【課題】装置を複雑化、大型化させることなく、ウエハのエッジに付着した異物を洗い落とす。
【解決手段】洗浄ブラシ３は、円柱状である。洗浄ブラシ３の外周面上には、その中心軸Ｐ方向の高さ位置を連続的に変化させながら周方向に延びるＶ字状の切り込み部１１が設けられている。ウエハＷの下面の周縁部及び端面部を洗浄する場合には、切り込み部１１における高さ位置が最も高い部分ＡがウエハＷと当接するように、洗浄ブラシ３の中心軸Ｐ回りの回転位置を位置決めする。また、ウエハＷの上面の周縁部及び端面部を洗浄する場合には、切り込み部１１における高さ位置が最も低い部分ＢがウエハＷと当接するように、洗浄ブラシ３の回転位置を位置決めする。 （もっと読む）

【課題】 簡易な構成で、基板の表面を液滴で処理する基板処理方法と基板処理装置と液滴保持治具とを提供しようとする。
【解決手段】
従来の基板を液滴で処理する基板処理方法にかわって、環状の開口を形成され前記開口から気体を噴き出すことをできる治具を準備する準備工程と、基板の表面に液滴を付着させる付着工程と、基板の表面の直交方向から基板を見て基板の表面に付着した前記液滴を前記開口で囲う様に治具を保持して前記開口から基板の表面に気体を吹き付けながら前記治具を基板の表面に沿って相対移動させる走査工程と、を備える、ものとした。 （もっと読む）

【課題】基板処理装置のメンテナンス作業などで用いる足場の下方空間を有効に利用できるようにする。
【解決手段】複数の処理室１１０を備えた基板処理装置１００を支持するために床面上に配置される支持フレーム１４０に，床面から所定の高さの部位に処理室の周囲から外側に張り出すように足場１６０を直接設けた。足場は，支持フレームの外側に取り付けられた複数の支持ブラケット１６２と，支持ブラケットに水平に支持された足場板１６４とを備える。 （もっと読む）

【課題】ノズルからの処理液の落下による基板の欠陥の発生が防止された基板処理装置を提供することである。
【解決手段】現像液ノズル２１の上部に形成された現像液供給口２３から下方に延びるように現像液流路２１ａが形成されている。現像液流路２１ａの一端部から斜め上方に延びるように液貯留空間２１ｂが形成されている。液貯留空間２１ｂの上端部から各現像液吐出口２２に向かって下方に延びるように、５つの現像液流路２１ｃが形成されている。また、液貯留空間２１ｂから上方に延びるように液吸引路２４が形成されている。液吸引路２４には、吸引管２５を介して吸引装置ＳＤが接続されている。バルブＶ３を開くことにより、吸引装置ＳＤによって液貯留空間２１ｂ内の現像液が吸引される。 （もっと読む）

【課題】被処理物の種々のサイズに対応可能なプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ処理装置Ｍは、長手方向に連なる複数の電極ユニット１０，１０を備えている。各電極ユニット１０は、互いに対応する長さの第１、第２電極部材１１，１２と、第１誘電部材１３と、一対のサイドフレーム１６を有している。複数の電極ユニット１０，１０における第１電極部材１１，１１どうし、第１誘電部材１３，１３どうし、及び幅方向の同側のサイドフレーム１６，１６どうしが、それぞれ互いに同一規格に形成されるとともに長手方向に連ねられている。 （もっと読む）

【課題】フロンの代替となる程度に洗浄能力の高く、簡便に取り扱うことができる洗浄組成物と、その使用方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、ジメチルエーテルと脂肪族炭化水素とを含有する洗浄組成物とし、さらに水を含有する構成とする。液体状態で存在する条件下で、洗浄浴として、あるいは、噴出口より前記洗浄組成物を前記洗浄対象物に向けて噴出させて用いる。 （もっと読む）

【課題】基板処理装置に故障が発生した場合、特に重大な故障でない限り、装置全体を停止させることなく、基板に対する一部の処理を継続して、基板を洗浄・回収したり、装置内の基板を容易に外部に排出したりすることで、基板が処理不能となるリスクを低減できるようにする。
【解決手段】研磨部３、洗浄部４及び搬送機構７，２２を有する基板処理装置の運転方法であって、研磨部３、洗浄部４及び搬送機構７，２２のいずれかで異常を検知した際に、異常を検知した場所及び基板の基板処理装置内の位置によって基板を分類し、異常検知後における基板に対する処理を分類した基板毎に変えて行う。 （もっと読む）

