【課題】セルベース設計において複数の記憶素子セルが配置される構成において、効率的に且つ確実に複数ビットのソフトエラーの発生を抑制することが可能なセルの配置構造を提供する。
【解決手段】回路素子セルの配置構造は、第１の方向に延展するセル配置列上に並べられた複数の記憶素子セルと、複数の記憶素子セルの各々の領域において第１の方向に垂直な第２の方向に並べられた第１のＮウェル及び第１のＰウェルと、複数の記憶素子セルのうち少なくとも２つの互いに隣接する記憶素子セルの間に設けられ、セル配置列の幅に亘る長さを各々が有する第２のＮウェル及び第２のＰウェルとを含み、第１のＮウェルと第２のＮウェルとは一体であり、第１のＰウェルと第２のＰウェルとは一体である。 （もっと読む）

【課題】半導体集積回路の面積を増大させることなく、配線性のよいテスト専用回路の電源遮断を実現する半導体集積回路を提供する。
【解決手段】テスト実行時のみ動作するテスト専用回路を有する半導体集積回路１であって、当該半導体集積回路１の内部回路領域（内部制御回路部１００）に電源を供給する通常電源（通常動作用電源）１０４と、当該内部回路領域の全面にメッシュ状に配線され、テスト専用回路に電源供給するテスト用電源１０３と、テスト用電源１０３と通常電源１０４とを接続及び遮断して、通常電源１０４からテスト用電源１０３への電源供給を制御する電源遮断スイッチ１０９と、を備える。 （もっと読む）

【課題】チップサイズの増大を抑制できる半導体集積回路装置のレイアウト設計方法を提供する。
【解決手段】外部電源電圧が供給される第一電源線と第一電源線にスイッチとなる第二電源ドライバを介して接続される第二電源線とを備えた、ＳＣＲＣ方式を採用した半導体集積回路装置において、第二電源ドライバのレイアウト面積の増大を抑制するために、半導体集積回路装置の全回路を機能別回路に分割し、機能別回路領域毎に、ＳＣＲＣ方式による制御対象の回路であるＳＣＲＣ使用動作回路のトランジスサイズに応じて第二電源ドライバとして用いるＭＯＳトランジスタのサイズを決定する。 （もっと読む）

【課題】チップ面積の増大を抑制しつつ、ダミー配線パターンの配置にかかる工数を低減する。
【解決手段】レイアウト設計方法は、レイアウト設計装置が、レイアウト領域に対して、半導体集積回路の配置配線（Ｓ１）を行った後、レイアウト領域に配置されているバルクセルを抽出し（Ｓ２）、レイアウト領域において、抽出したバルクセルの周囲に、所定の大きさを備える空き配線領域が存在するかどうかを検索し（Ｓ３）、検索の結果、所定の大きさを備える空き配線領域を検出した場合、抽出したバルクセルの座標を基準にして、検出した空き配線領域にダミー配線パターンを配置（Ｓ４）する。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の電流による配線破壊箇所の予測方法において、解析時間を短縮する。
【解決手段】下層配線１４Ａ，１４Ｂをそれぞれ一つの直列抵抗で、第１の下層ビア１５Ａ，第２の下層ビア１５Ｂを１個の抵抗で、第１の上層ビア１７Ａ、第２の上層ビア１８Ｂを１個の抵抗で、第１及び第２の上層配線１６Ａ，１６Ｂを抵抗ブリッジ回路で、パワートランジスタＴＲを直列抵抗で、それぞれモデリングしてなる解析モデルをモデリング用計算機により生成する。回路シミュレータ３により、解析モデルにおけるパワートランジスタＴＲに電流を供給し、解析モデルにおける各抵抗に流れる電流に基づいて、第１及び第２の下層配線１４Ａ，１４Ｂ、第１及び第２の上層配線１６Ａ，１６Ｂにおける各抵抗の電流密度を計算し、各抵抗の電流密度と、配線破壊を起こす電流密度閾値とを比較器４により比較することにより、配線破壊箇所を予測する。 （もっと読む）

