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Fターム[5F044LL01]の内容

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【課題】固体装置と半導体チップとの間の電気抵抗を低減できる半導体装置を提供する。
【解決手段】この半導体装置1は、配線基板2と半導体チップ3とを備えている。配線基板2は、金属からなる接続パッド10が突出して形成された接続面2aを有しており、半導体チップ3は、金属からなる突起電極13が突出して形成された機能面3aを有している。半導体チップ3は、機能面3aを接続面2aに対向させて、機能面3aと接続面2aとの間に所定間隔D3を保持して接合されている。接続パッド10と突起電極13とは、接続パッド10および突起電極13より固相線温度が低い低融点金属を含む接続部材15により接続されている。機能面3aと接続面2aとの対向方向において、接続パッド10の高さD1と突起電極13の高さD2との和は、所定間隔D3の2分の1以上である。 (もっと読む)


【課題】実装の高密度化、部品の小型化及び部品の配置間隔の狭ピッチ化等に対しても、十分な接合強度をもって対応でき、しかも部品間接合の熱的信頼性を向上させ得る封止材料、はんだ付け用フラックス及びはんだペーストを提供する。
【解決手段】封止材料は、接着性樹脂と、硬化剤と、無機粉末または有機粉末の少なくとも一種とを含有する。この封止材料を用いて、電子部品、半導体チップまたは電子回路モジュールを、部品搭載基板、チップ搭載基板またはマザー基板に接合する。同様のはんだ付けフラックス及びはんだペーストが提供される。 (もっと読む)


【課題】 半導体基板をヘッダなどにSn系Pbフリー半田を用いて半田接合する際に、充分な接合寿命を保証できる半導体装置を提供する。
【解決手段】 まず、半導体基板1の形成面Sに形成された図示しない自然酸化膜を除去するために、半導体基板1の形成面Sの逆スパッタリングを行う。次に、半導体基板1の形成面SにスパッタリングによってAl層2、Ti層3、Ni層4を形成する。さらに、Ni層4上にスパッタリングによって例えば厚さ30nm〜50nm程度の図示しないAuなどからなる保護膜を形成する。その後、窒素雰囲気の石英管熱処理炉にて熱処理を行うことによってTi層3とNi層4との界面に半田バリア層としてのTi−Ni層5を形成する。 (もっと読む)


【課題】 BGAパッケージのパッドの径に対するプリント配線板のパッドの径の最適化を図り、プリント配線板に曲げストレスが印加された時のはんだ接合の信頼性を確保することができるBGAパッケージの実装構造を提供する。
【解決手段】 電子部品と、その端子となるはんだボール6を取り付ける取付けパッド5とを有するBGAパッケージ10を、プリント配線板7に設けたパッド8に上記はんだボール6を接合して実装するBGAパッケージの実装構造において、上記プリント配線板7への曲げストレスの印加時に、上記BGAパッケージ10側及びプリント配線板7側のパッド5、8にそれぞれ発生する相当応力の差が所定の範囲となるように、上記BGAパッケージ側パッド5の径に対するプリント配線板側のパッド8の径を設定した構成とする。 (もっと読む)


【課題】突起電極が十分な強度を有すると共に、生産性に優れた半導体チップ、並びにこのチップを備えた半導体装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の半導体装置2は、半導体基板10の表面にアルミニウム(Al)を含む配線層11を有すると共に、この配線層11の表面に金(Au)またはAlを含む外部引出電極12を有する半導体チップ1が複数積層された構造を備えている。このAlを含む外部引出電極12を有する半導体チップ1は、Alを含む外部引出電極12の表面にAuを含む突起電極15をさらに有している。AuまたはAlを含む外部引出電極12は、配線層11に直接に接合され、突起電極15は、他の半導体チップ1のAuを含む外部引出電極12に対して超音波圧着により接続されている。 (もっと読む)


【課題】 放熱特性を確保しながら、実装信頼性を向上できる半導体素子用の電気回路基板を提供する。
【解決手段】 絶縁基板1上に、半導体素子6のリード端子に応じて設けられた信号端子2を設ける。絶縁基板1上に、半導体素子6の放熱部8に面する位置に、はんだ付着が可能な複数のはんだ付着部3を設ける。各はんだ付着部3間に、はんだ非付着部5を形成する。 (もっと読む)


【課題】 半導体チップの表面側を実装基板に接続するフェイスダウン実装(表面実装)型の半導体装置において、接合不良を評価できるようにする。
【解決手段】 半導体チップ10が透明なサファイア基板11に透明なガリウム窒素系化合物半導体層12,13を積層して成る発光ダイオード1などのように、該半導体チップ10が透明な材料から成る場合、該半導体チップ10の表面に形成される電極15,16における金バンプ電極21a,21bの当接部位の少なくとも一部分に、前記電極15,16を形成しない開口窓30を形成し、前記電極15,16と金バンプ電極21a,21bとの接合部を確認可能とする。そして、前記開口窓30には、金よりも拡散速度が遅い材料で、金属薄膜32を形成しておく。したがって、完全に接合すると、金属薄膜32の材料がバンプ電極21a,21b中に熱拡散し、開口窓30は金色に見える。 (もっと読む)


