基板処理装置及びそれに用いられる支持フレーム
【課題】基板処理装置のメンテナンス作業などで用いる足場の下方空間を有効に利用できるようにする。
【解決手段】複数の処理室１１０を備えた基板処理装置１００を支持するために床面上に配置される支持フレーム１４０に，床面から所定の高さの部位に処理室の周囲から外側に張り出すように足場１６０を直接設けた。足場は，支持フレームの外側に取り付けられた複数の支持ブラケット１６２と，支持ブラケットに水平に支持された足場板１６４とを備える。
【解決手段】複数の処理室１１０を備えた基板処理装置１００を支持するために床面上に配置される支持フレーム１４０に，床面から所定の高さの部位に処理室の周囲から外側に張り出すように足場１６０を直接設けた。足場は，支持フレームの外側に取り付けられた複数の支持ブラケット１６２と，支持ブラケットに水平に支持された足場板１６４とを備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は，被処理基板に対して所定の処理を施す処理室を備えた基板処理装置及びそれを支持するのに用いられる支持フレームに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造工程においては，ガラス基板（例えば液晶ディスプレイなどのフラットパネルディスプレイ基板）や半導体ウエハ（以下，単に「ウエハ」とも称する）などの被処理基板に対してエッチング処理，成膜処理などの所定のプロセス処理を施すための基板処理装置が用いられている。近年，高集積化および高スループット化を目的として，複数の処理室（チャンバ）を備えたマルチチャンバ型の基板処理装置が広く用いられている。この種の基板処理装置においては，複数の処理室と搬送室がゲートバルブを介して接続されており，搬送室内に備えられている搬送機構によって被処理基板を各処理室に順番に連続的に搬入して，各処理室にて被処理基板に対して個別のプロセス処理が施されることになる。
【０００３】
上記のような基板処理装置をクリーンルーム内に設置するにあたっては，処理室を載置できる大きさの支持フレームをクリーンルームの床面に配置して，この支持フレームの上に処理室を載置するとともに，支持フレームの内部空間に制御機器，整合器，真空ポンプ，各種電気ケーブル，ガス管などを配設している。例えば，下記特許文献１，２には処理室を支持する支持フレームについての記載がある。
【０００４】
ところで，上記のように処理室を支持フレームに載置すると，処理室がクリーンルームの床面から上方に位置することになる。しかも，最近では処理室の大型化が進んでいることもあり，処理室の天井部はさらに高くなっており，作業者は床面上に直接立った状態では処理室のメンテナンス作業を行うことが難しくなってきている。そこで従来では支持フレームに沿って足場を組んで，作業者はその足場に立って処理室のメンテナンスを行うようにしていた。
【０００５】
【特許文献１】特開平７−１９３１１５号公報
【特許文献２】特開平８−３３５５４０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら，従来，足場を組むために，処理室の支持フレームに隣接して足場用の支持フレームを設けてその上に足場板を敷設するようにしていたため，足場用の支持フレームが妨げとなり，例えばメンテナンス作業用の工具や測定機器を置くことができないなど，足場下の空間を有効に利用することができなかった。
【０００７】
特に，被処理基板が大型化していることに伴い基板処理装置が大規模となっている今日においては，クリーンルームの床面において支持フレームが占める面積がより広くなる傾向にあり，足場下の空間を利用できなければ，その分クリーンルームの床面積をさらに拡張する必要性が生じるといった問題にも繋がりかねなかった。
【０００８】
また，大型の処理室の場合，処理室の下方空間すなわち支持フレーム内に収容する機器，例えば真空ポンプや整合器なども必然的に大きくなるため，処理室はより高い位置に支持されるようになる。このような環境下においては，作業者は処理室の下方空間へ立ち入ってメンテナンス作業を行うなど，メンテナンス用の足場の下方空間を利用することが可能になる。ところが，従来は支持フレームに隣接する足場用のフレームが作業者の通行の妨げとなり，作業性が低下するという問題もある。
【０００９】
そこで，本発明は，このような問題に鑑みてなされたもので，その目的とするところは，例えばメンテナンス作業で用いる足場の下方空間を有効に利用することができる基板処理装置およびそれに用いられる支持フレームを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために，本発明のある観点によれば，被処理基板に対して所定の処理を施す処理室を備えた基板処理装置を支持するために床面上に配置される支持フレームであって，前記床面から所定の高さの部位に前記処理室の周囲から外側に張り出すように足場を直接設けたことを特徴とする支持フレームが提供される。この足場は，例えば支持フレームの外側に取り付けられた複数の支持ブラケットと，前記支持ブラケットに水平に支持された足場板とを備える。
【００１１】
上記課題を解決するために，本発明の別の観点によれば，被処理基板に対して所定の処理を施す処理室と，床面上に配置されて前記処理室を支持する支持フレームと，を備えた基板処理装置であって，前記床面から所定の高さの部位に，前記処理室の周囲から外側に張り出すように前記支持フレームの外側に直接取り付けられた複数の支持ブラケットと，前記支持ブラケットに水平に支持された足場板と，を備えたことを特徴とする基板処理装置が提供される
【００１２】
