【課題】チップサイズを増大することなく、キャパシタの容量を増やすことができる半導体集積回路を提供する。
【解決手段】半導体基板１０上にメインブロック１１と周辺ブロック１２とが混載された半導体集積回路において、半導体基板１０上のメインブロック１１に形成され、第１のトレンチキャパシタを有するメイン回路と、半導体基板１０上の周辺ブロック１２に形成され、第２のトレンチキャパシタを有するアナログ回路とを備える。 （もっと読む）

【課題】ヒューズ素子の列数増に伴うトリミング時間の伸長を抑制する。
【解決手段】ｘ方向に延伸する接地配線Ｇと、接地配線のｙ方向の一方側に設けられたヒューズ素子領域Ａにｘ方向に沿って３列に並べて配置され、かつそれぞれの一端が接地配線Ｇに共通に接続される複数のヒューズ素子と、ヒューズ素子領域Ａを挟んで接地配線Ｇの反対側に設けられ、ヒューズ素子領域Ａに配置された複数のヒューズ素子それぞれの他端と接続される救済回路とを備え、上記複数のヒューズ素子は、それぞれ1つの欠陥選択線を示すアドレス情報を記憶する複数のヒューズ素子グループに所定個ずつグループ化され、同一のヒューズ素子グループに属する所定個のヒューズ素子は、同一列に配置されることを特徴とする （もっと読む）

【課題】チップサイズの増大を抑えつつ、多数の配線間の時定数を一致させる。
【解決手段】半導体装置は、第１のサイズを持つ第１の外部端子と、第１のサイズよりも小さな第２のサイズを持つ複数の第２の外部端子と、第１の外部端子及び複数の第２の外部端子が、前記第１のサイズを基準として配列される外部端子領域と、外部端子領域に隣接して形成され、複数の第２の外部端子にそれぞれ対応付けられる複数の回路と、複数の第２の外部端子とそれら対応付けられた複数の回路との間をそれぞれ接続する複数の配線とを備える第１のチップを含む。複数の第２の外部端子及びそれらに接続された複数の配線は複数のインタフェースを構成し、複数のインタフェースの夫々は、互いに実質的に等しい時定数を持つように、時定数を調整する調整部を少なくとも一つ含む。調整部の少なくとも一部は、外部端子領域内の第１のサイズと第２のサイズとの差により生じるマージン領域に配置される。 （もっと読む）

【課題】ＥＢＤに近いモデリング精度を維持しつつ、モデリングの効率を高める。
【解決手段】複数のチップ（ＣＨＩＰ１〜４）が積層され、それぞれのチップが共通の外部端子１０４に接続される積層型の半導体装置１００の設計に関する。まず、電磁界解析ツールにより、外部端子１０４とチップを接続するプリント基板配線（共通配線１０６、個別配線１０８）の電気的なパラメータを算出し、それらをＥＢＤのパラメータとして設定する。設定されたパラメータに基づいて半導体装置１００の電気的な特性をシミュレーション計算する。パラメータの計算・設定に際しては、所定の配線、たとえば、共通配線１０６や個別配線１０８などのプリント基板配線の長さを示すパラメータをゼロに設定する。 （もっと読む）

【課題】複数の回路ブロックの特性を正確に一致させる。
【解決手段】例えば、端子３１Ａ，３１Ｂと、これら端子間に設けられた回路１１０Ａ，１１０Ｂを備える。回路１１０Ａは端子３１Ａに接続され、端子３１Ａから端子３１Ｂへ向かって配置されたセル１２０Ａ，１３０Ａ，１４０Ａを含む。回路１１０Ｂは端子３１Ｂに接続され、端子３１Ｂから端子３１Ａへ向かって配置されたセル１２０Ｂ，１３０Ｂ，１４０Ｂを含む。セル１２０Ａ，１２０Ｂのレイアウトは、形状、サイズ及び向きがトランジスタレベルで同一である。セル１３０Ａ，１３０Ｂ及びセル１４０Ａ，１４０Ｂのレイアウトは、形状及びサイズが同一であり、トランジスタの向きが１８０°相違している。これにより各セルを対称配置しつつ、センシティブなセル１２０Ａ，１２０Ｂにおいては電流方向の違いによる特性差が生じない。 （もっと読む）

【課題】ヒューズの切断または非切断をより正しく判定することが可能な半導体装置および判定方法を提供する。
【解決手段】半導体装置は、ヒューズの切断または非切断の判定を行う半導体装置であって、多数のヒューズと、多数のヒューズのうち切断状態である切断ヒューズの数が所定の切断閾値を超える場合には、ヒューズの切断を示す切断信号を出力し、切断ヒューズの数が切断閾値よりも小さい場合には、ヒューズの非切断を示す非切断信号を出力する判定回路と、を含む。 （もっと読む）