【課題】 半田バンプ付き半導体接合における、接合タクトの問題、フラックス使用による問題、熱硬化性樹脂の注入に関する問題、信頼性の低下問題を解決することを目的としている。
【解決手段】 少なくとも、熱硬化性樹脂7を予め基板2に供給する工程と、該熱硬化性樹脂7上に半田バンプ付き半導体1を供給する工程と、非接触の熱源9による局部加熱で前記半田バンプ付き半導体1を加熱して半田バンプ3を溶融させ基板2上の電極4と接合を行なう工程を有する半田バンプ付き半導体接合方法とする。 (もっと読む)


【課題】簡単な構成で、ICチップの実装不良を低減する。
【解決手段】カメラモジュールは、フレキシブル基板、CCDカメラユニット、コネクタ、リジッド基板6を備える。リジッド基板6に、実装エリア6aを形成する。実装エリア6aに、接続層11、絶縁層12、カバーレイ層13を形成する。接続層11の第1〜第4接続層11a〜11dを、ICチップ9の4側面に沿って形成する。第1,第3接続層11a,11cにそれぞれ7個のランド15を、第2,第4接続層11b,11dにそれぞれ8個のランド15を形成する。これら複数のランド15を、第1〜第4接続層11a〜11d上においては互いに接続することなく、それぞれ独立して形成する。絶縁層12は、第1〜第4接続層11a〜11d及びカバーレイ層13よりも突出して形成されている。絶縁層12に、断面が円形状の凹部16を所定のピッチで25個形成する。 (もっと読む)


【課題】 半導体チップの表面側を実装基板に接続するフェイスダウン実装(表面実装)型の半導体装置において、接合不良を評価できるようにする。
【解決手段】 半導体チップ10側には、半導体層12,13とオーミックコンタクトされている電極15,16におけるバンプ電極21の当接部位の少なくとも一部分が周囲とは電気的に切離されたテスト用電極23を形成し、そのテスト用電極から引出しラインを引出し、引出し電極に接続するとともに、実装基板20側には、前記引出し電極に対向するテスト用パッドを設け、該テスト用パッド上にテスト用バンプ電極を形成する。したがって、実装基板20側のパッドとテスト用パッドとを経由して、実装基板20に形成した回路パターン側から、電極15,16とバンプ電極21との接合部を、非破壊で、電気的に評価することができる。 (もっと読む)


【課題】接続媒体溜りの位置をコントロールすることができるとともに配線間隔が狭い場合であっても端子間隔を十分に確保することができ、また容易により端子を形成することができるフリップチップ実装半導体装置の製造方法及びフリップチップ実装半導体装置を提供する。
【解決手段】フリップチップ実装半導体装置1は、インターポーザ基板2上に、幅が一方から他方にかけて徐々に小さい複数の端子6と、端子6の少なくとも一方の端部にそれぞれ連設された配線7とを形成する工程と、端子6上にそれぞれ半田層を形成する工程と、半田層を溶融させて、端子6上に半田溜りを形成する工程と、半導体チップ3に設けられた複数の突起状電極を、半田溜りを介して端子6にそれぞれ電気的に接続するとともに固定する工程とを含む方法により形成される。 (もっと読む)


【課題】比較的に簡単に回路チップパッケージのみを取り外すことができる回路チップパッケージの取り外し方法を提供する。
【解決手段】取り外し治具21はプリント回路基板12上に搭載される。傾斜面35、36の前進は、プリント回路基板12および回路チップパッケージ13の間に配置される固体のはんだバンプ14で受け止められる。プリント回路基板12に熱が加えられる。はんだバンプ14は溶融する。傾斜面35、36の前進の規制は取り払われる。はんだバンプ14の溶融に応じて傾斜面35、36は前進する。プリント回路基板12および回路チップパッケージ13の間に傾斜面35、36は滑り込む。こうした取り外し方法によれば、はんだバンプ14が完全に溶融した後に、回路チップパッケージ13にはプリント回路基板12の表面に垂直方向に持ち上げ力が加えられる。比較的に簡単に回路チップパッケージ13のみが取り外されることができる。 (もっと読む)


【課題】
微細かつ高精度のハンダ付けランドが形成された小型、高密度配線のセラミック配線基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】
本発明のセラミック配線基板の製造方法は、セラミックグリーンシート上に複数の配線パターン4を形成する工程と、複数の配線パターン4にまたがって、かつ、各配線パターン4の一端を覆うように、複数の配線パターンの各々の一部をランド27として規定するライン状の絶縁パターン28bを形成する工程と、複数の配線パターン4および絶縁パターン28bを設けたセラミックグリーンシートを焼成する工程と、を備える。 (もっと読む)