このような発明によれば，基板処理装置を支持する支持フレームに足場を直接設けるので，足場板の下方空間にこの足場板を支持するフレームや脚を設ける必要がなくなる。これにより，足場板の下方空間も有効に利用することができるようになる。
また，支持フレームに足場を直接設けることにより，メンテナンス作業を行い易い位置に足場を形成することができる。
【００１３】
また，上記各支持ブラケットは，形鋼によって形成されることが好ましい。これによって，支持ブラケットの剛性が高まり，この支持ブラケットによって支持される足場板への最大積載荷重を増やすこともできる。
【００１４】
各支持ブラケットは，支持フレームに対して着脱自在であることが好ましい。これによって，足場板が必要な箇所にのみ支持ブラケットを取り付けることができる。また，支持ブラケットを取り外した状態で支持フレームを輸送することができるため，支持フレームの輸送コストを抑えることも可能となる。
【００１５】
また，上記処理室は，基体部と，この基体部に着脱自在の蓋体部とから構成されており，さらに前記基体部から離脱した前記蓋体部を前記基体部の側方の待避部位までスライド可能なレールを備え，前記レールの周囲にも足場を設け，前記処理室の周囲の足場との間で往来できるようにすることが好ましい。これによれば，作業者は処理室周囲の足場とレール周囲の足場との間を往来しながら，基体部の内部のメンテナンスを行うことができるとともに，基体部からレール上に退避させた蓋体部のメンテナンスも行うことができる。
【００１６】
また，上記処理室の周囲の足場と上記レールの周囲の足場の間に，これらの足場間の往来を妨げる扉を設けるようにしてもよい。これらの足場への移動を扉によって制限することで，レールの周囲の足場には必要な場合以外は立ち入ることができないようにすることができるので，メンテナンス作業の安全性を向上させることができる。
【００１７】
この場合，上記扉の開閉状態を検出するセンサと，前記センサの検出結果に応じて前記蓋体部の着脱動作を制御する制御部と，を備え，前記制御部は，前記センサが前記扉の開状態を検出している間は前記蓋体部の着脱動作ができないように規制することが好ましい。これによって，例えば着脱動作中の蓋体部が足場板上の作業者に接触するなどの事故を未然に防止することができ，メンテナンス作業の安全性をより向上させることができる。
【００１８】
また，上記扉は，外扉と，この外扉に対して回動自在な内扉とからなる二重扉で構成され，前記外扉は前記足場の幅よりも狭い幅で構成して，前記足場の外側寄りに設けた支柱部に枢支し，前記内扉は前記外扉の戸先側に枢支するようにしてもよい。これによれば，外扉を閉じても，足場の内側（外扉の戸先と支持フレームとの間）には扉が存在しない隙間が形成される。このため，たとえ蓋体部の一部が支持フレームやレールよりも外側（足場側）に張り出している場合でも，蓋体部をレールに沿ってスライドさせるときには，外扉と内扉を閉じてレールの周囲の足場への立ち入りを禁止するとともに，蓋体部と外扉との干渉を防ぐことができる。また，蓋体部が閉じているときには，内扉を開いた状態で外扉を閉じることにより足場の内側の隙間を閉じることができる。これにより，レールの周囲の足場への作業者の立ち入りを規制できる。
【００１９】
また，上記扉にロック機構を設け，前記制御部は，前記蓋体部が閉状態を検出している間及び前記蓋体部の着脱動作が行われている間は，前記扉が開かないようにロックするようにしてもよい。蓋体部が閉状態のときには，レール上には蓋体部が存在しないため，レール近傍に大きな空間が生じてしまい作業者が落下する虞がある。このように作業者が落下する虞がある場合には，扉をロックすることでレール周囲の足場には強制的に作業者が立ち入ることができないようにすることができる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば，基板処理装置を支持する支持フレームに足場を直接設けることにより，足場板の下方空間も有効に利用することができるようになるとともに，処理室などのメンテナンス作業を行い易い位置に足場を形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下に添付図面を参照しながら，本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお，本明細書および図面において，実質的に同一の機能構成を有する構成要素については，同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００２２】
（第１実施形態にかかる基板処理装置の構成例）
まず，本発明を複数の処理室を備えるマルチチャンバ型の基板処理装置に適用した場合の実施形態について図面を参照しながら説明する。図１は，本実施形態にかかる基板処理装置の外観構成の概略を示す斜視図である。図２は図１に示す基板処理装置の平面図（図１矢視Ａ）であり，図３は正面図（図１矢視Ｂ）である。図１〜図３に示す基板処理装置１００は，被処理基板としてのフラットパネルディスプレイ用基板（ＦＰＤ用基板）に対してプラズマ処理を施すための３つの処理室１１０（１１０Ａ〜１１０Ｃ）を備える。
【００２３】
各処理室１１０は，例えば一辺約３ｍのＦＰＤ用基板を載置する載置台が設けられた基体部１１２（１１２Ａ〜１１２Ｃ）と，この基体部１１２に着脱自在に設けられ，処理室１１０内に反応エネルギを供給する電極や処理ガス雰囲気を形成するためのシャワーヘッドなどを備えた蓋体部１１４（１１４Ａ〜１１４Ｃ）で構成されている。処理室１１０内部のメンテナンス作業を行う際には，蓋体部１１４は基体部１１２から取り外される。これによって処理室１１０の天井部が開放され処理室１１０の内部の部材を交換または調整することができる。なお，各処理室１１０を同一の処理（例えばエッチング処理等）を行うように構成してもよいし，互いに異なった処理（例えばエッチング処理とアッシング処理等）を行うように構成してもよい。
