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Fターム[5F088AB09]の内容

受光素子−共通事項、放射線検出 (20,668) | 素子本体材料 (1,163) | 材料 (1,116) | 2−6族 (143)

Fターム[5F088AB09]に分類される特許

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【課題】発光素子と受光素子とのペアを備えて微細化が可能である。
【解決手段】対をなす発光素子11と受光素子12とは共に微細な棒状の素子であり、微細な棒状発光素子11から放出された光を微細な棒状受光素子12で受光することによって、微細な棒状受光素子12の電気特性が変化する。こうして、微細な棒状発光素子11と微細な棒状受光素子12との対を非常に微細にして、電子デバイス10を非常に微細化することが可能になる。 (もっと読む)


【課題】
読み出し回路を備えた第一基板と受光素子を備えた第二基板をバンプ接続した量子型赤外線熱感知デバイスにおいて、HgCdTe等で構成された第二基板に影響を与えることなくシリコン基板等で構成された第一基板と、第二基板の熱膨張係数の違いに起因する隣接バンプ間の接触を防止する。
【解決手段】
量子型撮像素子は、読み出し回路を備えた第一基板と、前記第一基板とフリップチップボンディング(FCB)によって電気的に接続された、受光素子を備えた第二基板と、前記第一基板と前記第二基板をFCBによって電気的に接続する導体バンプ群と、各バンプの周囲を囲むように存在し、前記第一基板側にのみ固定され、前記第二基板との間に空隙を設けた絶縁壁とを有する。 (もっと読む)


【課題】複数の検出電流経路が発生することを防止し、光吸収層の表面状態にかかわらず、高感度で安定して検出することができる光検出素子及び光検出装置を提供する。
【解決手段】光検出素子は、透光性基板1、光吸収層2、電極3、電極4、接着層5、絶縁膜6、パッケージ7で構成される。透光性基板1上に光吸収層2が形成され、光吸収層2に電極3と電極4の一部が埋め込まれている。パッケージ7上に光検出部がジャンクションダウンで接着層5により接合されている。光吸収層2は、特定波長の光を選択的に吸収して、電気信号に変換する。測定する光は、透光性基板1の裏面から照射される。 (もっと読む)


【課題】 簡素な構造で適切な受光感度を得ることが可能な紫外線センサ素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 紫外線センサ素子は、ステム60に紫外線透過フィルタ72が形成されたキャップ70が溶接されて、チップ50が封止された構造を有する。外部から照射される紫外線は、紫外線透過フィルタ72を透過して、チップ50を構成するチップ状酸化亜鉛単結晶30の受光面であるa面に到達する。チップ状酸化亜鉛単結晶30のa面に紫外線が到達することによって、チップ状酸化亜鉛単結晶30の抵抗値は変化する。そして、抵抗値の変化に伴って、チップ状酸化亜鉛単結晶30を流れる信号の電流(光電流)の値も変化する。図示しない外部の装置は、端子62に接続されており、信号の電流値を検出し、当該電流値に基づいて、紫外線量を算出することができる。 (もっと読む)


【課題】高エネルギーγ線等の高エネルギー放射線に対しても、高感度かつ高いエネルギー識別能力を有するとともに、高い画像分解能を備えた半導体放射線画像検出器を得るための製造方法を提供する。
【解決手段】CdTe単結晶ウェーハ11上にp型CdTe単結晶層12をMOVPE法によりエピタキシャル成長させて形成する。次にp型Si単結晶基板14に導電性樹脂をコートし、前記CdTe単結晶ウェーハ上のp型CdTe単結晶層12と貼り合わせて硬化する。さらにCdTe単結晶ウェーハ11の非接合面およびSi単結晶基板14の非接合面にAuを蒸着して電極15および16を形成する。その後、溝17をCdTe単結晶ウェーハ側の電極16側よりSi単結晶基板14の内部に到達する深さで、X方向およびY方向にそれぞれ形成する。 (もっと読む)


【課題】光センシング装置及びその駆動方法を提供する。
【解決手段】光センシング画素内の光センサートランジスタとスイッチトランジスタとが、それぞれ同じ構造の酸化物半導体トランジスタで形成される光センシング装置、及び前記光センシング装置の動作信頼性を向上させることができる駆動方法が提供される。光センシング装置によれば、光センシング画素内の光センサートランジスタとスイッチトランジスタとは、一つの基板上で同じ構造に隣接して形成され、スイッチトランジスタへの光の入射を防止するために、スイッチトランジスタの光入射面には光遮蔽膜がさらに配される。また、光センシング装置の駆動方法によれば、経時的なスイッチトランジスタのしきい電圧シフトを防止するために、光遮蔽膜には負(−)のバイアス電圧が印加される。 (もっと読む)


