【課題】少しの設計方法の変更で設計できる、一層低消費電力化した半導体装置の実現。
【解決手段】複数の電源供給領域23と、複数の電源供給領域に供給する電源の電圧を切り替える複数の電源切替ユニットSWA,SWBと、を有し、複数の電源供給領域に含まれる回路要素を組み合わせて少なくとも１つの機能ブロックが形成され、少なくとも１つの機能ブロックは、内部に異なる電圧で動作する回路要素を含む半導体装置。 （もっと読む）

【課題】ＥＭＩ低減に有効な半導体集積回路システムを提供する。
【解決手段】バスライン８上に配置された中央演算処理装置１と、演算論理装置６と、デカップリングキャパシタ形成領域１００・合成論理形成領域２００・インピーダンス形成領域３００を有する半導体集積回路４００と、論理ライブラリ情報格納部２２・デカップリングキャパシタ配置配線情報格納部２４・インピーダンス配置配線情報格納部２６・電源配線配置配線情報格納部２８を有する記憶装置２とを備え、論理ライブラリ情報格納部２２・デカップリングキャパシタ配置配線情報格納部２４・インピーダンス配置配線情報格納部２６のそれぞれの格納データに基づいて、それぞれ合成論理形成領域２００・デカップリングキャパシタ形成領域１００・インピーダンス形成領域３００における配置配線を実行する半導体集積回路システム１０。 （もっと読む）

【課題】チップ面積増大を回避し、適切にリピータバッファを挿入する
【解決手段】レイアウト対象の半導体装置は、第１及び第２の電源ドメインを有し、第２の電源ドメインに属する接続元と接続先を接続する配線を有する。配線禁止許可領域設定部１２０は、第１の電源ドメイン内に排他的配線禁止領域及び通過配線許可領域を、リピータバッファが駆動可能な最大配線長であるリピータ配線最大長に基づいて設定する。配線設定部１３０は、排他的配線禁止領域及び通過配線許可領域に基づいて、配線を修正する。リピータ挿入部１４０は、リピータ配線最大長に応じ、配線に挿入するリピータバッファを設定する。排他的配線禁止領域は、第１の電源ドメイン内で接続する配線は許容し、通過配線を禁止する。通過配線許可領域は、第１の電源ドメインから排他的配線禁止領域を除外した領域であり、通過配線が許容される。 （もっと読む）

【課題】ＬＳＩに搭載された複数のマクロ間のクロックスキューを低減する設計方法を提案する。
【解決手段】本発明の半導体集積回路設計方法は、複数の下層回路を含む集積回路の回路情報に基づいて、下層回路に含まれるフリップフロップにクロックを供給する論理回路の出力をクロックポイントとして抽出し、抽出したクロックポイントを出力とする論理回路の回路構成を認識し、抽出したクロックポイントのうち、第１下層回路からクロックポイントを選択し、第２下層回路からクロックポイントを選択し、それぞれのクロックポイントを出力とする論理回路の回路構成を比較し、比較結果が一致した場合、選択された２つクロックポイントを出力する論理回路の一方を削除すると共に、削除した一方のクロックポイントを他方の論理回路の出力とすることにより、２つのクロックポイントを共通化する。 （もっと読む）

【課題】フロアプラン設計におけるイタレーションを防ぎ、設計期間を短縮する。
【解決手段】複数の回路モジュールの接続情報を含むネットリストと、前記複数の回路モジュールにグループを設定するためのグループ設定情報と、を記憶部に記憶し、ネットリスト及びグループ設定情報に基づき、複数の回路モジュールにグループを設定し（Ｓ２１）、設定されたグループ間におけるタイミング制約を満たす距離を算出し（Ｓ２３）、算出されたグループ間の距離を含み、フロアプランを作成するためのフロアプラン作成情報を生成する（Ｓ２５）。 （もっと読む）