【００２４】
各処理室１１０は，断面多角形状（例えば断面矩形状）の搬送室１２０の側面にゲートバルブ１０２（１０２Ａ〜１０２Ｃ）を介して連結されている。搬送室１２０にはさらに，ロードロック室１３０がゲートバルブ１０４を介して連結されている。このようにして本実施形態にかかる基板処理装置１００において，複数の処理室１１０とロードロック室１３０は，搬送室１２０を囲むように配置されている。また，ロードロック室１３０には，基板搬出入機構（ここでは図示を省略）がゲートバルブ１０６を介して連結されている。
【００２５】
上記複数の処理室１１０，搬送室１２０，およびロードロック室１３０は，クリーンルームの床面上に配置された箱状をなす支持フレーム１４０に載置されており，クリーンルームの床面から所定の高さ，例えば１８００ｍｍに高さ調整されている。これによって，ＦＰＤ用基板を，その搬送高さ（パスライン）を保ちつつ基板処理装置１００へ搬入することができる。
【００２６】
また，各室を支持フレーム１４０に載置することによって，各室の下方すなわち支持フレーム１４０内に空間を確保することができる。この空間には例えば各室の駆動部を制御する制御機器，高周波電源，整合器，その他電気機器，測定機器，真空ポンプを含む排気装置，各種電気ケーブル，ガス管などが配設されている。
【００２７】
支持フレーム１４０は，各室を安定的に支持するために十分な強度を有しており，例えば金属製の角パイプやＨ形鋼をはじめとする形鋼によって構成されている。また，複数の処理室１１０，搬送室１２０，およびロードロック室１３０が大型である場合などには，支持フレーム１４０の上面に例えば形鋼によって構成された梁部材を渡して，その上に各室を載置するようにしてもよい。これによって，各室の筐体の撓みを防止することができる。
【００２８】
さらに基板処理装置１００は，例えばメンテナンス作業で用いる足場１６０を備えている。具体的にはこの足場１６０は，クリーンルームの床面から所定の高さ（例えば１８００ｍｍ）で支持フレーム１４０からその外側に水平に張り出すように備えられている。上記のように，本実施形態にかかる基板処理装置１００において，複数の処理室１１０とロードロック室１３０は搬送室１２０を囲むように配置されており，これらの室は支持フレーム１４０上に載置されている。したがって，図１，図２に示すように，足場１６０は処理室１１０とロードロック室１３０の周囲に位置することになる。作業者は，この足場１６０上を目的の地点にまで移動して，各処理室１１０，搬送室１２０，およびロードロック室１３０のメンテナンスを行うことができる。
【００２９】
このような本実施形態にかかる足場１６０は，支持フレーム１４０に直接固定されることによって支持されるものであり，自らを支持するフレームや脚を備えていない点に特徴がある。足場１６０のより具体的な構成例については後述する。
【００３０】
本実施形態にかかる基板処理装置１００によってＦＰＤ用基板に対してプラズマ処理を行う際には，まず基板搬出入機構（図示せず）によってＦＰＤ用基板をロードロック室１３０内へ搬入する。このとき，ロードロック室１３０内に処理済みのＦＰＤ用基板があれば，その処理済みのＦＰＤ用基板をロードロック室１３０内から搬出し，未処理のＦＰＤ用基板と置き換える。ロードロック室１３０内へＦＰＤ用基板を搬入した後，ゲートバルブ１０６を閉じる。
【００３１】
次いで，ロードロック室１３０内を所定の真空度まで減圧した後，搬送室１２０とロードロック室１３０間のゲートバルブ１０４を開く。そして，ロードロック室１３０内のＦＰＤ用基板を搬送室１２０内の搬送機構（図示せず）により搬送室１２０内へ搬入した後，ゲートバルブ１０４を閉じる。
【００３２】
続いて，搬送室１２０と処理室１１０との間のゲートバルブ１０２を開き，上記搬送機構により処理室１１０内の載置台に未処理のＦＰＤ用基板を搬入する。このとき，処理済みのＦＰＤ用基板があれば，その処理済みのＦＰＤ用基板を搬出し，未処理のＦＰＤ用基板と置換える。
【００３３】
処理室１１０内では，載置台上に載置されたＦＰＤ用基板に対してシャワーヘッドから処理ガスを供給しつつ，下部電極もしくは上部電極のいずれか一方，またはこれらの両方に高周波電力を供給して下部電極と上部電極との間に処理ガスのプラズマを発生させる。これによってＦＰＤ用基板に対して所定のプラズマ処理が施される。
【００３４】
（足場の構成例）
ここで本実施形態にかかる足場１６０の具体的な構成例について図面を参照しながら詳細に説明する。図４は，基板処理装置の支持フレームを説明するための斜視図である。なお，図４に示すように，処理室１１０，搬送室１２０，およびロードロック室１３０は，支持フレーム１４０の上側に載置される。
【００３５】
図４に示すように，支持フレーム１４０には，クリーンルームの床面から所定の高さに，処理室１１０の周囲から外側に張り出すように，複数の支持ブラケット１６２が直接取り付けられている。ただし，足場１６０を設けない箇所には，支持ブラケット１６２は取り付けられない。例えば，ロードロック室１３０に対するＦＰＤ用基板の搬出入の妨げにならないように，そのゲートバルブ１０６の下方には足場１６０を設けないようにする。したがって，この箇所には支持ブラケット１６２は取り付けられない。
【００３６】