【課題】より多くのＩ／Ｏセルを配置することができるようにする。
【解決手段】多層配線層には、電位供給用接続配線２３０が設けられている。電位供給用接続配線２３０は、平面視で外周セル列２０を構成するＩ／Ｏセル２００のいずれか、および内周セル列３０を構成するＩ／Ｏセル２００のいずれかと重なっている。そして電位供給用接続配線２３０は、外周セル列２０の下方に位置する電源電位供給配線２２２を、内周セル列３０の下方に位置する電源電位供給配線２２２に接続するとともに、外周セル列２０の下方に位置する接地電位供給配線２２４を、内周セル列３０の下方に位置する接地電位供給配線２２４に接続している。 （もっと読む）

【課題】チップサイズを縮小する。
【解決手段】レイアウト設計方法は、レイアウト設計装置が、半導体集積回路のレイアウト設計を階層別に行う階層レイアウト設計における上位階層において、上位階層の下の階層で配置配線が行われる所定の機能を備えた階層ブロックが配置される領域であって、空きユニットセル配置領域３と階層ブロック用のユニットセル配置領域４とを含む階層ブロック配置領域２を、チップ領域１に設定し、チップ領域１における階層ブロック配置領域２を包囲する周辺領域５のユニットセル配置領域、および、階層ブロック配置領域２内の空きユニットセル配置領域３を用いて、配置配線を行う。 （もっと読む）

【課題】半導体集積回路装置において、レイアウトの面積効率の低下を抑制可能となる、マルチハイトセルのレイアウト構造を提供する。
【解決手段】標準論理セル１０は、電源配線または接地配線となるメタル配線１２を共有するようにＹ方向に隣接して配置された第１および第２回路領域Ａ１，Ａ２を備えている。Ｘ方向において、第１回路領域Ａ１の両端部の位置ｘ１ａ，ｘ１ｂと第２回路領域Ａ２の両端部の位置ｘ２ａ，ｘ２ｂとは、少なくともいずれか一方が異なっている。すなわち、標準論理セル１０の外形形状ＣＦは、第１および第２回路領域Ａ１，Ａ２の外形形状が矩形であるにもかかわらず、非矩形となっている。 （もっと読む）

【課題】半導体集積回路の設計ＴＡＴを短縮する。
【解決手段】本発明による半導体集積回路の設計方法は、コンピュータ装置１０によって実行される半導体集積回路の設計方法であって、論理セル５００と配線セル４００をチップ上に配置するステップと、論理セル５００内のゲート５０５に対するアンテナルール１２２を配線セル４００の第１アンテナ用ライブラリ１０１に追加することで、第１アンテナ用ライブラリ１０１を第２アンテナ用ライブラリ２０１に変更するステップと、配線セル４００と他の論理セル５１０を第１配線５５０で接続するステップと、第２アンテナ用ライブラリ２０１に規定されたアンテナルール１２２に従い、ゲート５０５の面積に対する前記第１配線５５０の面積の比を検証する第１検証ステップとを具備する。 （もっと読む）

【課題】多層配線構造を有する半導体装置にダミーパタンを配線空隙に効率よく製造容易的に形成する。
【解決手段】多層配線構造の半導体装置において、狭い配線空隙（Ａｒｅａ＿Ｓ１）に、広い配線空隙（Ａｒｅａ＿Ｓ２）に形成されたダミーパタン（２２，２３）と異なる向きのダミーパタン（２１）が形成されている。 （もっと読む）