【課題】スキャンテストに要する時間を削減するテストパタン作成方法を提供する。
【解決手段】テストパタン作成方法は、組み合わせ論理回路と少なくとも一つのスキャンチェーンとに関する情報を、記録媒体から読み出し、少なくとも一つのスキャンチェーンの入力側に近いフリップフロップから順番に抽出し（ステップＳ２１）、抽出したフリップフロップがスキャンキャプチャ動作によって組み合わせ論理回路から取り込むキャプチャデータと照合する期待値の必要性を判定し（ステップＳ２２〜Ｓ２５）、期待値が不要と判定されたフリップフロップが入力側から連続して存在するフリップフロップの数を取得し（ステップＳ２７）、スキャンチェーンに含まれるフリップフロップの総数と、取得したフリップフロップの数との差分を、スキャンキャプチャ動作後のスキャンシフト回数として決定する（ステップＳ２８）。 （もっと読む）

【課題】レイアウト設計において、複数のＩ／Ｏバッファセルを２列以上に配列する場合、Ｉ／Ｏバッファ領域の近傍にリピータを挿入する領域を確保し、手戻りをできるだけ抑えることができる、半導体集積回路設計支援装置、半導体集積回路設計方法およびプログラムを提供する。
【解決手段】リピータを含まないフィルセル（ＦＣ）と、リピータを含むフィルセル（ＦＣＲ）とが用いられる。フィルセル（ＦＣ）は、同列で互いに隣接したＩ／Ｏバッファセル（Ｂ_{ｍ＝１、ｎ}、Ｂ_{ｍ＝１、ｎ＋１}など）間に配置される。なお、複数のＩ／Ｏバッファセルは、２列に配置されている。Ｉ／Ｏバッファセルからプリミティブセルまでの配線長に基づいて、すでに配置されているフィルセル（ＦＣ）が、リピータを含むフィルセル（ＦＣＲ）に置換される。 （もっと読む）

【課題】チップごとに適正な電源電圧を設定する。
【解決手段】チップのレイアウトデータ２０からクリティカルパスのゲート遅延と配線遅延の遅延比を抽出する（ステップＳ１，Ｓ２）。チップのモニタ回路で実測されたゲート遅延及び配線遅延を、その遅延比に基づき合成して第１遅延値を生成し（ステップＳ３）、モニタ回路のシミュレーションで得られるゲート遅延及び配線遅延を、その遅延比に基づき合成して第２遅延値を生成する（ステップＳ４，Ｓ５）。このようにゲート遅延、配線遅延、クリティカルパスでの遅延比が考慮された第１遅延値及び第２遅延値に基づいて、チップに適用するチップ電源電圧を設定する（ステップＳ７）。 （もっと読む）

【課題】 より簡易な設計手法で作製可能なテスト回路を提供する。
【解決手段】 テスト回路１００は、基板と、基板上に形成された配線部及び被試験デバイス部１０とを備える構成とする。テスト回路１００では、被試験デバイス本体のパターン形成面内における回転中心位置Ｏと複数の接続電極１３ａ〜１３ｄのそれぞれとを結ぶ直線Ｌ１の延在方向が、配線２１の延在方向に対して所定の角度で傾いている。さらに、被試験デバイス本体及び複数の接続電極１３ａ〜１３ｄをパターン形成面内で９０度回転させた際にも、複数の接続電極１３ａ〜１３ｄ及び複数の配線２１〜２４間の接続が維持されるような位置に複数の接続電極１３ａ〜１３ｄが配置される。 （もっと読む）