また，本実施形態においては，複数の支持ブラケット１６２は，支持フレーム１４０の上端部を構成する梁部材１４２に取り付けられている。これら複数の支持ブラケット１６２の上に複数の足場板１６４が敷かれており，これによって足場１６０が形成される。支持ブラケット１６２は，高い剛性を有しており，例えばＨ形鋼で構成されている。また，足場板１６４は，撓み量が小さくかつ軽量であることが好ましく，例えばメッシュ構造のアルミニウムやステンレス鋼によって構成される。さらに，足場板１６４の表面は滑り止め加工が施されていることが好ましい。
【００３７】
ここで，支持ブラケット１６２の具体的な取付例について図面を参照しながら説明する。図５は，支持ブラケット１６２の取付例を説明するための斜視図であり，支持ブラケット１６２と梁部材１４２との接続部を拡大して示している。図６は，図５に示す接続部を側面から見た図である。図５と図６に示すように，本実施形態にかかる梁部材１４２は，処理室１１０，搬送室１２０，およびロードロック室１３０を安定的に支持するため，高い剛性を有する例えばＨ形鋼で構成されている。また，この梁部材１４２を支える柱部材１４４もＨ形鋼で構成されることが好ましい。
【００３８】
梁部材１４２には，その両フランジ間にベース板１７０が差し渡されて溶接されている。そして支持ブラケット１６２は，その端部をベース板１７０にボルトなどの締結部材１７２によって締結されている。これによって，複数の支持ブラケット１６２が支持フレーム１４０に確実かつ強固に取り付けられる。
【００３９】
支持フレーム１４０の梁部材１４２に取り付けられた複数の支持ブラケット１６２の上に複数の足場板１６４を敷いて固定することによって足場板１６４が水平に支持され，足場１６０が形成される。また，足場１６０には作業者の落下を防止するための柵を設けるようにしてもよい。具体的には例えば図６に示すように，足場１６０の外側の側面に沿って柵１６６を取り付けるようにしてもよい。これによって足場１６０における安全性を向上させることができる。
【００４０】
ところで，本実施形態においては，複数の支持ブラケット１６２は，支持フレーム１４０の上端の梁部材１４２に取り付けられているため，足場１６０の高さは支持フレーム１４０の高さとほぼ同じになる。これに対して，足場１６０をより低い位置に設ける場合には，例えば梁部材１４２と同様の梁部材を，梁部材１４２と床面との間で水平となるように柱部材１４４に取り付けて，これに支持ブラケット１６２を取り付けるようにしてもよい。
【００４１】
また，処理室１１０，搬送室１２０，およびロードロック室１３０の形状，特に高さ寸法に応じて，足場１６０の取り付け高さを調節して，足場１６０を階段状に構成するようにしてもよい。
【００４２】
以上のように，本実施形態では，基板処理装置１００を支持する支持フレーム１４０に足場１６０を直接設けるので，足場板１６４を支持するフレームや脚が必要なくなる。したがって，足場１６０の下側には障害物のない空間が得られるため，そこに例えばメンテナンス作業用の工具や測定機器を置くことが可能になるなど，クリーンルーム内を有効に活用することができるようになる。
【００４３】
また，支持フレーム１４０に足場１６０を直接設けることにより，メンテナンス作業を行い易い位置に足場を形成することができる。例えば処理室１１０との間に大きな隙間ができないように足場を設けることができるとともに，従来のように処理室の隣に独立して足場を組む場合に比してより安定した足場を設けることができる。
【００４４】
また，足場１６０はクリーンルームの床面から約１８００ｍｍの高さに位置しているため，作業者は足場１６０に妨げられることなく足場１６０の下を通行できるようになる。このため，支持フレーム１４０の内側に安全かつ迅速に立ち入ることできるようになり，支持フレーム１４０に載置されている処理室１１０，搬送室１２０，およびロードロック室１３０のメンテナンスはもちろんのこと，支持フレーム１４０内に収容されている機材のメンテナンスをも効率よく行うことができるようになる。
【００４５】
また本実施形態によれば，支持ブラケット１６２の数を増減させることによって，基板処理装置１００に求められる足場１６０の最大積載荷重に簡単に対応することができる。
【００４６】
さらに支持ブラケット１６２は，締結部材１７２によって支持フレーム１４０に締結されるものであるため，クリーンルームに支持フレーム１４０を設置するまでは支持ブラケット１６２および足場板１６４を取り外しておくことができる。したがって，支持フレーム１４０の輸送コストを抑えることができる。
【００４７】
また本実施形態にかかる足場１６０は，処理室１１０とロードロック室１３０を取り囲むように設けられているが，これに限らず，例えば基板処理装置１００の設置状況に応じて，必要な箇所にのみ足場１６０を設けるようにしてもよい。
【００４８】
（第２実施形態）
次に，本発明の第２実施形態について図面を参照しながら詳細に説明する。図７は，第２実施形態にかかる基板処理装置の構成例の概略を示す平面図である。図７に示すように，この基板処理装置２００は，第１実施形態にかかる基板処理装置１００と同様に，搬送室１２０の周りに複数の処理室１１０とロードロック室１３０を設けて構成される。
【００４９】
図７に示す各処理室１１０（１１０Ａ〜１１０Ｃ）は，基体部１１２（１１２Ａ〜１１２Ｃ）と，この基体部１１２から取り外し自在の蓋体部１１４（１１４Ａ〜１１４Ｃ）とから構成されている（図１参照）。またこれらの処理室１１０（１１０Ａ〜１１０Ｃ）にはそれぞれ，その側方に延出する一対のレール２０２（２０２Ａ〜２０２Ｃ）が設けられている。これら一対のレール２０２（２０２Ａ〜２０２Ｃ）は，基体部１１２から取り外された蓋体部１１４を基体部１１２の側方の退避部位（蓋体部１１４をスライド機構１１３を軸にして裏返しになるように回動させても基体部１１２と干渉しない部位）までスライドさせるためのものである。