本発明の電極間接続構造体形成方法では、表面(110a)に第1電極部(111)を有する第1接続対象物(110)に対して、開口部(130a)を有する接着層(130)を、開口部(130a)から第1電極部(111)が露出し、かつ、表面(110a)の少なくとも一部を覆うように形成する工程と、第2電極部(121)を有する第2接続対象物(120)を、第1接続対象物(110)に対して、第1電極部(111)と第2電極部(121)が対向しつつ接着層(130)が第2接続対象物(120)に接するように配置する工程と、第1電極部(111)および第2電極部(121)が導体部(140)を介して電気的に接続されるとともに接着層(130)が硬化するように加熱処理を行う接続工程とが含まれている。
(もっと読む)


【課題】 実装ツールにて電子部品を反りの無い状態で吸着でき、そのままの状態で基板に実装することで、電子部品の突起電極と基板電極を高い信頼性をもって接合することができる電子部品実装方法及び装置を提供する。
【解決手段】 複数の突起電極4を有する電子部品2の突起電極形成面2aを移載ツール11にて上方から保持する工程と、移載ツール11を上下反転して移載位置に位置決めする工程と、移載位置で電子部品2を移載ツール11から実装ツール15に受け渡して実装ツール15で吸着する工程と、実装ツール15にて電子部品2を吸着した状態で電子部品2の突起電極4を基板3上に形成された基板電極3aに接合する工程とを備えた電子部品実装方法であって、電子部品2を実装ツール15に受け渡す工程において電子部品2の平面度を規制するフラット化工程を有する。 (もっと読む)


【課題】電子部品を電子部品搭載用基板上に載置後に、振動、衝撃等の外力による載置位置からのずれを制御するとともに、ロウ材による電子部品電極と搭載用電極の接続ずれを低減した高信頼性の電子部品搭載用基板、電子装置および電子部品搭載用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】電子部品7と電気的に接続される搭載用電極3を有した絶縁基板5の主面に、電子部品の搭載領域よりも外方に、前記搭載用電極よりも厚みの厚い凸部2を形成してなる電子部品搭載用基板1をもちい、電子部品を4つの側面が凸部に沿って当接されるようにしてロウ材6を介して搭載する。 (もっと読む)


【課題】 バンプとランド部と間の剥がれが無く、生産性の良い半導体部品の実装構造、及びそれに使用される実装基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の半導体部品の実装構造は、配線パターン3とランド部4が設けられた絶縁基板2を有する実装基板1と、ランド部4にバンプ7を介して実装基板1に実装された半導体部品5と、半導体部品5と絶縁基板2との間に介在したアンダーフィル8とを備え、バンプ7が位置するランド部4の端面4aには、絶縁基板2側からランド部4の上面に向かって逆テーパー状となるようなアンダーカット部4cが設けられ、アンダーカット部4cにバンプを食い込ませたため、バンプ7のランド部4への結合は、強固となり、アンダーフィル8が膨張、収縮した際、バンプ7とランド部4間の剥がれの無いものが得られる。 (もっと読む)


電子部品搭載基板は以下のような方法によって製造される。まず、金属製の支持基板(1)の表面(1a)に、ビルドアップ絶縁層(21a〜21f)およびビルドアップ配線パターン(22a〜22f)を交互に形成する(ビルドアップ積層工程)。次に、前記支持基板(1)の裏面(1b)から表面(1a)に至る貫通孔(11)を形成して、最内層のビルドアップ絶縁層(21a)の裏面(211a)を露出させる(孔形成工程)。さらに、前記支持基板(1)の前記貫通孔(11)を介して前記最内層のビルドアップ絶縁層(21a)の裏面(211a)に電子部品(3)を搭載する(実装工程)。
(もっと読む)


【課題】 超音波振動を利用して半導体チップ等の電子部品を基板に搭載する際に、バンプと基板との接合部の接合信頼性を高めることができる超音波実装方法および超音波実装装置を提供する。
【解決手段】 電極端子が設けられた回路基板に、超音波振動を半導体チップに印加してフリップチップ接続により半導体チップを搭載する電子部品の超音波実装方法において、前記半導体チップに対して、チップ面に平行に超音波振動を作用させるとともに、チップ面に垂直に、前記超音波振動の振動サイクルと連動して荷重を作用させることにより半導体チップを実装する。 (もっと読む)


【課題】 半導体チップを超音波振動を利用して回路基板にフリップチップ接続により搭載する際に、半導体チップの位置ずれを防止して正確に回路基板に搭載可能とする。
【解決手段】 電極端子22が設けられた回路基板20に、超音波振動を半導体チップ10に印加してフリップチップ接続により半導体チップが搭載された電子部品の実装構造であって、半導体チップ10に設けられたバンプ12の中心位置と、回路基板20に設けられた電極端子22c〜22fの幅方向の中心位置とが、前記超音波振動の振動方向に平行となる方向に、相対的にあらかじめ偏位して設けられた半導体チップ10および回路基板20が、前記バンプ12と電極端子20c〜20fが相互に接合されて搭載されることを特徴とする。 (もっと読む)


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