【課題】消費電力を抑えることができる、プログラムユニットを用いた半導体装置を提供する。また、信頼性の高い、プログラムユニットを用いた半導体装置を提供する。さらに集積度の高い、プログラムユニットを用いた半導体装置を提供する。
【解決手段】ＰＬＤ等のロジックセル間の接続構造を変更する機能を有する半導体回路において、ロジックセル間を接続や切断、あるいはロジックセルへの電源の供給を、オフ電流またはリーク電流が小さい絶縁ゲート電界効果型トランジスタを用いたプログラムユニットによって制御する。プログラムユニットにはトランスファーゲート回路を設けてもよい。駆動電圧を下げるため、プログラムユニットには容量素子を設けて、その電位をコンフィギュレーション時と動作期間とで異なるものとしてもよい。 （もっと読む）

【課題】ウエハーテストにおいて、キャリブレーション動作の評価を、容易、かつ高精度に行うことができる半導体装置を提供する。
【解決手段】キャリブレーション端子ＺＱを駆動するレプリカバッファ（１３１）と、レプリカバッファの出力インピーダンスを変化させる際に目標となるインピーダンスが設定され、キャリブレーション端子ＺＱに接続される可変インピーダンス回路（１７０）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】配線間のピッチを縮小可能にした半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体基板に形成された複数のトランジスタと、第１の方向に延在する第１の配線を備えた第１の配線層と、第１の配線層よりも上層に設けられ、第１の方向と交差する第２の方向に延在し、第１の配線と電気的に接続された第２の配線を備えた第２の配線層と、半導体基板と第１の配線層との間に設けられ、複数のトランジスタに接続する第１の中継配線と、第１の中継配線が形成された第１の中継配線層と第１の配線層との間に設けられ、第１の配線と複数のトランジスタのうちの一つとを接続する第２の中継配線とを有する構成である。 （もっと読む）

【課題】周辺回路領域を整形された形状とすることによりチップ面積を縮小する。
【解決手段】Ｙ方向に延在する複数のデータバスＤＢがピッチＰ１でＸ方向に配列されたメモリセル領域４０と、対応する複数のデータバスＤＢにそれぞれ接続された複数のバッファ回路ＢＣが設けられたバッファ領域６１とを備える。バッファ領域６１上においては、Ｙ方向に延在する複数のデータバスＤＢがピッチＰ２でＸ方向に配列され、ピッチＰ２はピッチＰ１よりも小さい。本発明によれば、データバスＤＢの配列ピッチをバッファ領域上において縮小していることから、他の回路ブロックに割当可能な面積を十分に確保することが可能となる。これにより、当該回路ブロックの幅拡大や形状の変形が不要となることから、無駄な空きスペースが生じにくく、チップ面積を縮小することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】電源遮断がされる領域同士の場合であっても生じる、電源遮断移行時および復帰時の貫通電流の問題を解決しつつアイソレーション回路を不要とする半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置は、第１の電源線６０１と、第１のスイッチ６０５を介して第１の電源線に接続される第２の電源線１０１、および第２の電源線に接続されるマクロセルコア５０８を有するマクロセルと、第２のスイッチ６０３を介して第１の電源線に接続される第３の電源線６０２と、第３の電源線に接続され、マクロセルコアの入力または出力の少なくともいずれかに接続される回路ブロック５０１とを備え、第２の電源線と第３の電源線とが接続される。 （もっと読む）

【課題】回路特性を調整するためのトリミング時間を短縮する。
【解決手段】切断ポイントが座標Ｙ１に配列されたラダーヒューズＬＦＡと、切断ポイントが座標Ｙ２に配列されたラダーヒューズＬＦＢとを備える。回路特性を調整するための補正データが第１の範囲内にある場合はラダーヒューズＬＦＡ，ＬＦＢの両方に対してトリミング動作を行い、回路特性を調整するための補正データが第２の範囲内にある場合はラダーヒューズＬＦＡに対してトリミング動作を行うことなく、ラダーヒューズＬＦＢに対してトリミング動作を行う。これにより、補正データが第２の範囲内である場合には、ラダーヒューズＬＦＡに対してレーザ照射する必要がない。このため、例えば量産段階で必要となる調整範囲をラダーヒューズＬＦＢに割当てれば、１回のスキャンでトリミングを完了することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】ヒューズ（ＦＵＳＥ）を備えた半導体装置の信頼性を向上する。
【解決手段】半導体基板１１の主面上に形成にされた多層配線を構成する層Ｍ１〜Ｍ６のうちの層Ｍ４に設けられた電気溶断型の救済用のヒューズ４ａおよび試験用のヒューズ４ｂと、ヒューズ４ａの近傍であって層Ｍ２および層Ｍ６に設けられた一対の導電板１０ａと、ヒューズ４ｂの近傍であって層Ｍ３および層Ｍ５に設けられた一対の導電板１０ｂとから構成する。ヒューズ４ｂと導電板１０ｂとの間が、ヒューズ４ａと導電板１０ａとの間より近いものとする。 （もっと読む）