【００５０】
蓋体部１１４（１１４Ａ〜１１４Ｃ）にはそれぞれ，その側部に一対のスライド機構１１３（１１３Ａ〜１１３Ｃ）が設けられている。スライド機構１１３（１１３Ａ〜１１３Ｃ）は，例えば蓋体部１１４（１１４Ａ〜１１４Ｃ）を水平軸周りに回転自在に支持する支持部材（図示しない）を備える。また支持部材はレール２０２（２０２Ａ〜２０２Ｃ）に沿って摺動自在なスライダとしても機能する。なお，図７に示す蓋体部１１４Ｂ，１１４Ｃは閉じている状態であり，蓋体部１１４Ａはレール２０２Ａに沿ってスライドしている状態である。
【００５１】
処理室１１０のメンテナンス作業を行う際には，開閉機構（図示せず）によって蓋体部１１４を基体部１１２から離脱させた後，スライド機構１１３によりレール２０２上をスライド移動させる。次いで蓋体部１１４をスライド機構１１３の支持部材（図示しない）を軸にして平行するレール２０２間で１８０°回転させて裏返しにする。これによって基体部１１２と蓋体部１１４はともに内部が上向きになるので，作業者は足場２６０，２６２に乗った状態で，基体部１１２と蓋体部１１４の内部に設けられた各種部材のメンテナンスが可能となる。
【００５２】
また図７に示す基板処理装置２００を支持する支持フレーム１４０には，各処理室１１０の周囲から張り出すように，例えばメンテナンス作業で用いる足場２６０が設けられている。この足場２６０は，第１実施形態の場合と同様に構成される。すなわち，クリーンルームの床面から所定の高さに処理室の周囲から外側に張り出すように支持フレーム１４０に直接取り付けられた複数の支持ブラケット１６２と，これら支持ブラケット１６２上に敷かれた複数の足場板１６４とから構成されている。
【００５３】
また，図７に示す基板処理装置２００では，さらに各処理室１１０側方のレール２０２の周囲にも足場２６２が設けられている。これらレール２０２の周囲の足場２６２は，処理室１１０の周囲の足場２６０との間で往来できるようになっており，これらの足場２６０，２６２を合わせて基板処理装置２００の周囲の足場を構成する。このように，処理室１１０の周囲の足場２６０のみならず，レール２０２の周囲にも足場２６２を設けることによって，作業者は，これらの足場２６０，２６２を往来して，各処理室１１０の基体部１１２の内部のみならず，レール２０２上にある蓋体部１１４の内部のメンテナンスを行うことができる。
【００５４】
このようなレール２０２周囲の足場２６２についても，処理室１１０の周囲の足場２６０と同様に構成してもよい。なお，処理室１１０の構成によっては，レール２０２が支持フレーム１４０で支持されていない場合もあり，このような場合にはレール２０２周囲には足場２６２の支持ブラケットを取り付けられないので，足場２６２については支持ブラケットに足場板を支持する代わりに，足場板を支持する支持フレームを別途設けるようにしてもよい。
【００５５】
ところで，レール２０２の周囲の足場２６２に作業者がいるときに，蓋体部１１４をレール２０２に沿ってスライド移動させることは，蓋体部１１４と作業者が接触する虞もあるため好ましくない。また，基体部１１２の蓋体部１１４が閉じているときには，レール２０２上には蓋体部１１４が存在しないため，例えば一対のレール２０２間などレール２０２の近傍に大きな空間が生じてしまう。このときレール２０２周囲の足場２６２に作業者がいると，例えば歩行によりレール２０２間などに落下する虞がある。この問題に対処するために足場２６２のレール２０２側に柵を設けることも考えられるが，その柵が蓋体部１１４のメンテナンス作業の妨げになってしまう可能性もある。
【００５６】
そこで，本実施形態では，例えば図７に示すように各処理室１１０の周囲の足場２６０と各レール２０２の周囲の足場２６２との間に，これらの足場２６０，２６２の往来を妨げる複数の扉２１０（２１０Ａ１，２１０Ａ２，２１０Ｂ１，２１０Ｂ２，２１０Ｃ１）を設けることが好ましい。これにより，各レール２０２の周囲の足場２６２には必要な場合以外は立ち入ることができないようにすることができる。
【００５７】
以下，このような扉２１０の具体的構成例について図面を参照しながら説明する。図８は扉２１０の構成例の概略を示す外観斜視図であり，図９は扉２１０を上方から見た平面図である。扉２１０は，例えば図８に示すように起立した支柱部２１４に扉本体２１２をヒンジ部２１６で枢支して構成される。支柱部２１４は，処理室１１０の周囲の足場２６０の方に設けてもよく，またレール２０２周囲の足場２６２の方に設けてもよい。支柱部２１４を処理室１１０の周囲の足場２６０の方に設ける場合には，例えば複数の支持ブラケット１６２（図８では図示を省略）に取り付けるようにしてもよい。
【００５８】
また図９に示すように，扉２１０には，扉本体２１２の開閉状態を検出するセンサ２１８が設けられている。このようなセンサ２１８としては，例えば近接スイッチやリミットスイッチなどを挙げることができる。センサ２１８として近接スイッチを用いる場合には，例えば扉本体２１２が完全に閉じられたときにセンサ２１８の検出範囲に支柱部２１４の金属部が入るように，センサ２１８を扉本体２１２に取り付ける。
【００５９】
このセンサ２１８は，基板処理装置２００全体を制御する制御部２９０に電気的に接続されており，制御部２９０は，センサ２１８からの検出信号によって扉２１０の開閉状態を把握することができる。また，制御部２９０は，各処理室１１０の蓋体部１１４の開閉機構とも電気的に接続されている。したがって，制御部２９０は，蓋体部１１４のレール２０２上のスライド動作を扉２１０の開閉状態に応じて制御することができる。このようなインタロック制御の具体例としては次のようなものがある。
【００６０】