【課題】設置スペースの自由度の高い超音波洗浄装置の提供にある。
【解決手段】本発明の超音波洗浄装置は、筐体１１と、該筐体の先端部に取り付けられ吐出孔の直径が一定の直線状丸孔に形成され、かつ後端部面がその外縁から前記吐出孔に向かって所定の傾斜角で下降する円錐状に形成されたノズル１２と、該ノズルの後端部に対向して配置された円板状の超音波振動子１３と、前記筐体の側面に形成された伝達液供給口１７及び排出口１８とを備えた超音波洗浄装置であって、前記ノズルの吐出孔に連設して、該吐出孔から供給された伝達液を保持するとともに超音波振動子からの超音波を被洗浄物に対し伝達・照射するため超音波伝達管２０を配置したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】操作画面にレシピのステップ毎に必要なステータスを視覚的に分かりやすく表示させる。
【解決手段】複数のステップから構成されるレシピの作成を行う操作画面を有し、この操作画面上からの指示で前記レシピを実行させることにより、基板の処理を行う基板処理装置であって、前記レシピの各ステップ名を順番に表示すると共に、各ステップに対応する内容を示すアイコンを前記操作画面に表示し且つガス配管図Ｇ２を前記操作画面に表示する表示手段を備える。 （もっと読む）

【課題】ウェーハを、凹部が形成された裏面を露出した状態に全面載置型のスピンナテーブルに保持して洗浄した後に、該ウェーハを安全、かつ確実に取り上げて所定の搬送先に円滑に搬送する。
【解決手段】スピンナテーブル７１に保持して洗浄したウェーハ１の環状凸部５Ａをウェーハ取り上げ機構９０の吸着パッド９４で吸着して取り上げ、次いで、露出した表面側を搬送ロボット２３のロボットピック２３ｃで受け取って吸着、保持し、搬送ロボット２３を作動させてウェーハ１を回収カセット２２Ｂ内に移送して収容する。 （もっと読む）

【課題】
回転霧化式洗浄ノズルの着脱を容易にし、交換時の調芯作業を必要としない回転霧化式洗浄ノズルを提供すること。
【解決手段】
ノズル本体部２は、ノズル本体部２と接合される中間マニホールド３と、中間マニホールド３と接合される取付けマニホールド４とによりノズル取付け部２６へ転霧化式洗浄ノズル１を取り付ける。 （もっと読む）

【課題】ウェハー付きセラミックスブロックの表面とセラミックスブロック側のウェハー外周部に残留する油等の溶媒とダイヤモンド粉末を除去する洗浄装置および洗浄方法を提供する。
【解決手段】洗浄装置は、回転電動部を内蔵した洗浄機本体と、回転電動部の回転が伝達されるように洗浄機本体に取り付けられた回転ブラシ部と、回転ブラシ部に複数の整列体を形成するようにその中心から外周に向くように円弧状に植設されたブラシと、を有する。洗浄方法は、洗浄液に沈めたウェハーに洗浄装置を当てることにより、残留している溶媒とダイヤモンド粉末を除去する。 （もっと読む）

【課題】プロセスレシピファイルを容易に作成することができる、基板処理装置を提供する。
【解決手段】定義ファイル記憶部１１には、予め定める基準プロセスレシピ中の所定のステップにおける所定の条件を入力可能なウィザード画面をディスプレイ２に表示させるためのシナリオファイルと、基準プロセスレシピ中の各ステップに対応して用意され、それぞれ対応するステップにおける各条件を規定する部分レシピファイルとが記憶されている。ウィザード画面表示制御部１３は、シナリオファイルに基づいて、ウィザード画面をディスプレイ２に表示させる。ウィザード画面で条件が入力されると、レシピファイル作成処理部１４は、ウィザード画面での入力に基づいて、プロセスレシピファイルを作成し、そのプロセスレシピファイルをレシピファイル記憶部１２に保存する。 （もっと読む）

【課題】 温度調整装置など、電力が供給されることによって作動する装置を、断線検出という警報を発生させることなく、所望する任意の電力量に制限して使用する。
【解決手段】 温度調整装置１００に、流体の温度の値を目標値にするための操作量を演算する操作量演算部３０と、演算された操作量に対応する電力が供給されて流体の温度が調整される温度調整部４０とを含む電力制御装置２０が備えられている。この電力制御装置２０には、更に電力上限値設定部５０と操作量補正部６０が設けられる。電力上限値設定部５０では、温度調整部４０に供給される電力の上限値が設定される。操作量補正部６０では、設定された電力上限値を超えないように、演算された操作量が補正されて、温度調整部４０に出力される。
（もっと読む）

