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Fターム[5F038CA10]の内容

半導体集積回路 (75,215) | レイアウト (7,547) | チップ平面上でのレイアウト (5,921) | 電極パッド配置 (1,058)

Fターム[5F038CA10]に分類される特許

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【課題】ESD保護回路の面積を増大させることなく、サージに対する耐性に優れた半導体集積回路を実現する。
【解決手段】半導体集積回路は、互いに隣接する入出力セル1及び入出力セル2間には、アノードが入出力端子3に接続され、且つ、カソードが入出力端子7に接続されたサイリスタ13と、カソードが入出力端子3に接続され、且つ、アノードが入出力端子7に接続されたサイリスタ14とが構成されている。 (もっと読む)


【課題】ボンディングワイヤのループインダクタンスを低減した半導体パッケージを提供する。
【解決手段】所定の方向に交互に配置された信号用パッドおよび補助パッドのそれぞれが複数設けられた半導体装置と、信号用ボンドフィンガー、電源電圧用ボンドフィンガーおよび接地電位用ボンドフィンガーのそれぞれが複数設けられたパッケージ基板と、を有する。複数の信号用パッドのそれぞれが複数の信号用ボンドフィンガーのそれぞれと第1のワイヤを介して接続され、複数の電源電圧用ボンドフィンガーおよび複数の接地電位用ボンドフィンガーのそれぞれが複数の補助パッドのそれぞれと第2のワイヤを介して接続されている。第1のワイヤが、電源電圧用ボンドフィンガーに接続された第2のワイヤと接地電位用ボンドフィンガーに接続された第2のワイヤとの間に配置されている。 (もっと読む)


【課題】様々なオン抵抗の素子を容易に製造することができる半導体装置、半導体集合部材及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態に係る半導体装置は、素子部と、第1の電極部と、第2の電極部と、延出部と、を備える。素子部は、基板に設けられる。第1の電極部は、素子部の上に設けられ、素子部と導通する。第2の電極部は、素子部の上において第1の電極部と離間して設けられ、素子部と導通する。延出部は、素子部の上に設けられ、第1の電極部及び第2の電極部の周縁部から基板の周縁部に向けて延出して設けられる。 (もっと読む)


【課題】異なる電位に対応する複数の外部電源配線間に間隔部分を有する半導体装置に対して,所定電源ピン数のテスタにより短絡試験を行う場合において,より多くの半導体装置の短絡試験を同時に行うことができる半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置は,コア回路と,該コア回路の周囲に配置され且つコア回路と外部装置間の信号を入出力する複数の入出力回路と,複数の入出力回路のうちの第一の入出力回路グループに第一の電位の電源を供給する第一の電源配線と,複数の入出力回路のうちの第二の入出力回路グループに第二の電位の電源を供給し且つ第一の電源配線と間隔をあけて直列に延びる第二の電源配線と,第三の電位の電源を供給する第三の電源配線とを備え,第三の電源配線から延びる配線パターンが,第一の電源配線と第二の電源配線間の間隔部分に設けられる。 (もっと読む)


【課題】 ウエハ内にテスト専用チップを設けることなく、一度に測定できるチップ数を増加させてテスト時間の短縮化を図る。
【解決手段】 複数の半導体チップ11が形成された半導体ウエハ10と、複数の半導体チップ11の各々に形成された複数のボンディングパッド12と、複数のボンディングパッド12の各々に設けられた双方向バッファ20と、複数の半導体チップ11の双方向バッファ20を共通に接続する共通バス21を有する半導体装置のテスト方法である。複数の半導体チップの中からベース半導体チップ13を予め選択し、ベース半導体チップ13のボンディングパッド12にプローブ針を接触させ、複数の半導体チップ11に対して共通バス21を介して信号を供給し、複数の半導体チップ11の電気的特性を測定する。 (もっと読む)


【課題】 カップリングノイズを低減すること。
【解決手段】 半導体装置は、第1の回路と、第2の回路と、第1の配線と、一対のシールド線とを含む。第1の回路は、所定電圧を発生する電圧発生回路を含み、所定電圧を出力端に出力する。第1の配線は、第1の回路の出力端を第2の回路の入力端に結線する。一対のシールド線は、第1の配線を挟むように配置され、一方には電圧発生回路および第2の回路の少なくとも一方を駆動する電源電位が供給され、他方には電圧発生回路および第2の回路の少なくとも一方を駆動する接地電位が供給される。 (もっと読む)