【課題】電力消費および面積要件の低減がもたらされる、スキャンテスト回路を有する集積回路を提供すること。
【解決手段】集積回路は、スキャンテスト回路と、スキャンテスト回路を使用してテストを受ける追加回路とを備える。スキャンテスト回路は、複数のスキャンセルを有する少なくとも１つのスキャンチェーンを備え、スキャンチェーンは、スキャンシフト動作モードではシリアル・シフトレジスタとして動作し、機能動作モードでは追加回路の少なくとも一部分からの機能データを捕捉するように構成される。スキャンチェーンのスキャンセルの少なくとも所与の１つは、スキャンシフト動作モードではスキャンセルの機能データ出力をディスエーブルし、機能動作モードではスキャンセルのスキャン出力をディスエーブルするように構成された出力制御回路を備える。 （もっと読む）

【課題】少ない工数で、短期間に集積回路装置のレイアウト設計が可能な集積回路装置のレイアウト方法、レイアウト装置、プログラム及び情報記憶媒体等を提供する。
【解決手段】マクロセルを用いた集積回路装置のレイアウト方法は、配置位置の変更が可能な第１のマクロセル又は該第１のマクロセルの第１の電源配線とチップに配置される第２の電源配線との重なりを検出する重なり検出ステップと、重なり検出ステップにおいて重なりが検出されたとき、第１の電源配線及び第２の電源配線を共有電源配線に置換する電源配線置換ステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】従来の設計支援装置により生成したインダクタは、周囲の回路の影響により特性ずれが生じる問題があった。
【解決手段】本発明の設計支援装置は、生成対象のインダクタに接続される接続対象回路領域の第１、第２の接続端子の位置情報を回路設計情報から生成されるフロアプラン結果から得て、インダクタを他の回路と接続する第３、第４の接続端子を、第１の接続端子と第３の接続端子との間及び第２の接続端子と第４の接続端子との間が最短の配線によって接続可能な位置に設定する端子位置設定部１０と、第３、第４の接続端子の位置を基準としてインダクタの配線パターンを生成し、当該配線パターンに基づきインダクタのレイアウト情報を生成するパターン生成部１３と、を有する。 （もっと読む）

【課題】入出力（Ｉ／Ｏ）積層体を含むシステムを提供する。
【解決手段】入出力（Ｉ／Ｏ）積層体を含むシステム及びこのシステムを製造する方法が記述されている。一実装において、本方法は、Ｉ／Ｏ素子を含むと共に論理素子を含まないＩ／Ｏダイを積層するステップを有する。又、一実装において、本方法は、Ｉ／Ｏダイに対して集積回路ダイを積層するステップを更に含む。集積回路は、論理素子を含み、且つ、Ｉ／Ｏ素子を含まない。集積回路ダイからＩ／Ｏダイを分離することにより、それぞれのダイの独立的な開発や従来のダイのものとの比較におけるＩ／ＯダイのＩ／Ｏ基板上のＩ／Ｏ素子用の相対的に大きな空間などの様々な利益が得られる。空間の増大により、多数の論理素子を集積回路ダイの基板の同一の表面積内に収容する集積回路ダイの新しいプロセス世代が可能となる。 （もっと読む）

【課題】スキャンテスト時、特にキャプチャモード時におけるピーク消費電力を削減し、誤動作を防止する。
【解決手段】互いにデータパス依存性のない複数の回路ブロックは、スキャンテスト時にスキャンチェーンを形成するスキャンフリップフロップと組み合わせ回路とを含む。複数の選択回路は、制御信号に基づいて、複数の回路ブロックのそれぞれに供給するクロック信号を実動作時に使用する内部クロック信号と、複数のブロックスキャンクロック信号との一方に切り替える。制御回路は、制御信号がスキャンチェーンにデータを入出力するスキャンシフト期間を示すときに、同じタイミングのシフトクロックを含むブロックスキャンクロック信号を生成し、組み合わせ回路の論理動作をテストするキャプチャ期間を示すときは複数の回路ブロック毎に異なるタイミングのパルスを含むブロックスキャンクロック信号を生成する。 （もっと読む）