【課題】気相Clを安定に均一に供給することができる放射線検出器の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】主ソース用サセプタ35aに収納されたソースSは、Cdの単体、Teの単体、Znの単体、CdTe、ZnTe、CdZnTeの少なくとも一つを含む材料からなり、検出層の形成過程では、主ソース用サセプタ35aに収納されたソースSを支持基板に供給することにより、多結晶膜または多結晶の積層膜(検出層)を形成する。一方、ソースSおよびそれを収納する主ソース用サセプタ35aの底面を貫通する複数個の開孔35Aを設け、主ソース用サセプタ35aの底面よりも下部に配置されたCl化合物からなる付加ソースS’ によるCl蒸気を、開孔35Aを通して支持基板に供給することにより、複数個の開孔35Aが設けられた箇所において、気相Clを安定に均一に供給することができる。 (もっと読む)


【課題】大面積X線検出器を提供する。
【解決手段】印刷回路基板に配置された複数のチップと、各チップに対応するように、その上に配置された複数のピクセル電極と、複数のピクセル電極と複数のピクセルパッドとを電気的に連結する再分配層と、を備え、再分配層上で、チップのピンパッドが形成された裏面上に形成された複数の第1電極パッドと、第1電極パッド及び第2電極ピンパッドを電気的に連結するワイヤーと、を備え、ワイヤーは、チップ間のギャップに配置される、大面積X線検出器である。 (もっと読む)


【課題】光触媒作用が向上した光触媒体及び光電極を提供する。
【解決手段】第1半導体層10と、第1半導体層10の伝導帯最下部のエネルギー準位より真空準位に近いエネルギー準位に伝導帯最下部のエネルギー準位を有する第2半導体14と、硫化物12と、を含み、硫化物12が第1半導体層10と第2半導体層14の両方に接触した構成とする。 (もっと読む)


【課題】波長が0.7μmから3μm程度までの近赤外〜赤外域に、高感度で、高品位の受光信号を得ることができる受光装置等を提供する。
【解決手段】InP基板1の裏面において、画素に対応する領域ごとに位置するマイクロレンズ21を備え、マイクロレンズが、波長0.7μm〜3μmの光に対する透過率のレンジが25%以下で、かつ該透過率が70%以上である樹脂材料で形成されている。 (もっと読む)


【課題】放射線の検出感度を維持しつつ、電線と電極部との剥離を抑制できる。
【解決手段】検出可能領域上に充填される第1充填材444は、原子番号9以下の元素で構成されているので、原子番号9を超える元素で構成される場合に比して、放射線の透過性がよい。このため、検出可能領域において、放射線の検出感度が維持できる。また、バイアス電極401と電線とが接続される接続部は、弾性を有する第2充填材445が充填されているため、硬化性を有する充填材に比して、延長電極部431と高電圧線432との密着性が保て、高電圧線432と延長電極部431との剥離を抑制できる。このように、本実施形態では、延長電極部431と高電圧線432とが接続される接続部と検出可能領域とで充填材を使い分けることにより、放射線の検出感度を維持しつつ、高電圧線432と電極部との剥離を抑制する。 (もっと読む)


【課題】画素毎のバンプが増加してもフリップチップボンディングを適切に行うことができる赤外線撮像装置を提供する。
【解決手段】複数の画素が配列した赤外線イメージセンサ100と、赤外線イメージセンサ100から信号を読み出す読み出し回路300と、赤外線イメージセンサ100と読み出し回路300との間に設けられた中継部材200と、が設けられている。複数の画素の各々には、互いに相違する波長の赤外線を吸収する複数の吸収層106、110と、複数の吸収層にバイアスを印加するバイアスバンプ159と、複数の吸収層毎に設けられた出力バンプ157、158と、が設けられている。出力バンプは、読み出し回路に設けられた入力バンプ302、303に接続され、バイアスバンプは、読み出し回路に設けられたバイアス供給バンプ304に、中継部材に設けられた中継配線207を介して接続されている。 (もっと読む)


