【課題】基板の破損や汚染のおそれを低減し、輸送効率を向上させ、基板を容易に出し入れすることのできる基板支持枠及び基板収納容器を提供する。
【解決手段】ベース体１０に中空の基板支持枠３０を着脱自在に積層配置し、各基板支持枠３０には、半導体ウェーハＷを支持する複数の支持部３２を間隔をおき配設した基板収納容器で、各支持部３２を、基板支持枠３０からその中空方向に指向する指向段差片３５と、この指向段差片３５に形成されて半導体ウェーハＷを水平に支持する支持棚３６と、指向段差片３５を貫通した可撓性の抑え片４０を基板支持枠３０の中空方向に突出させ、かつ支持棚３６の下方に徐々に接近するよう傾けて位置させる基板抑え３８とから構成する。 （もっと読む）

【課題】パーティクルの発生を抑制するとともに交換部品及び交換回数の低減を図ることができる真空処理装置及び基板搬送装置並びに成膜方法を提供する。
【解決手段】基板搬送装置２は、基板Ｇを垂直姿勢で保持して、搬送レール６上を搬送可能なキャリア部材４を備えており、キャリア部材４に取付けられたキャリア側ガイドマグネット１５，１６，１７，１８が、搬送レール側６に取付けられたレール側ガイドマグネット２１，２２，２３，２４から水平方向の斥力を常時受けることで、キャリア部材４は左右の搬送レール６側と非接触状態で移動できる。また、レール側ガイドマグネット２１，２３を、搬送空間Ｔとプロセス空間Ｐとの境界部分に配置することでパーティクルの除去を行う。 （もっと読む）

【課題】基板搬送装置には、搬送時の振動等による半導体基板およびこれを保持する基板ホルダの脱落を防止する機構が必要となる。しかし、脱落防止機構の駆動は発塵の原因となる。
【解決手段】基板を保持する基板ホルダを搬送する基板搬送装置は、基板ホルダを載置する載置部と、載置部に載置された基板ホルダが保持する基板に対して、載置部と同じ側に配置された回転軸と、回転軸の軸周りに回動して、基板ホルダの脱落を防止する防止位置と、基板ホルダを開放するための開放位置を取り得る開閉ロック機構と、載置部、回転軸および開閉ロック機構を一体的に上下反転させる反転部とを備える。 （もっと読む）

【課題】キャリアとベアリングとの耐摩耗性を向上させることによって、生産性の更なる向上を可能としたインライン式成膜装置を提供する。
【解決手段】キャリア４に保持された基板Ｗを複数のチャンバの間で順次搬送させながら成膜処理を行うインライン式成膜装置であって、キャリア４を非接触状態で駆動する駆動機構２０と、駆動機構２０により駆動されるキャリア４をガイドするガイド機構２１とを備え、ガイド機構２１は、キャリア４に設けられたガイドレール２９に係合された状態で、駆動機構２０により駆動されるキャリア４を鉛直方向にガイドする主ベアリング２８と、キャリア４を挟み込んだ状態で、駆動機構２０により駆動されるキャリア４を水平方向にガイドする副ベアリング３０とを有して、これらベアリング２８，３０とキャリア４との何れかの接触面に、コルモノイ系合金による耐摩耗処理が施されている。 （もっと読む）

【課題】容器本体に対する蓋体の固定力の低下を生じることなく、常に安定した開閉作業を行なうことができる精密基板収納容器を提供する。
【解決手段】上面が開口して内部に精密基板を収納する容器本体２と、容器本体２の開口部２０に被せられる蓋体３とを具備し、容器本体２の開口内周縁にカム挿入口２０ｂが設けられ、蓋体３には蓋閉じ時に前記カム挿入口２０ｂに対向する側壁面に貫通孔３１が設けられ、貫通孔３１から出没する締め付け用カム５が設けられた精密基板収納容器１であって、締め付け用カム５のカム軸部４６（回転軸中心）の外側には、締め付け用カム５が貫通孔３１から出た際に、締め付け用カム５の底面５１ａに線接触し、貫通孔３１内に納まった際には接触解除されるリブ４１が設けられたものである。また、リテーナ２３の載置面２３１に精密基板１０との接触面積を減らす凸部２３１ａを設けたものである。 （もっと読む）

【課題】がたつきなどを防止して摩擦による発塵を防止することができる精密基板収納容器と、その製造方法とを提供する。
【解決手段】内部に精密基板５を収納する容器本体２と、容器本体２の開口部に被せられる蓋体３とを具備し、容器本体２の底面に、精密基板５を保持するリアリテーナ４が設けられた精密基板収納容器１であって、容器本体２は、ポリカーボネート樹脂からなり、底面のリアリテーナ固定部から、複数の貫通孔を有する固定片が突設され、リアリテーナ４は、サーモプラスチックエラストマーからなり、この固定片を被覆し、貫通孔に成形樹脂が回り込んで固定片と一体化した状態でリアリテーナ固定部に設けられたものである。リアリテーナ４のＶ溝４１の溝底に支持溝４１０が設けられたものである。リテーナの載置面に、精密基板５との接触面積を減らす凸部２３１ａが設けられたものである。 （もっと読む）