【課題】ウェーハが洗浄装置のスピンナーテーブルに保持された状態が長くなった場合においても、ウェーハを容易に搬出できるようにする。
【解決手段】ウェーハを吸引保持する保持面２５０ｄを有し回転可能なスピンナーテーブル２５０と、保持面２５０ｄに吸引力を伝達する吸引源２５２と、スピンナーテーブル２５０に保持されたウェーハに洗浄水を供給する洗浄水供給ノズル２５１とを少なくとも備えた洗浄装置２５において、保持面２５０ｄにおいては吸引源２５２に連通する細孔が開口し、吸引源２５２は、スピンナーテーブル２５０の回転時に作用する第一の吸引力とスピンナーテーブル２５０の停止時に作用する第二の吸引力とを選択する切り替え部を有する。 （もっと読む）

【課題】プラズマ発生部のメンテナンス作業を容易に行うことが可能なワーク処理装置を提供する。
【解決手段】このワーク処理装置Ｓは、供給される所定のガスをプラズマ化するプラズマ発生部１８を有し、このプラズマ発生部１８からプラズマ化したガスを放出するプラズマ発生装置６と、プラズマ発生部１８の下方で処理対象であるワークＷを支持する搬送装置２とを備え、ワークＷに対してプラズマ化したガスを照射することにより所定の処理を施与するものであって、プラズマ発生部１８がワークＷ上に位置するようにプラズマ発生装置６を据え付けるための据付枠４を備えている。そして、プラズマ発生装置６は、プラズマ発生部１８がワークＷ上に配置される据付位置から水平方向に引き出し可能に据付枠４に対して取り付けられている。 （もっと読む）

【課題】処理液供給ライン内に付着する汚染物質を効果的に除去して処理液供給ライン内を洗浄することができ、更には既存の処理液供給ラインに大幅な変更を加えることなく容易に接続できる配管ユニット及び処理液供給ライン洗浄方法を提供すること。
【解決手段】上流側に薬液Ａ及び薬液Ｂ供給ライン１２Ａ、１２Ｂが接続され、下流側に処理槽２０が接続され、薬液Ａ及び薬液Ｂ供給ライン１２Ａ、１２Ｂから供給される処理液を処理槽２０に供給するための装置側薬液Ａ及び薬液Ｂ供給ライン１３Ａ、１３Ｂに分岐接続されてなる配管ユニット３０であって、装置側薬液Ａ及び薬液Ｂ供給ライン１３Ａ、１３Ｂに切換え可能に分岐接続される分岐管３１と、分岐管３１から並列に分岐接続される強流ライン３４及び弱流ライン３５と、強流ライン３４を開閉するバルブ３７と、を備える。 （もっと読む）

【課題】この発明は基板を上下駆動する際にダウンフローの乱れによって基板が汚染されることがないようにした処理装置を提供することにある。
【解決手段】清浄空気が上方から下方に向かって流がされるとともに、基板を上下方向に駆動する上下駆動装置２７が設けられたチャンバ５ａを有する基板の処理装置であって、
上下駆動装置は、基板を水平に支持する上下可動体１８と、上下可動体を上下方向に駆動する上下駆動機構２８と、上下可動体の幅方向両端部に設けられ上下可動体が上下駆動機構によって上下方向に駆動されたときにチャンバの上方から下方に向かって流れる清浄空気を上下可動体の幅方向両端部において幅方向外方に向かってガイドする傾斜面２６とを具備する。 （もっと読む）

【課題】実施が容易で、デバイス性能に影響を与えずに、レジスト層を基板から除去する方法を提供する。
【解決手段】基板に接触するバルクレジストと、レジスト層の外表面に存在するレジスト外皮とを備えたレジスト層を、基板から除去する方法であって、基板に接触するレジスト層に、バルクレジストについて可溶でレジスト外皮について不溶である液体有機溶媒を少なくとも局所的に供給するステップと、メガソニックエネルギーを有機溶媒に供給して、レジスト外皮を解体し、バルクレジストを有機溶媒中に溶解させる有機溶媒キャビテーションを生成することによって、レジスト層を基板から剥がすステップとを含む。 （もっと読む）

本発明は、液体、気体、流動粉体、分散、これらの組合せ等を含む１つ以上の処理流体によりマイクロエレクトロニクス半製品を処理する装置を提供する。
（もっと読む）