【課題】CZTS等の硫化物系化合物半導体を含む光吸収層と、CdSを含むバッファ層とを組み合わせた光電素子において、可視光領域の長波長側における量子効率の更なる向上を図ること。
【解決手段】p型半導体層である光吸収層16と、バッファ層18と、窓層20と、を備える光電素子10。光吸収層16が、Cu、Zn、Sn及びSを含む硫化物系化合物半導体の膜であり、バッファ層18が、カドミウム塩、チオウレア基を有する化合物及びこれらが溶解している水を含み、チオウレア基のカドミウムに対するモル比が5〜40であるアルカリ性の反応液を用いたCBD法により形成されたCdS膜を有する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、放射線に対して従来より高感度の放射線検出器及び放射線検出器の製造方法を提供する。
【解決手段】照射された放射線に応じて光電変換層18で電荷(キャリア)が発生し、発生した正孔がアバランシェ層22でアバランシェ増幅作用により増幅されて、電荷収集電極40で収集され、読み出される。光電変換層18とアバランシェ層22との間、アバランシェ層22上には、電荷収集電極40が形成されているピッチ(画素ピッチ)Lに応じて格子状に中間電極20が形成されている。中間電極20は、光電変換層18に接する側から、正孔阻止層30、導電層32、及び電子吸収層34の順番で形成されている。 (もっと読む)


【課題】放射線の検出感度を向上させることができる放射線検出素子、及び放射線検出素子の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る放射線検出素子10は、放射線を検出可能な化合物半導体からなる半導体基板100と、半導体基板100の表面に設けられ、表面側から半導体基板100の内部に向けて徐々に幅が狭まる溝120と、半導体基板100の表面の平坦な領域と半導体基板100の表面の反対側の面とのそれぞれに設けられる電極とを備える。 (もっと読む)



ピクセル型画像検出器において共有電荷を提供するシステム及び方法が提供される。一つの方法は、ピクセル型固体フォトン検出器に、電荷分布が少なくとも2個のピクセルによって検出されるような構成として複数のピクセルを設けるステップと、少なくとも2個のピクセルから電荷情報を得るステップとを含んでいる。この方法はさらに、得られた電荷情報に基づいて電荷分布の複数のピクセルとの相互作用の位置を決定するステップを含んでいる。 (もっと読む)


【課題】単一のプラズモン構造及び半導体吸収層の配列を用いて二次元検出を可能にする光検出器を提案する。
【解決手段】この光検出器は、
・ドープ半導体層(12)と、
・前記半導体層(12)の下に位置した反射層(22)と、
・前記半導体(12)と共に、表面プラズモン共鳴器を形成する、前記半導体層(12)上に配置された金属構造(16)と、
・前記半導体層(12)内に形成され、及び前記半導体層のドーピングとは反対にドープされた複数の半導体領域(24)と、を備えており、
・各々の半導体領域(24)について、導体(26)が前記半導体層(22)から少なくとも半導体領域(24)まで貫通し、及び対応する導体(26)に関連した半導体領域(24)と共に前記金属構造(16)から電気的に絶縁されており、このようにして前記光検出器の基本検出表面を画定していること。 (もっと読む)


放射線検出器アセンブリ(20)は、放射粒子を電気検出パルスへ変換するよう構成される検出器アレイモジュール(40)と、検出器アレイモジュールと動作上接続されるASIC(42)とを有する。ASICは、検出器アレイから受け取った電気検出パルスをデジタル化するよう構成される信号処理回路(60)と、試験用電気パルスを信号処理回路に投入するよう構成されるテスト回路(80)とを有する。テスト回路は、信号処理回路に投入される試験用電気パルスを測定するよう構成される電流メータ(84)と、信号処理回路に投入される試験用電気パルスを生成するよう構成される電荷パルス発生器(82)とを有する。放射線検出器アセンブリは、ASIC(42)を検出器アレイモジュール(40)と動作上接続することによって組み立てられ、組み立てられた放射線検出器アセンブリのASICの信号処理回路(60)は、放射線を使わずに試験される。
(もっと読む)


【課題】入射電離放射線の二つの特性の監視、記録、解析を一つの装置で行う電離放射線監視用アセンブリを提供する。
【解決手段】電離放射線監視用のアセンブリは、入射放射線に応じて電荷を生成する検出基板であって、電離放射線検出ボリュームのアレイを形成するように構成される検出基板と、前記検出ボリュームに対応する読出し回路のアレイを支持する回路基板とを備え、前記第一の読出し回路は、第一のエネルギー範囲における電離放射線の、対応する第一の放射線検出ボリューム内での検出に対応する電流パルスに応答して第一の計数値を増分する光子計数回路構成を含み、前記第二の読出し回路は、第二のエネルギー範囲における電離放射線の、対応する二の放射線検出ボリューム内での検出に対応する電流パルスに応答して第二の計数値を増分する光子計数回路構成を含む。 (もっと読む)


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