【課題】ウェハの均一な温度分布を実現するのに有効なサセプタと、スリップの発生を低減しつつ、均一な膜厚の膜を成膜することのできる成膜装置とを提供する。
【解決手段】サセプタ１０２は、シリコンウェハ１０１の外周部を支持するリング状の第１のサセプタ部１０２ａと、第１のサセプタ部１０２ａの外周部に接して設けられ、第１のサセプタ部１０２ａの開口部分を遮蔽する第２のサセプタ部１０２ｂとを有する。第２のサセプタ部１０２ｂは、シリコンウェハ１０１が第１のサセプタ部１０２ａに支持された状態でシリコンウェハ１０１との間に所定の間隔Ｈの隙間２０１が形成されるように配置されるとともに、第１のサセプタ部１０２ａとの間にも隙間２０１に連続し且つ所定の間隔Ｈと実質的に等しい間隔Ｈ’の隙間２０２が形成されるように配置される。 （もっと読む）

【課題】軟Ｘ線領域等の短波長を使用して形成される、より集積度の高い新世代の半導体回路の製造工程で使用されるマスクの運搬時及び保管時において、マスク表面に貼り付けるペリクル膜の使用を不要にすると共に、塵、埃、静電気、及びガスの発生を防止すること。
【解決手段】本発明のマスクケースは、マスク１０を収容する内ケース上部１及び内ケース下部２と、この内ケースを運搬中に振動を防止するための上緩衝材３，下緩衝材４と、全体を収納する出荷ケース上部５及び出荷ケース下部６と、を備えて構成する。内ケース上部１の左右両端には、内ケース下部２を係合するための留め具（クリップ）１１を取り付ける。内ケース下部２の上面周辺部には、マスク１０の下面周辺部と係合するパッキン２１を取り付ける。内ケース上部１の平板部には、該平板部を貫通するガス抜き穴１２を設ける。ガス抜き穴１２の下部には、ガスを吸着できる吸着膜を貼り付ける。 （もっと読む）

【課題】基板表面の不純物による汚染を防止するために基板の搬送環境を整える。
【解決手段】基板を予備室１から搬送室３を介して処理室２に搬送する工程と、処理室内で基板を処理する工程と、処理済基板を処理室２から搬送室３を介して予備室１に搬送する工程とを有し、基板を搬送する各工程では、基板の存在する室に連通する室の全てに対して、不活性ガスを供給しつつそれぞれの室に接続された排気系の全てより真空ポンプを用いて排気する。 （もっと読む）

【課題】搬送室の剛性を高くすることができる搬送モジュールを提供する。
【解決手段】内部を真空にすることが可能な搬送室１４に開閉可能に蓋２２を設ける。搬送室１４内にロボット１２を搭載する。ロボット１２は、被処理体Ｗを搬送する機構の一部に中空の回転軸３６，３７を有する。ロボット１２の中空の回転軸３６，３７内には、閉じた状態の蓋２２を支える柱２８が配置される。大気圧によって蓋２２に作用する荷重を柱２８が負荷するので、蓋２２の肉厚を薄くすることができ、製造コストの削減を図れる。しかも、ロボットが被処理体Ｗを回転軸３６，３７の回りを旋回させたり、放射方向に移動させたりする際、柱２８が邪魔になることもない。 （もっと読む）

【課題】 吸着部と隔離部との間の接合がより強い真空吸着部材を提供する。
【解決手段】 真空吸着部材（１）は、多孔質材料をそれぞれ含んだ複数の吸着部（３ａ，３ｂ）と、複数の吸着部（３ａ，３ｂ）の間に設けられる隔離部（４）とを備える。隔離部（４）は、少なくとも一部が吸着部の孔部内に入り込むことにより複数の吸着部（３ａ，３ｂ）に接合されている。真空吸着装置は、この真空吸着部材（１）と複数の吸着部（３ａ，３ｂ）を支持するとともに、内部に複数の吸着部（３ａ，３ｂ）に対応する複数の吸引孔（６）を有する支持部（５）を有する。 （もっと読む）

【課題】安価で単純な機構で脆性物にストレスを与えず短いサイクルタイムで位置決めする脆性物位置決め装置を提供すること。
【解決手段】脆性物位置決め装置は、脆性物３０を支持する第１の球状駆動伝達手段１及び第２の球状駆動伝達手段２と、Ｘ軸Ｙ軸に対応して互いに９０°離れて並び各々第１，第２の球状駆動伝達手段１，２に加圧接触して回転力を付与する第１組、第２組のＸ軸駆動ローラー３，５及びＹ軸駆動ローラー４，６と、脆性物３０の縁部の接触または接近を検出して出力する複数の検出手段１１〜１６と、Ｘ軸駆動ローラー３，５及びＹ軸駆動ローラー４，６の回転量を制御して、脆性物３０のＸ軸、Ｙ軸方向の移動及びＺ軸回りの回転の複合動作を行う制御手段２０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】純物濃度が均一な半導体膜を化学気相成長により基板上に形成する化学気相成長半導体膜形成装置を提供する
【解決手段】サセプタ１は、ウェハ載置部１１及び固定突起１３により構成されている。ウェハ載置部１１の上面は、平面状に構成されている。ウェハ載置部１１の上面は、ＳｉＣウェハを載置するための載置面Ｐ１として機能する。固定突起１３は、各ＳｉＣウェハの外周面ＳＰ１〜３に沿うように３カ所に配置されている。これにより、サセプタ１では、従来のサセプタのようなザグリを設けなくとも、固定突起１３によって各ＳｉＣウェハを所定の位置に固定できる。従って、ザグリとＳｉＣウェハとの間に隙間が形成され、当該隙間によって原料ガスの流れが乱されるということがなくなる。よって、不純物濃度が均一な炭化珪素膜をＳｉＣウェハ上に形成できる。 （もっと読む）