【課題】出力バッファのスイッチングに伴う電源ノイズがストローブ出力バッファに伝搬することを防止する。
【解決手段】データ信号DQ0を出力するデータ出力バッファOB0と、データ出力バッファOB0に電源電位VDDQを供給する電源パッド110v1と、電源パッド110v1に接続される電源配線120v1と、ストローブ信号DQSを出力するストローブ出力バッファOBdqsと、ストローブ出力バッファOBdqsに電源電位VDDQを供給する電源パッド110v2とを有し、電源配線120v1と電源パッド110v2は、互いに電気的に独立している。これにより、データ出力バッファOB0のスイッチングに伴う電源ノイズがストローブ出力バッファOBdqsに伝搬しないことから、ストローブ信号DQSの信号品質を高めることが可能となる。 (もっと読む)


【課題】内部回路の動作時における電源ノイズの影響を抑え、少ピン化および小面積化を実現する半導体装置を提供することである。
【解決手段】第1の内部回路102に対する電源線PL1と第2の内部回路104に対する電源線PL2とは共通のピン端子30aに接続され、第1の内部回路102に対する接地線SL1と第2の内部回路104に対する接地線SL2とは共通のピン端子30bに接続される。第1の内部回路102の動作時に電源線PL1上に発生した電源ノイズは、電源線PL1に介挿され、ゲートが接地線SL1に接続されたPチャネルMOSトランジスタP1および電源線PL1および接地線SL1の間に設けられたキャパシタC1により吸収される。接地線SL1上に発生した電源ノイズは、接地線SL1に介挿され、ゲートが電源線PL1に接続されたNチャネルMOSトランジスタN1およびキャパシタC1により吸収される。 (もっと読む)


【課題】信号配線リソースを確保しながら、チップ中心部のIRドロップを少なくすることのできる半導体集積回路および電源配線方法を提供する。
【解決手段】実施形態の半導体集積回路は、チップ内に等間隔で配線される下層電源配線1と直交する方向に所定の間隔で配線される上層電源配線が、下層電源配線との接続用のビア3が配線中央部にのみ配置された上層電源配線2Aと、配線中央部を除く領域に上層電源配線2Aへの配置個数よりも多数のビア3が配置された上層電源配線2Bとの対により構成され、上層電源配線2Aの上層電源配線2Bに対する配線幅の比が、配線中央部を除く領域では、上層電源配線2Aの上層電源配線2Bに対する供給電流比の逆数であり、配線中央部では、供給電流比の逆数よりも大きい。 (もっと読む)


【課題】外部電源電圧を降圧するレギュレータを内蔵することによるチップ面積の増大を抑え且つ降圧電圧の安定化を実現できる半導体集積回路を提供する。
【解決手段】外部電源電圧(Vext)よりも低い内部電源電圧(Vint)で動作する内部回路を持つ半導体集積回路において、内部電源電圧を生成するレギュレータ(150〜157)を、バッファ及び保護素子を配置するための第2の領域(2)に配置することにより、降圧電源回路のオンチップ化による面積オーバヘッドを低減する。降圧電圧を伝達するループ状の電源幹線(L20)を用い、電源幹線に外付け安定化容量を接続するための電極パッドを設ける等により、低消費電力を更に促進する。 (もっと読む)


【課題】入力回路ブロックの入力配線と出力回路ブロックの出力配線を短くする。
【解決手段】半導体集積回路装置30において、入力回路ブロック32用の外部接続用電極P2及びP3は、入力回路ブロック32と出力回路ブロック33との間に複数配置されており、出力回路ブロック33用の外部接続用電極P1及びP4は、出力回路ブロック33とリード電極34及び35との間に複数配置されており、金属細線Wb1及びWb2を介して外部接続用電極P1及びP2に接続されるリード電極34と、金属細線Wb3及びWb4を介して外部接続用電極P3及びP4に接続されるリード電極35は、いずれも、入力回路ブロック32、外部接続用電極P2及びP3、出力回路ブロック33、外部接続用電極P1及びP4、リード電極34及び35の順に配置された方向と平行する方向に複数配置されている。 (もっと読む)


【課題】電流検出精度が低下することを抑制することができる半導体装置を提供する。
【解決手段】メインTr2のゲート電極およびセンスTrのゲート電極をゲート電圧を印加する共通のゲート端子と接続する。そして、センスTr3にはゲート端子からそのままゲート電位が印加されると共に、メインTr2にはセンスTr3に印加されるゲート電位が第1、第2抵抗31、32によって抵抗分割された電位が印加され、メインTr2のゲート−ソース間電圧と、センスTr3のゲート−ソース間電圧とが等しくなるようにする。 (もっと読む)