制御部２９０は，例えば扉２１０Ａ１と扉２１０Ａ２の各センサ２１８からの信号に基づいて，扉２１０Ａ１，２１０Ａ２が両方とも閉じられていることを検出している間は，処理室１１０Ａの蓋体部１１４Ａがレール２０２Ａに沿ってスライドすることを許可する。
【００６１】
このとき，例えば蓋体部１１４Ａの開閉機構が手動である場合には，例えば開閉機構のブレーキを解除して作業者による蓋体部１１４Ａのスライド動作を可能とする。なお，蓋体部１１４Ａの開閉機構が自動である場合には，制御部２９０は蓋体部１１４Ａの開閉機構を制御して，蓋体部１１４Ａをレール２０２Ａに沿ってスライド移動させる。
【００６２】
これに対して，制御部２９０は，扉２１０Ａ１と扉２１０Ａ２のうち少なくとも一方の扉が開かれていることを検出している間は，蓋体部１１４Ａのスライド動作を禁止する。
【００６３】
この場合，基体部１１２の蓋体部１１４が閉じているときには，蓋体部１１４がスライドするレール２０２周囲の足場２６２に立ち入ることができる扉２１０をすべて閉じるようにし，作業者がレール２０２周囲の足場２６２で作業をしているときには，その足場２６２に立ち入ることができる扉２１０を開くようにしておく必要がある。
【００６４】
例えば扉２１０Ａ１と扉２１０Ａ２との間の足場２６２に作業者がいる場合には両扉２１０Ａ１，２１０Ａ２のうちの少なくとも一方を開くようにし，その足場２６２に作業者がいない場合には両方の扉２１０Ａ１，２１０Ａ２を閉じるようにすればよい。
【００６５】
これにより，両方の扉２１０Ａ１，２１０Ａ２が閉じられている場合には，作業者がレール２０２Ａ周囲の足場２６２にいないため，レール２０２Ａに沿って蓋体部１１４をスライドさせても，蓋体部１１４と作業者が接触する虞はない。また，レール２０２に沿って蓋体部１１４を基体部１１２までスライドさせた場合でも，足場２６２から作業者が落下する危険はなくなる。
【００６６】
その他，例えば扉２１０に制御部２９０からの制御に応じて解錠・施錠可能なロック機構を設け，蓋体部１１４の開閉動作に応じて扉２１０のロック機構を制御するようにしてもよい。すなわち，基体部１１２の蓋体部１１４が閉じているとき，または蓋体部１１４がレール２０２に沿ってスライドしているときには，扉２１０に自動的にロックを掛けてレール２０２周囲の足場２６２には強制的に作業者が立ち入ることができないようにしてもよい。さらに，レール２０２周囲の足場２６２にエリアセンサを設けて，直接的に作業者の有無を検出して，その検出結果に基づいて蓋体部１１４のスライド動作を制御するようにしてもよい。
【００６７】
このように第２実施形態によれば，第１実施形態と同様の効果が得られる。また，処理室１１０周囲の足場２６０とレール２０２周囲の足場２６２に扉２１０を設け，必要なときのみレール２０２周囲の足場２６２に立ち入ることができるようにすることで，メンテナンス作業の安全性をより高めることができる。
【００６８】
なお，処理室１１０周囲の足場２６０とレール２０２周囲の足場２６２に設ける扉の構成は図８に示すものに限られるものではなく，扉の内側に更なる扉を設けた２枚構成の所謂二重扉で構成してもよい。例えば図７に示すように蓋体部１１４（１１４Ａ〜１１４Ｃ）のスライド機構１１３（１１３Ａ〜１１３Ｃ）が支持フレーム１４０やレール２０２の外側に張り出さない場合は，図８に示すような扉２１０でも，蓋体部１１４がスライドした際に扉２１０と干渉することはない。
【００６９】
ところが，蓋体部１１４やそのスライド機構１１３の形状などによっては，例えば図１０に示すように蓋体部１１４のスライド機構１１３の一部が支持フレーム１４０やレール２０２よりも外側に張り出す場合もある。このような蓋体部１１４がレール２０２に沿ってスライドする際には，蓋体部１１４やスライド機構１１３の一部が，閉じた扉２１０に干渉する虞もある。そこで，このような場合には，一枚構成の扉２１０に代えて二枚構成の扉，例えば図１０に示すような二重扉を用いることで，蓋体部１１４がスライドする際に扉と干渉することを防ぐことができる。
【００７０】
以下，このような扉の変形例として二重扉の具体的構成例について説明する。図１０は，本実施形態における二重扉の外観斜視図である。図１０に示す二重扉２２０は，２枚の扉すなわち外扉（主扉）２２２と，さらに外扉２２２の片側に重ねて設けた内扉（副扉）２２４からなる。外扉２２２は，図８に示す上記の扉２１０の扉本体２１２と同様に，例えば起立した支柱部２１４にヒンジ部２１６で枢支されている。
【００７１】
内扉２２４は外扉２２２の戸先の外側を閉じるための扉であり，内扉２２４を外扉２２２に重ねた状態でも，外扉２２２を閉じれば通り抜けできないように（足場２６０と足場２６２との間を往来できないように）構成されている。具体的には，内扉２２４は，外扉２２２の戸先側に取り付けられたヒンジ部（図示せず）によって枢支されており，戸先側を中心にして矢印Ｒ又はＬの方向に回動できるようになっている。
【００７２】
このように構成された二重扉２２０によれば，外扉２２２を閉じることによって，足場２６０，２６２の作業者の往来を規制することができる。また外扉２２２は，その幅が足場２６０，２６２の幅よりも狭くなるように構成されており，これによって外扉２２２を完全に閉じても，その戸先と支持フレーム１４０との間に，すなわち足場２６０，２６２の内側に，蓋体部１１４をスライド動作する際に外扉２２２との干渉を防ぐための隙間Ｓを形成することができる。
【００７３】
具体的には，内扉２２４を矢印Ｒの方向に回動させて外扉２２２に重ねるようにすれば，足場２６０，２６２の内側に扉が存在しない隙間Ｓを形成することができる。これに対して，内扉２２４を矢印Ｌの方向に回動させると，外扉２２２の戸先の外側まで内扉２２４を回動できるので，内扉２２４によって足場２６０，２６２の内側の隙間Ｓを塞ぐことができる。