【課題】半導体集積回路のクロック設計において、異なる２種類のクロック間の「セル遅延と配線遅延の比率α」の差を抑制する。
【解決手段】半導体集積回路は、第１クロック（ＣＬＫ１）が供給される第１素子群と、第１クロック（ＣＬＫ１）と異なる第２クロック（ＣＬＫ２）が供給される第２素子群と、を備える。クロック設計方法は、第１クロック（ＣＬＫ１）に関するクロックツリーシンセシスを実施することによって、第１クロックツリー構造１０を作成するステップと、第１クロックツリー構造１０の少なくとも一部を流用することによって、第２素子群に第２クロック（ＣＬＫ２）を供給する第２クロックツリー構造２０を作成するステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】改良されたＥＳＤ保護デバイスおよび該動作方法が、必要とされる。
【解決手段】集積回路ＥＳＤ保護回路２７０は、ゲートダイオード２７１および出力バッファＭＯＳＦＥＴ２７２を含有する組合せデバイスとともに形成される。第１導電性タイプのボディタイフィンガ３０７は、基板３０１、３０２に形成され、複数のダイオードポリフィンガ２３１、２３２を用いて第２導電性タイプ３１０のドレイン領域から分離される。複数のダイオードポリフィンガ２３１、２３２は、出力バッファＭＯＳＦＥＴ２７２を形成する複数のポリゲートフィンガ２０４、２０５と交互配置される。 （もっと読む）

【課題】スタンダードセル回路のレイアウト面積を削減する。
【解決手段】配線導体Ｌａは電源電圧ＶＤＤａを出力する電源に接続される。レギュレータ６ａは、配線導体Ｌａからの電源電圧ＶＤＤａを電源電圧ＶＤＤａより低い電源電圧ＶＤＤｂに変換し、配線導体Ｌｂを介してレベルシフタ２−１〜２−３，３，及びスタンダードセル４に出力する。レベルシフタ２−１は、入力されるデータの電圧レベルを電源電圧ＶＤＤａの電圧レベルから電源電圧ＶＤＤｂの電圧レベルに電圧シフトしてスタンダードセル４に出力する。レベルシフタ３は、スタンダードセル４からの出力信号の電圧レベルを電源電圧ＶＤＤｂの電圧レベルから電源電圧ＶＤＤａの電圧レベルに電圧シフトし、出力端子Ｔｑを介して出力する。 （もっと読む）

【課題】チップ面積を増加させることなく、効率良くリーク電流を抑制することができる半導体集積回路装置を提供する。
【解決手段】半導体集積回路装置は論理が同一のセルＡ−１，Ｂ−１，Ｃ−１を備えている。セルＢ−１はセルＡ−１よりセル幅Ｗ２が大きいが、ＭＯＳトランジスタのゲート長Ｌ１はセルＡ−１と等しい。セルＣ−１は、セルＢ−１とセル幅Ｗ２が等しいが、ゲート長Ｌ２が大きいＭＯＳトランジスタを有しており、セルＡ−１，Ｂ−１と比べて回路遅延は遅くなるがリーク電流は小さくなる。このため例えば、空き領域に隣接したセルＡ−１をセルＢ−１に置き換え、タイミングに余裕があるパスにおけるセルＢ−１をセルＣ−１に置き換えることによって、チップ面積を増加させることなく、リーク電流を抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】半導体集積回路の外部端子としてＴＲＳＴがなくても、論理シミュレーションの際に、タップコントローラのステートを確定する。
【解決手段】タップコントローラ２は、リセット端子（端子ｐ４）を有し、回路部３は、タップコントローラ２における状態遷移を制御するステート制御信号と、クロック信号を入力し、ステート制御信号とクロック信号に応じて、リセット端子ｐ４にリセット信号を供給することで、タップコントローラ２のステートを確定する。 （もっと読む）

【課題】故障検査のために観測用フリップフロップ回路を配置することなく，故障検査を可能とする半導体集積回路，その検査方法を提供する。
【解決手段】第2の論理回路51の試験の際に試験モードを示す制御信号TSMが，故障検査用回路41に入力され，この試験モードに対応するテスト値が，論理回路51に入力されると，故障検査用回路41により，論理回路51の出力論理が，論理回路13に対応するフリップフロップ回路14に入力される。さらに，通常モード時に，論理回路13の出力論理が，故障検査用回路41により，論理回路13に対応するフリップフロップ回路14にそのまま入力される。 （もっと読む）