【課題】アナログオプション回路を備えた半導体集積回路(A/D変換)を構成する抵抗を、簡便かつ大面積を専有されることなく作成する製造方法、及びその製造方法により作成されるAD変換回路を提供する。
【解決手段】高電源の電圧と低電源の電圧との間に直列に接続された複数個の抵抗からなるストリング抵抗を備えた基準電圧発生部と、入力アナログ電圧値と前記抵抗間の接続点の分圧電圧値とを比較する電圧比較部とを含むA/D変換回路において、
前記抵抗が有機材料で形成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】寄生容量が回避できないSi半導体基板上に集積回路と一緒に製造するオンチップアンテナにおいて、その周波数特性をウエハプロセス製造工程後に自在に所望値へ制御する。
【解決手段】Si半導体基板に対して第1のプロセスで形成される集積回路部及びアンテナ部を備える半導体装置において、該アンテナ部の周波数特性を調整する方法であって、アンテナ部と集積回路部との間に非連続的な複数の導線パターンを前記第1のプロセスにおいて形成し、第1のプロセスの終了後に、複数の導線パターンの一部又は全部を選択して、選択した前記導線パターンが直列的となるようにボンディングワイヤを懸架する。 (もっと読む)


【課題】入出力端子と半導体スイッチとの間を接続する配線同士が交差する箇所が発生しても、端子間のアイソレーション特性を向上させつつ、サイズ及びコストを抑制可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体スイッチ回路(20)は、複数の入力端子(31,32)のうち任意の入力端子を配線層(51)又は再配線層(251)を介して複数の出力端子(41〜44)のうち任意の出力端子と接続させるように構成される。複数の入力端子及び複数の出力端子のうち、ある端子と半導体スイッチ回路との間を接続する配線と、他の端子と半導体スイッチ回路との間を接続する配線とが交差している箇所において、交差する配線のうち、一方の配線を配線層とし、他方の配線を再配線層とする。 (もっと読む)


【課題】シリコン以外の半導体で形成される半導体素子で使用可能なTEGを有する半導体装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】SBD部2aと、SBD部2aの電気特性を測定するためのTEG部3aと、を備えた半導体装置1aであって、SBD部2aは、n型のSiCドリフト層8と、SiCドリフト層8上に、SiCドリフト層8の表面9と接触して形成された第1のショットキー電極13と、を有し、TEG部3aは、SiCドリフト層8の表面9を含む箇所に形成されたp型のイオン注入層18aと、SiCドリフト層8上に、SiCドリフト層8の表面9と接触して形成された第2のショットキー電極21aと、第2のショットキー電極21aと電気的に接続され、SiCドリフト層8とは接触しないようにイオン注入層18a上に形成された電極パッド22と、を有する (もっと読む)


【課題】テストコストを増大させることなく、オープン不良を検出することができる半導体装置、これを試験するための半導体テスタおよびこの半導体テスタを用いた半導体テストシステムを実現する。
【解決手段】内部回路の出力ピンと電気的に接続された複数のパッドを有する半導体装置において、一端が共通電位に接続され、他端がパッドに接続された第1のスイッチ回路と、内部回路の出力ピンとパッドの間に設けられ、第1のスイッチ回路が接続されたパッドと試験時に半導体テスタのテスタピンが接続されるパッドとを電気的に接続するマルチプレクサとを備える。 (もっと読む)


【課題】バイパスキャパシタは、半導体基板上に形成される半導体装置と一体化されて形成されているが、半導体装置の製造工程が複雑になると言う欠点がある。
【解決手段】バイパスキャパシタをシート状にモジュール化して、半導体装置に対して外付けできるように構成されたバイパスキャパシタモジュールが得られる。 (もっと読む)


【課題】モータ制御用半導体装置に対するコンタクト用ピンからの影響を低減する
【解決手段】ホール素子102からの出力のオフセット電圧を取り除くオフセットキャンセル回路104に含まれるオシレータ回路12と、オフセットキャンセル回路104からの出力信号を受けて、当該出力信号と基準信号とを比較して比較信号を生成して出力するコンパレータ回路106と、モータを駆動するための駆動信号を生成して出力する出力回路110と、モータの制御に関係しないテスト回路112と、を有し、オシレータ回路12の回路パターン上、コンパレータ回路106の回路パターン上、及び、テスト回路112の回路パターン上のいずれか1つに重なるようにパルス幅変調信号の入出力パッドP1を形成する。 (もっと読む)


【課題】プローブ跡を除去でき、かつ、製造コストが増加することを抑制できる半導体装置及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】この半導体装置は、回路が形成された基板100と、この基板100上に形成され、表面に保護絶縁膜300が形成された多層配線層と、この多層配線層の最上層の配線層に位置し、上記回路に接続し、かつ、表面が保護絶縁膜と略同一面となっている電極パッド200と、を備える。また、このような半導体装置の製造方法は、回路が形成された基板100上に、この回路に接続し、かつ、保護絶縁膜300から突出した突出部201を有する電極パッド200を形成する工程と、プローブ端子500を電極パッド200に接触させることにより、回路の動作テストを行う工程と、突出部201の少なくとも表面を研磨する工程と、有する。 (もっと読む)


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