【課題】 処理液の流れ方向を常に変化させることにより、被処理基板の処理効率を上げて基板表面の均一化を可能にした基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】 複数枚の被処理基板Ｗを収容できる処理槽２と、処理槽の底部に配設された複数本の処理液供給管３１〜３５と、この処理液供給管に処理液を供給する制御装置５とを備えた基板処理装置１において、処理液供給管３１〜３５のうち、第１処理液供給管３１は処理槽の底壁面２２の中央部に、第２処理液供給管３２、３３は第１処理液供給管の両側に、噴射ノズルを前記処理槽内に収容される被処理基板Ｗの中央部に向けて配設し、第３処理液供給管３４、３５は前記処理槽の側壁に噴射ノズルを被処理基板Ｗの頂部に向けて配設し、制御装置５は被処理基板Ｗの洗浄時に処理液を前記第１処理液供給管３１からは常時、前記第２、第３処理液供給管からは秒単位の間隔で交互に切換えて供給する。 （もっと読む）

【課題】設置スペースが少なく作業用スペースの活用度が向上する小型の基板用表面処理システムを提供すること。
【解決手段】表面処理を要する基板が、カセットから引き出されてチャック２１に保持され、ディスペンサー２４と連通している給液口を通じて、その表面に処理液を供給し乾燥して前記カセットに再ストックされるように形成された基板洗浄部２０と、前記ディスペンサーと連通している貯液タンク３１に貯留されている処理液の供給及び回収を制御するように形成されている処理液処理部３０が同一区画内の上部及び下部に位置するように形成されている。 （もっと読む）

【課題】 基板処理部へ処理液を供給して基板の処理を行う装置において、基板処理部へ処理液を供給するための配管の途中に設けられた開閉制御弁の故障の有無を確実に確認でき、開閉制御弁自体の構造の複雑化やコスト高を招くことがない装置を提供する。
【解決手段】 基板の処理が行われる処理槽１０と、処理槽１０へ純水を供給するための純水供給管１８と、純水供給管１８の途中に設けられた開閉制御弁２４とを備えた装置であって、処理槽１０から排出される処理液を一時的に貯留する液溜用バット３６と、液溜用バット３６内の処理液を排出するための排液用配管３８と、排液用配管３８に設けられた開閉制御弁４０と、液溜用バット３６が空の状態で開閉制御弁４０、２４を閉じて所定時間後に液溜用バット３６内に純水が溜まるか否かを検知する検知センサ４２とを備えた。 （もっと読む）

【課題】 容易に所望のエッチング幅を得ることができる基板周縁処理装置および基板周縁処理方法を提供する。
【解決手段】 遮断板１９は、スピンベース１２の回転軸１３と同軸上に配置された回転軸２０の下端に固定されている。回転軸２０には、遮断板１９を基板Ｗの平面方向に移動させるための遮断板横移動駆動機構２１が接続されている。遮断板横移動駆動機構２１においては、遮断板１９を回転させる回転軸２０はアームに接続されている。アームは、一方の支持部材に接続されている。この支持部材にはねじ軸が螺合するナット部が設けられている。ねじ軸は、他方の支持部材を介してモータの回転軸に接続されている。モータを正回転または逆回転させることによりアームが基板Ｗの平面方向に移動する。 （もっと読む）

基板処理装置（３）にてポリマー除去処理を行うときのプロセスのうち、回転する基板（Ｗ）に除去液を吐出して拡布する工程では基板回転数、除去液温度、除去液流量および除去液吐出時間のデータを収集し、それらの組み合わせから総合的に判断して処理異常を検出する。また、純水吐出工程では基板回転数、純水流量および純水吐出時間のデータを収集し、それらの組み合わせから総合的に判断して処理異常を検出している。このように、処理結果に大きく影響する重要な工程の重要な制御要素の組み合わせから総合的にポリマー除去処理の処理異常を検出することによって、より高い精度の処理異常検出を行うことができる。
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【課題】エピタキシャル層の平坦度を崩さず、手間を要さないエピタキシャル基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】エピタキシャル基板の製造方法は、エピタキシャル層形成工程（処理Ｓ１）と、面取り工程（処理Ｓ２）と、エッチング工程（処理Ｓ３）と、研磨工程（処理Ｓ４）とを備える。面取り工程では、エピタキシャル基板の周縁部のエッジクラウン等を除去し、エッチング工程では、面取り工程で生じたエピタキシャル基板の周縁部の加工歪等を除去する。エッチング工程では、エピタキシャル基板上にエッチング液を滴下し、エピタキシャル基板の回転による遠心力によって、エッチング液をエピタキシャル基板の中心から周縁部に向かって拡散させる。エッチング液は、周縁部に倣って、エピタキシャル基板の裏面側に回りこみ、周縁部がエッチングされることとなる。 （もっと読む）