【課題】ＳＯＩ型の半導体集積回路において電源遮断時の低消費電力及び電源供給時の動作性能向上に資することができる電源遮断制御を可能にする。
【解決手段】本発明に係る半導体集積回路は、第１電源スイッチと、前記第１電源スイッチに直列接続される論理回路を有する。前記論理回路は、順序回路（ＦＦ１，ＦＦ２）及び組み合わせ回路（ＬＯＧ１，ＬＯＧ２）を含み、前記第１電源スイッチと前記組み合わせ回路との間に第２電源スイッチが接続される。第１モードにおいて前記第１電源スイッチをオフ状態に制御し、前記順序回路及び前記組み合わせ回路を非通電状態にし、第２モードにおいて前記第１電源スイッチをオン状態に維持し且つ前記第２電源スイッチをオフ状態に制御し、前記順序回路を通電状態、前記組み合わせ回路を非通電状態にする電源スイッチ制御回路を有する。 （もっと読む）

【課題】 寄生バイポーラの生成を抑制しつつ、開発遅延を効果的に防止できるＥＳＤ保護検証装置を提供する。
【解決手段】 回路図データを受け付ける回路図データ取得手段１１ａと、回路図データから外部端子を抽出する外部端子抽出手段１１ｂと、回路図データからＥＳＤ保護素子を抽出するＥＳＤ保護素子抽出手段１１ｃと、寄生バイポーラの発生する可能性のある２つの素子間の関係を規定した第１判定条件に基づき、第１判定条件を満たすＥＳＤ保護素子を対象素子として設定する第１判定手段１１ｄと、配置配線処理において、寄生バイポーラの発生しないように設定されたレイアウト条件を満たすように対象素子の配置処理を実行して、レイアウトデータを作成するレイアウト作成手段１１ｅと、レイアウトデータを出力するレイアウトデータ出力手段１１ｆと、を備える。 （もっと読む）

【課題】チップ内の温度差が小さい高信頼性の半導体集積回路を提供できるようにする。
【解決手段】熱解析部１１は、設計する半導体集積回路のデータから熱解析を行い、温度分布を算出し、ベクトル生成部１２は、算出された温度分布の温度勾配に応じたベクトルを生成し、ダミーパターン生成部１３は、生成されたベクトルにしたがってダミーパターンを生成し、半導体集積回路のレイアウトデータに追加する。このようなダミーパターンを生成することで、温度分布が平均化され、チップ内の温度差が小さい高信頼性の半導体集積回路を提供できるようになる。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニングによるトランジスタの特性ばらつきを抑える。
【解決手段】並列に配置される複数のゲート電極パターン１０〜１５を交互に、ダブルパターニングの第１の露光工程で形成する第１のパターン及び第２の露光工程で形成する第２のパターンとして設定し（ステップＳ１）、第１のパターンと第２のパターンとを並列に接続したトランジスタ対を含む回路をレイアウトすることで（ステップＳ２）、ダブルパターニングによるトランジスタの特性ばらつきが抑えられる。 （もっと読む）

【課題】ホールドエラーをより確実に修正することが可能なホールドエラー修正方法、ホールドエラー修正装置及びホールドエラー修正プログラムを提供する。
【解決手段】ホールドエラー修正方法は、レイアウトデータ５３に対しタイミング解析を行ってタイミングレポート５４を生成し、ホールドエラーセルとは別のセルを置換元セルに選択し、置換元セルよりも駆動能力が小さいセルを置換先セルに選択し、レイアウトデータ５３において置換元セルを置換先セルに置換し、置換により生成された空き領域に、ホールドエラーセルのホールドエラーを修正するためのホールドバッファを挿入して、挿入したレイアウトデータを生成するものである。 （もっと読む）