【００７４】
例えば蓋体部１１４が閉じている際には，内扉２２４を矢印Ｌの方向に回動させて外扉２２２を閉じることによって隙間Ｓを塞ぐ。これにより，各処理室１１０の周囲の足場２６０から各レール２０２の周囲の足場２６２への作業者の立ち入りを規制できる。
【００７５】
また，蓋体部１１４をスライド動作する際には，内扉２２４を外扉２２２に重ねた状態で外扉２２２を閉じる。これにより，外扉２２２の戸先と支持フレーム１４０との間（処理室１１０との間）に隙間Ｓが確保されるので，スライド機構１１３などが外扉２２２と干渉することを防止できる。すなわち，たとえスライド機構１１３の一部が外側に張り出すような形状の場合であっても，その張り出した部分は蓋体部１１４がスライドする際に隙間Ｓを通るので，二重扉２２０と干渉することはない。さらに，この場合には，各レール２０２の周囲の足場２６２への作業者の立ち入りできなくすることができる。
【００７６】
また，蓋体部１１４が完全に開いている際には，内扉２２４を外扉２２２に重ねたまま外扉２２２を開くことによって，各処理室１１０の周囲の足場２６０から各レール２０２の周囲の足場２６２への作業者の立ち入りが可能となる。
【００７７】
なお，外扉２２２および内扉２２４に近接スイッチやリミットスイッチなどのセンサを設けることにより，蓋体部１１４のスライド動作を外扉２２２および内扉２２４の開閉状態に応じて制御するようにしてもよい。
【００７８】
また，第２実施形態では扉２１０，二重扉２２０をそれぞれ開き戸で構成した場合について説明したが，これに限られるものではなく，扉２１０，二重扉２２０をそれぞれ引き戸や折れ戸などで構成してもよい。
【００７９】
以上，添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが，本発明は係る例に限定されない。当業者であれば，特許請求の範囲に記載された範疇内において，各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり，それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【００８０】
例えば，基板処理装置としてプラズマ処理装置を例に挙げて本発明の実施形態を説明したが，本発明は必ずしもこれに限定されるものではなく，スパッタリング装置，コータデベロッパ，洗浄装置，ＣＭＰ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）装置，ＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）装置，露光装置，イオンインプランタなどにも適用可能である。
【００８１】
また，本発明はマルチチャンバ型の基板処理装置だけでなく単一の処理室から構成される基板処理装置にも適用可能である。また，一枚ずつ基板を処理する枚葉式の基板処理装置だけでなく，複数枚の基板を一括して処理するバッチ式の処理装置にも適用可能である。
【００８２】
さらに，被処理基板は，上記ＦＰＤ用基板に限定されることなく，例えば半導体ウエハ，ＣＤ基板，プリント基板，セラミック基板，太陽電池基板などであってもよい。
【産業上の利用可能性】
【００８３】
本発明は，被処理基板に対して所定の処理を施す処理室を備えた基板処理装置及びそれを支持するのに用いられる支持フレームに適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００８４】
【図１】本発明の第１実施形態にかかる基板処理装置の外観構成の概略を示す斜視図である。
【図２】図１に示す基板処理装置を上方から見た場合の平面図である。
【図３】図１に示す基板処理装置の正面図である。
【図４】図１に示す基板処理装置の支持フレームの構成を説明するための斜視図である。
【図５】図４に示す支持ブラケットの取付例を説明するための斜視図である。
【図６】図５に示す支持ブラケットと梁部材との接続部を側面から見た図である。
【図７】本発明の第２実施形態にかかる基板処理装置の構成の概略を示す図であって，基板処理装置を上方から見た場合の平面図である。
【図８】図７に示す扉の構成例の概略を示す斜視図である。
【図９】図８に示す扉を上方から見た平面図である。
【図１０】図７に示す扉の他の構成例の概略を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００８５】
１００ 基板処理装置
１０２（１０２Ａ〜１０２Ｃ） ゲートバルブ
１０４，１０６ ゲートバルブ
１１０（１１０Ａ〜１１０Ｃ） 処理室
１１２（１１２Ａ〜１１２Ｃ） 基体部
１１３（１１３Ａ〜１１３Ｃ） スライド機構
１１４（１１４Ａ〜１１４Ｃ） 蓋体部
１２０ 搬送室
１３０ ロードロック室
１４０ 支持フレーム
１４２ 梁部材
１４４ 柱部材
１６０ 足場
１６２ 支持ブラケット
１６４ 足場板
１６６ 柵
１７０ ベース板
１７２ 締結部材
２００ 基板処理装置
２０２（２０２Ａ〜２０２Ｃ） レール
２１０（２１０Ａ１，２１０Ａ２，２１０Ｂ１，２１０Ｂ２，２１０Ｃ１） 扉
２１２ 扉本体
２１４ 支柱部
２１６ ヒンジ部
２１８ センサ
２２０ 二重扉
２２２ 外扉
２２４ 内扉
２６０，２６２ 足場
２９０ 制御部
Ｓ 隙間
【技術分野】
【０００１】