【課題】複数の電源電圧を有する半導体装置の電源電圧状態を検証する半導体設計検証装置を提供する。
【解決手段】半導体装置を構成する素子または回路の電源仕様を検証する半導体設計検証装置であって、設計データ情報と電源仕様情報とを格納する記憶部と、記憶部より読み出された設計データ情報と電源仕様情報とを処理する処理部とを備える。この設計データ情報は、半導体装置を設計するための上流設計工程の参照設計データ情報（７３）と、下流設計工程において参照設計データ情報に基づいて設計された第１の設計データ情報（７８）とを含む。電源仕様情報は、参照設計データ情報（７３）に対応する第１の電源仕様情報（７４）と、第１の設計データ情報（７８）に対応する第２の電源仕様情報（８２）とを含む。 （もっと読む）

【課題】低消費電力で精度の良いスキャンテストを提供する。
【解決手段】一つ以上のスキャンチェイン２で共通して設けられ、各セグメントを駆動するための複数のクロック信号を生成するクロックゲーティング回路３と、内部回路の故障の影響が一つのセグメント内で伝搬され、かつ次の故障に対応するケアビットが対応するセグメントに設定されるように、クロック信号を生成する際に利用する制御信号を生成する制御信号生成部７３とを備える。前記クロックゲーティング回路は、前記制御信号に基づいて、前記内部回路の故障の影響をいずれかのセグメント内で伝搬させるべく該セグメントに前記クロック信号を供給し、かつ故障を顕在化させるためのケアビットを対応するセグメントに取り込むべく該セグメントに前記クロック信号を供給し、かつ、前記ケアビットの設定と前記故障の影響の取り出しに関与しないセグメントへの前記クロック信号の供給を停止する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、半導体集積回路を備えた半導体装置および半導体集積回路の設計方法に関し、ＩＯ領域を有効に利用しつつパッケージの高さ寸法の増大を有効に抑えた接続を可能とする。
【解決手段】半導体基板の表面の第１の辺に沿って、第１のＩＯセルと、第２のＩＯセルとを交互に配置したＩＯ領域を有し、第１のＩＯセルは、第１の辺から所定の距離の位置に配置されたボンディングパッドを有し、第２のＩＯセルは、第１のＩＯセルのボンディングパッドより第１の辺から遠い位置にボンディングパッドを有し、かつ、第１のＩＯセルの少なくとも１つは、第１の辺から所定の距離の位置に配置された第１のボンディングパッドに加えて、第２のＩＯセルのボンディングパッドより第１の辺から遠い位置に、第２のボンディングパッドを有する第３のＩＯセルに置きかえられている。 （もっと読む）

【課題】設計フローの負荷を増大させることなく、それぞれの回路モジュールに必要十分な容量セルを、それぞれの回路モジュールに近接配置することができる半導体集積回路の設計方法を提供する。
【解決手段】本発明は、それぞれが複数の論理セルを含む複数の回路モジュールからなる半導体集積回路の設計方法であって、複数の回路モジュールのそれぞれの、複数の論理セルおよび複数の論理セルの端子間の接続の情報を記述するネットリストに、複数の論理セルに電源を供給する電源配線間に接続されるセルであり、複数の論理セルのいずれとも独立で、かつ、複数の論理セルの端子と接続される端子を持たない容量セルの記述を追加し、複数の論理セルおよび複数の容量セルのレイアウトデータが格納されたセルライブラリを備えた設計支援システムを利用して、回路モジュールのそれぞれに対応する、複数の論理セルおよび容量セルを配置する配置領域を設定し、複数の論理セルおよび容量セルを対応する配置領域内に配置する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】パワードメインを自動作成する。
【解決手段】設計された回路が仕様を満たしているか否かを評価するための機能シミュレーション処理（９）と、上記機能シミュレーション処理の結果に基づいて、活性化タイミングが所定の範囲内で揃う論理ブロック毎にクラスタ分割することでパワードメインを得るクラスタ分割処理（１０）とがコンピュータで行われる。これにより、パワードメインは、コンピュータで行われる処理によって得られるため、人手（設計者の手作業）によって求める場合に比べてパワードメインの最適化を図ることができる。 （もっと読む）