上げを少なくする。
【解決手段】クリーンルーム内の有軌道台車の走行レール８の底部の溝９を利用して、取付板１４を取り付け、取付板１４に多数の孔２４を備えた床カバー１２を取り付ける。床カバー１２の上面には一面に小径の孔２４を設けて、クリーンルーム内の空気がワッフル４から吸引されるようにする。 （もっと読む）

【課題】薄型のポッドを複数縦に積み上げる様式にてロード可能なFIMSシステムを提供する。
【解決手段】ポッドをロードする支持機構上の配置とFIMSと連通するミニエンバイロンメントとの間にトンネルを設け、FIMSドアによるポッドの蓋の保持した後のポッドからの蓋の分離が為される際のポッドの位置、蓋分離後にポッドが運ばれるウエハの挿脱可能な位置を当該トンネル内に配置することとし、ポッドから分離された蓋及びドアも当該トンネル内に付加された収容空間内に配置可能とする。 （もっと読む）

【課題】ベローズの交換を容易に行うことができる搬送装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る搬送装置Ａ１は、中央に開口１３２Ｂを有する天井壁１３を備え、天井壁１３が真空室に対して連結固定される固定ベース１と、筒部２１を有し、筒部２１が開口１３２Ｂから出没するように固定ベース１に昇降可能に支持された昇降ベース２と、昇降ベース２に搭載され、水平面内の移動行程に沿ってワークを移動させる直線移動機構６と、筒部２１を取り囲むように配置され、天井壁１３および昇降ベース２に対して端部が取り付けられてこれらの間を気密シールする筒状のベローズ１４と、を備え、天井壁１３は、第１部分１３１および環状の第２部分１３２を含み、第１部分１３１が上記真空室に対して連結固定される一方、第２部分１３２が第１部分１３１に対して分離可能に連結され、第２部分１３２にベローズ１４の一端部が取り付けられている。 （もっと読む）

【課題】基板表面へのパーティクルの付着低減、スループットの向上を図れるようにした基板搬送処理装置を提供すること。
【解決手段】ウエハＷを収容するフープ１の搬入・搬出部Ｓ１と、複数の処理ユニットＵ１，Ｕ２，Ｕ３を有する処理部Ｓ２と、搬入・搬出部と処理部とを接続するインターフェース部Ｓ３に配設され、フープに対してウエハを搬出及び搬入する搬出・搬入アーム２と、処理部とインターフェース部との間に配設され、搬出・搬アームとの間でウエハを受け渡しする基板受け渡し部３と、処理部内に配設され、各処理ユニットに対してウエハを搬入・搬出する主搬送アーム４と、を具備する基板搬送処理装置において、搬出・搬入アームは、ウエハの裏面を吸着保持する吸着保持部と、ウエハの表裏面を反転する反転機構を具備する。基板受け渡し部、主搬送アーム及び処理ユニットは、それぞれウエハの裏面を吸着して保持する吸着保持部を具備する。 （もっと読む）