【課題】フリーボールベアリングからチャンバ内への粉塵の飛散を防止することができ、しかも受け球を押さえ込んで主球の回転抵抗を増大させるための受け球押さえリングの移動抵抗を、グリスを使用しないノングリス方式にて低く抑えることができる技術の提供。
【解決手段】本体２０の球受け部２３の半球状凹面２１と主球４２との間に挿入して受け球４２を押さえ込むことで主球４２の回転抵抗を増大させるリング状の押さえ片５５を有する受け球押さえリング５０を内蔵するフリーボールベアリング１１０を台板８９ａに固定し、受け球押さえリング５０に固定されたロッド６２を移動して受け球押さえリング５０を待機位置から受け球押さえ位置に移動する押さえ用駆動装置７０が台板８９ａの裏面側に設けられているベアリングユニット、フリーボールベアリング１１０、支持テーブル、搬送設備、ターンテーブルを提供する。 （もっと読む）

【課題】載置ずれや変形を生じさせることなく基板をの受け渡すことができる基板保持装置、ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法を提供するしを行うこと。
【解決手段】基板を保持する基板保持装置９は、基板が載置される複数の基板載置部３１と、複数の基板載置部３１を区画する凹部３０と、凹部３０と載置部３１の背部空間とを連通させる複数の連通孔４０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】部材から発塵する異物を低減し、生産効率の向上が図れるようにした真空処理置を提供すること。
【解決手段】真空搬送室１３０にエッチング室１４０とアッシング室１５０を備えた真空処理装置において、真空容器の内面に熱収縮シートによる被膜を備えたものを真空搬送室１３０として用い、マイクロクラックによる異物の発生を抑え、生産効率の向上が図れるようにした。 （もっと読む）

【課題】優れた気密効果を具備したウェーハキャリアを提供する。
【解決手段】開口を形成する一側面を有し、複数個のウェーハを収納可能な複数個のスロットが内部に設けられた筐体を含み、ドアを利用して前記筐体の開口と結合してその内部のウェーハを保護する。筐体は、開口の内縁に磁性体が配置され、ドアの内面の磁性体に対抗する箇所に、断面が凹形を呈する導磁体中に設けられた磁石が配置されていることを特徴とする。これによって、ドア上の磁石が筐体の開口箇所の磁性体を吸引し、ドアを筐体にロックして一体化する。 （もっと読む）

【課題】磨耗量低減、汚染防止、アライメント精度向上、又は飛び出し防止の機能を備えた基板保持部材、基板搬送アーム及び基板搬送装置を提供する。
【解決手段】基板搬送装置の基板搬送アームに取り付けられ、基板の周縁を載置して基板を保持する基板保持部材４であって、基板の裏面に当接して基板を保持する裏面保持部５と、基板の端面に当接する端面当接部６とを有する。端面当接部６は、Ｒ形状を有し、基板の端面に当接して基板のずれを規制するＲ形状部８と、Ｒ形状部８の上方側に設けられ、庇状に形成されたオーバーハング部８１とを含む。 （もっと読む）

【課題】本発明の態様は、かかる課題の認識に基づいてなされたものであり、被処理物を載置する側に形成された樹脂層の剥離抑制効果を向上させることができる静電チャックおよび静電チャックの製造方法を提供する。
【解決手段】誘電体基板と、前記誘電体基板の第１の主面に開口する貫通孔の開口部分に形成された第１の面取り加工部と、前記第１の主面に形成され、前記貫通孔が開口する位置に開口部を有する樹脂層と、を備え、前記樹脂層の開口部の周端は、前記第１の面取り加工部に形成されていること、を特徴とする静電チャックが提供される。 （もっと読む）

【課題】ワーク自体や粉塵等を吹き上げることなく、ワークを浮上させる。
【解決手段】非接触ワーク支持装置１０は、開口部１２Ｅが上方に向けられたハウジング１１を備える。圧力気体を供給流路１９を介してハウジング１１内部に送る。ハウジング１１内部において、圧力気体は、螺旋流路形成部１２Ｂの螺旋流路、縮径部１２Ｃ、円筒状の螺旋流形成部１２Ｄを通って、開口部１２Ｅから旋回気流として噴出する。螺旋気流は、ワークＷの下面に作用されて、ワークＷを浮上させる。 （もっと読む）