【課題】
リンス液を短時間で除去できることにより、表面に微細な構造を形成した大口径基板に対してパターン倒れや張り付きがなく、短時間で均一に乾燥させることができる微細構造乾燥処理方法とその装置及びそのサンプルホルダを提供することにある。
【解決手段】
基板を設置したサンプルホルダを高圧容器内に設置する工程、高圧容器内に常温及び常圧では気体で高圧下では液体となる流体を液体又は超臨界状態で設定圧力まで導入する工程、高圧容器を傾斜させると共に傾斜によって形成されるサンプルホルダの特定の通路を通してリンス液を高圧容器内の上側又は下側に集める工程と、集められたリンス液を傾斜した高圧容器内の上側又は下側に設けられた少なくとも一方の排出口より排出させる工程、流体の圧力を臨界圧力以上に保ったまま流体の温度を臨界温度以上に昇温させる工程、流体の温度を臨界温度以上に保ったまま前記流体を排出する工程を有する。 （もっと読む）

【課題】 気泡を除去して基板に付着するパーティクルを低減させることができる基板処理方法およびその装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 内槽１１に貯留された処理液に基板を浸漬させると、微小気泡（マイクロバブル）Ｍｂが大量に発生する。基板が浸漬している状態で、窒素ガスノズル２６が処理液面に窒素ガスを供給して、液面にある気泡Ｍｂをその窒素ガスが内槽１１から外槽１２へ導く。窒素ガスが気泡Ｍｂを内槽１１の外部へ導くことで、気泡Ｍｂを内槽１１から除去することができる。また、基板が浸漬している間において気泡Ｍｂが外槽１２へ導かれるので、内槽１１の処理液から基板を引き上げる際に基板に付着するパーティクルを低減させることができる。 （もっと読む）

【課題】輸送や組み立て、メンテナンスを容易とした液処理装置を提供すること。
【解決手段】洗浄処理装置１は、基板が収納された容器の搬入出を行う容器搬入出部２と、基板に所定の液処理を施す液処理部３と、容器搬入出部２と液処理部３との間で基板を搬送する基板搬送部４と、液処理部３に供給する処理液の貯蔵および送液ならびに回収を行う処理液貯留部５とを具備し、容器搬入出部２と、液処理部３と、基板搬送部４と、処理液貯留部５は、複数のフレームに分けて配置され、複数のフレーム間で連結が可能な構造を有する。 （もっと読む）

【課題】処理液を効率よく回収することができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】ウエハＷに第１薬液が供給されている途中で、ウエハＷの回転速度が１５００ｒｐｍから５００ｒｐｍに下げられると、これに応答して、スプラッシュガード１８の位置が、１５００ｒｐｍの回転速度で回転されているウエハＷから飛散する第１薬液を最も効率よく第１回収捕獲口４４に捕獲させることのできる第１薬液捕獲上位置から、５００ｒｐｍの回転速度で回転されているウエハＷから飛散する第１薬液を最も効率よく第１回収捕獲口４４に捕獲させることのできる第１薬液捕獲下位置に変更される。 （もっと読む）

本発明の態様は、基板を処理するための基板処理装置および方法に向けられる。一態様では、基板処理装置は処理室と、基板を保持するための処理室内部の基板保持器と、基板に対し略垂直に音波を供給するための処理室内の音響箱とを含む。音響箱は膜、および、膜に結合された変換器を含むことができる。
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【課題】 疎水性の障壁によるメニスカスの分離および閉じ込め。
【解決手段】 多くの実施形態の１つにおいて、基板を処理するための方法が提供される。該方法は、第１の流体メニスカスと第２の流体メニスカスとを基板の表面上に生成する工程を有する。このとき、第１の流体メニスカスは、第２の流体メニスカスにほぼ隣接する。このメニスカスは、また、第１の流体メニスカスと第２の流体メニスカスとを障壁によって分離する工程も有する。 （もっと読む）

【課題】 下部に液処理部を備え、その上に乾燥処理部を備え、前記液処理部と前記乾燥処理部との間がシャッタにより開閉自在である基板処理装置において、そのシャッタ上の液残りを減少させる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 洗浄処理装置１は、ウエハＷを液処理する液処理部２と、液処理部２の上側に設けられ、ウエハＷを乾燥させる乾燥処理部３と、液処理部２と乾燥処理部３との間でウエハＷを搬送するウエハガイド４と、液処理部２と乾燥処理部３との間を開閉し、その略中心に排液口９１が形成されたシャッタ１０と、排液口９１に接続されたアスピレータ９２と、排液口９１の開口上に設けられた吸引制御部材９３と、を有する。アスピレータ９２を動作させた際に、シャッタ１０の上面に沿って流れて排液口９１に流入する流体流れを吸引制御部材９３により生じさせ、シャッタ１０上の液残りを低減する。 （もっと読む）

【課題】 基板を回転させながら基板に処理液を供給して該基板に対して所定の処理を施す基板処理装置において、基板中央部への処理液の付着を防止しながら、基板周縁部の処理幅を均一にして処理する。
【解決手段】 基板Ｗの上面には、その平面サイズＤ１が基板サイズＤ２と同等以上の大きさである雰囲気遮断板９が対向して配設される。雰囲気遮断板９の周縁部にはノズル６が挿入可能な上下方向に貫通する貫通孔９ｅが形成されており、ノズル移動機構６７によりノズル６を駆動することで、ノズル６を該貫通孔９ｅに挿入させて基板Ｗの上面周縁部ＴＲに対向する対向位置Ｐ１と、雰囲気遮断板９から離れた退避位置Ｐ２とに位置決めすることができる。対向位置Ｐ１に位置決めされたノズル６から基板Ｗの上面周縁部ＴＲに処理液が供給される。 （もっと読む）