【課題】貫通電極を有する積層構造の半導体装置、半導体メモリ装置、半導体メモリ・システム及びその動作方法を提供する。
【解決手段】複数の半導体レイヤ間で伝送される情報の衝突を防止する構造を有する半導体装置であり、該半導体装置は、第１温度情報を出力する第１温度センサ回路を含む少なくとも１つの第１半導体チップと、貫通電極に電気的に連結されずに、第１温度センサ回路に電気的に連結される第１バンプと、第１半導体チップの貫通電極に電気的に連結される第２バンプと、を具備する半導体装置であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】複数のレーザビームを使って、半導体基板の上又は内部の導電性のあるリンクを加工する。
【解決手段】２又は３以上のＮについて、スループットの利益を得るためにＮ組のレーザパルスを使う。前記リンクは、ほぼ長手方向に延びる実質的に平行な複数の列５１０、５２０をなして配置される。前記Ｎ組のレーザパルスは選択された構造の上に投射するまでＮ本のそれぞれのビーム光軸に沿って伝搬する。得られたレーザビームスポットのパターンは、Ｎ本の別個の列内のリンクか、同一の列内の別個のリンクか、同一のリンクかの上に、部分的に重複するか完全に重複するかのいずれかである。得られたレーザスポットは、互いからの前記列の長手方向のオフセットと、前記列の長手方向と垂直な方向のオフセットとの一方又は両方を有する。 （もっと読む）

【課題】 省スペースによって従来よりも多くの論理回路及びヒューズブロックを設けることができる半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】 ヒューズ露出窓を介して外部に露出して互いに並置された複数のヒューズ片を各々が含む複数のヒューズブロックがゲートアレイの近傍において縦列に配置され、電源配線と接地配線とが当該ヒューズ片の並置方向に沿って延在しており、ヒューズブロックの配置のために当該ゲートアレイの近傍のスペースを活用した半導体記憶装置。 （もっと読む）

【課題】マルチプレクサとクロック分割回路との間における相互の電源ノイズの影響を低減する。
【解決手段】外部クロック信号ＣＫに基づいて内部クロック信号ＬＣＬＫ１を生成するＤＬＬ回路１００と、内部クロック信号ＬＣＬＫ１に基づいて、互いに位相の異なる内部クロック信号ＬＣＬＫ２，ＬＣＬＫ２Ｂを生成するクロック分割回路２００と、内部データ信号ＣＤ，ＣＥに基づいて、クロック信号ＬＣＬＫ２，ＬＣＬＫ２Ｂにそれぞれ同期した内部データ信号ＤＱＰ，ＤＱＮを出力するマルチプレクサ３００とを備える。クロック分割回路２００に供給される内部電源電圧ＶＰＥＲＩ２とマルチプレクサ３００に供給される内部電源電圧ＶＰＥＲＩ３は、互いに異なる電源回路８２，８３によって生成され、且つ、該半導体装置内で分離されている。これにより、相互にノイズの影響を及ぼし合うことがなくなる。 （もっと読む）

【課題】良好な伝送性能と小さい配置面積を両立可能なデータバスを備える半導体装置を提供する。
【解決手段】本発明の半導体装置は、配線層Ｍ１、Ｍ２と、複数のデータ入出力端子と、Ｎ本のデータ線（ＤＵ、ＤＬ）を含むデータバスとを備え、Ｎ本のデータ線は所定の配線長の長短に応じた２種類のデータ線群を含む。配線層Ｍ１、Ｍ２にはデータ線（ＤＬ、ＤＵ）の各々に隣接する複数のシールド線（Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃ）が配置され、各データ線（ＤＬ、ＤＵ）は、配線層Ｍ１、Ｍ２の積層方向で互いに重ならない位置に配置される。このような配線構造により、各データ線（ＤＬ、ＤＵ）の間のカップリング容量を抑え、データバスのクロストークを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】様々な導通状態にある電気ヒューズを其々誤判定なく読み出すことのできる半導体装置及び半導体装置の制御方法を提供する。
【解決手段】選択トランジスタ９０３を介して検出ノードＡに接続された電気ヒューズ９０２と、選択トランジスタ９０３をオフさせた状態で検出ノードＡをプリチャージするプリチャージトランジスタ９０４と、選択トランジスタ９０３をオンさせ、プリチャージトランジスタ９０４をオフさせた状態で、検出ノードＡにバイアス電流を流すバイアストランジスタ９０５と、検出ノードＡにバイアス電流が流れている状態で検出ノードＡの電位を検出する検出回路９０６とを備え、バイアストランジスタ９０５は、バイアス電流の量を段階的又は連続的に減少させる。 （もっと読む）

【課題】並列駆動構成のＩ／Ｏバッファから出力される信号を安定化し、信頼性を向上する。
【解決手段】Ｉ／Ｏセル２は、１つの出力信号を正転信号と反転信号からなる相補信号として出力する相補型Ｉ／Ｏセルからなり、２つのＩ／Ｏセル２が並列接続された構成からなる。２つのＩ／Ｏセル２の出力部となるインバータ６の出力部は、配線１７によってそれぞれ接続されており、２つのＩ／Ｏセル２の出力部となるインバータ７の出力部は、配線１８によってそれぞれ接続されている。配線１７は、Ｉ／Ｏセル２の下辺側に２つのＩ／Ｏセル２を横断するように形成され。配線１８は、該配線１７の上方に形成されており、２つのＩ／Ｏセル２を横断するように形成されている。また、配線１７の配線長と配線１８の配線長は、略同等となるようにレイアウトされている。 （もっと読む）