【課題】 サブカバーの形状を工夫することにより、沸騰状態における処理液の飛散を防止しつつも、水分蒸発を適切に行うことによりサブボイル状態を短時間で安定させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 燐酸溶液の温度が１４０℃程度にまで達すると、激しい沸騰が生じて液面から上方へ液滴の飛散が生じるとともに、水分が蒸発する。しかし、オートカバー１９は、その挿通開口２７にサブカバー２９が設けられ、これも閉止されている。そのため燐酸の液滴が上方へ飛散するのをサブカバー２９によって防止できる。さらに、サブカバー２９は側方に開口を有するので、燐酸溶液の水分蒸発を妨げることがない。したがって、沸騰状態における液滴の飛散を防止することができつつも、サブボイル状態を短時間で安定させることができる。 （もっと読む）

【課題】 基板を回転させながら、薬液処理→洗浄処理→乾燥処理の順で処理を行う基板洗浄装置における、洗浄処理工程から乾燥処理工程の間に一定の期間を設け、この期間における基板の回転速度を制御することでミストの発生を抑える基板洗浄装置及び基板洗浄方法を提供する。
【解決手段】 本発明の基板洗浄装置および基板洗浄方法においては、洗浄処理工程終了後、乾燥処理工程開始までの間に加速工程を設け、この工程において基板の回転速度を低速から高速に段階的に変化させる。基板の回転数を緩やかに加速させ、最終的に基板の回転速度を、乾燥処理工程に適した速度にまで上昇させる。 （もっと読む）

【課題】動的な液体メニスカスを用いたストレスフリーのエッチング処理
【解決手段】パターン形成された半導体基板上の不均一性を平坦化および制御するためのシステムおよび方法は、パターン形成された半導体基板を受け取る工程を備える。パターン形成された半導体基板はパターン内の複数の特徴を導電性配線材料で満たされ、導電性配線材料は過剰部分を有する。過剰部分のバルクは除去され、過剰部分の残りの部分は不均一性を有する。不均一性はマッピングされ、不均一性を補正するために、最適の液体が決定され、動的液体メニスカスエッチング処理レシピが作成される。そして、不均一性を補正して、過剰部分の残りの部分をほぼ平坦化するために、動的液体メニスカスエッチング処理レシピを使用した動的液体メニスカスエッチング処理が実施される。 （もっと読む）

酸化ケイ素のエッチング速度を安定させつつ高い選択性を提供する、酸化ケイ素に対する窒化ケイ素の選択エッチング装置（図５）及び方法。本発明は、プロセスチャンバ（１０）、注入ライン（２０、２１、２２）、供給ライン（３０、３１、３２）、再循環ライン（４０）、プロセス制御器（２００）、濃度センサー（５０）、粒子計数器（５５）、排出ライン（９０）、を含む。本発明は、少なくともひとつの基板の処理中に、使用されるエッチング液の構成要素の濃度比を動的制御し、および／または、エッチング液内の粒子数を動的制御する。結果として、エッチング液の液寿命は延び、エッチングプロセスパラメータは、よりしっかりと制御される。
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【課題】結合型渦電流センサによって膜厚を測定する。
【解決手段】膜厚測定における測定点の大きさおよびノイズを最小化するための方法が提供される。この方法は、導電膜を伴う第１の表面を向くように、第１の渦電流センサを配置する工程から開始する。この方法は、導電膜を伴う第２の表面を向くように、第２の渦電流センサを配置する工程を備える。第１および第２の渦電流センサは、共通の軸を共有しても良いし、あるいは互いにオフセットされても良い。この方法は、更に、第１の渦電流センサおよび第２の渦電流センサを交互に給電する工程を備える。本発明の一態様では、第１の渦電流センサと第２の渦電流センサとの間の給電の切り替え間に、遅延時間が組み込まれる。方法は、また、第１の渦電流センサからの信号と第２の渦電流センサからの信号との組み合わせに基づいて、膜厚の測定値を計算する工程を備える。装置およびシステムも提供される。 （もっと読む）

本発明は、ある特定の流動体輸送管を目視により他の管から容易に識別でき、離れた距離からでも内部の流動体の流動状況を視認でき、内部の流動体を汚染しない流動体輸送管を提供することを目的とする。本発明は、溶融加工性含フッ素ポリマー層（Ａ）と、着色溶融加工性ポリマー層（Ｂ）とを積層状に有してなる流動体輸送管であって、上記溶融加工性含フッ素ポリマー層（Ａ）は、最内層であり、上記流動体輸送管は、可視光透過度が全外周方位からの可視光に対して２５％以上であることを特徴とする流動体輸送管に関するものである。 （もっと読む）