本発明は，被処理基板に対して所定の処理を施す処理室を備えた基板処理装置及びそれを支持するのに用いられる支持フレームに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造工程においては，ガラス基板（例えば液晶ディスプレイなどのフラットパネルディスプレイ基板）や半導体ウエハ（以下，単に「ウエハ」とも称する）などの被処理基板に対してエッチング処理，成膜処理などの所定のプロセス処理を施すための基板処理装置が用いられている。近年，高集積化および高スループット化を目的として，複数の処理室（チャンバ）を備えたマルチチャンバ型の基板処理装置が広く用いられている。この種の基板処理装置においては，複数の処理室と搬送室がゲートバルブを介して接続されており，搬送室内に備えられている搬送機構によって被処理基板を各処理室に順番に連続的に搬入して，各処理室にて被処理基板に対して個別のプロセス処理が施されることになる。
【０００３】
上記のような基板処理装置をクリーンルーム内に設置するにあたっては，処理室を載置できる大きさの支持フレームをクリーンルームの床面に配置して，この支持フレームの上に処理室を載置するとともに，支持フレームの内部空間に制御機器，整合器，真空ポンプ，各種電気ケーブル，ガス管などを配設している。例えば，下記特許文献１，２には処理室を支持する支持フレームについての記載がある。
【０００４】
ところで，上記のように処理室を支持フレームに載置すると，処理室がクリーンルームの床面から上方に位置することになる。しかも，最近では処理室の大型化が進んでいることもあり，処理室の天井部はさらに高くなっており，作業者は床面上に直接立った状態では処理室のメンテナンス作業を行うことが難しくなってきている。そこで従来では支持フレームに沿って足場を組んで，作業者はその足場に立って処理室のメンテナンスを行うようにしていた。
【０００５】
【特許文献１】特開平７−１９３１１５号公報
【特許文献２】特開平８−３３５５４０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら，従来，足場を組むために，処理室の支持フレームに隣接して足場用の支持フレームを設けてその上に足場板を敷設するようにしていたため，足場用の支持フレームが妨げとなり，例えばメンテナンス作業用の工具や測定機器を置くことができないなど，足場下の空間を有効に利用することができなかった。
【０００７】
特に，被処理基板が大型化していることに伴い基板処理装置が大規模となっている今日においては，クリーンルームの床面において支持フレームが占める面積がより広くなる傾向にあり，足場下の空間を利用できなければ，その分クリーンルームの床面積をさらに拡張する必要性が生じるといった問題にも繋がりかねなかった。
【０００８】
また，大型の処理室の場合，処理室の下方空間すなわち支持フレーム内に収容する機器，例えば真空ポンプや整合器なども必然的に大きくなるため，処理室はより高い位置に支持されるようになる。このような環境下においては，作業者は処理室の下方空間へ立ち入ってメンテナンス作業を行うなど，メンテナンス用の足場の下方空間を利用することが可能になる。ところが，従来は支持フレームに隣接する足場用のフレームが作業者の通行の妨げとなり，作業性が低下するという問題もある。
【０００９】
そこで，本発明は，このような問題に鑑みてなされたもので，その目的とするところは，例えばメンテナンス作業で用いる足場の下方空間を有効に利用することができる基板処理装置およびそれに用いられる支持フレームを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために，本発明のある観点によれば，被処理基板に対して所定の処理を施す処理室を備えた基板処理装置を支持するために床面上に配置される支持フレームであって，前記床面から所定の高さの部位に前記処理室の周囲から外側に張り出すように足場を直接設けたことを特徴とする支持フレームが提供される。この足場は，例えば支持フレームの外側に取り付けられた複数の支持ブラケットと，前記支持ブラケットに水平に支持された足場板とを備える。
【００１１】
上記課題を解決するために，本発明の別の観点によれば，被処理基板に対して所定の処理を施す処理室と，床面上に配置されて前記処理室を支持する支持フレームと，を備えた基板処理装置であって，前記床面から所定の高さの部位に，前記処理室の周囲から外側に張り出すように前記支持フレームの外側に直接取り付けられた複数の支持ブラケットと，前記支持ブラケットに水平に支持された足場板と，を備えたことを特徴とする基板処理装置が提供される
【００１２】
このような発明によれば，基板処理装置を支持する支持フレームに足場を直接設けるので，足場板の下方空間にこの足場板を支持するフレームや脚を設ける必要がなくなる。これにより，足場板の下方空間も有効に利用することができるようになる。
また，支持フレームに足場を直接設けることにより，メンテナンス作業を行い易い位置に足場を形成することができる。
【００１３】
また，上記各支持ブラケットは，形鋼によって形成されることが好ましい。これによって，支持ブラケットの剛性が高まり，この支持ブラケットによって支持される足場板への最大積載荷重を増やすこともできる。
【００１４】
各支持ブラケットは，支持フレームに対して着脱自在であることが好ましい。これによって，足場板が必要な箇所にのみ支持ブラケットを取り付けることができる。また，支持ブラケットを取り外した状態で支持フレームを輸送することができるため，支持フレームの輸送コストを抑えることも可能となる。
【００１５】
また，上記処理室は，基体部と，この基体部に着脱自在の蓋体部とから構成されており，さらに前記基体部から離脱した前記蓋体部を前記基体部の側方の待避部位までスライド可能なレールを備え，前記レールの周囲にも足場を設け，前記処理室の周囲の足場との間で往来できるようにすることが好ましい。これによれば，作業者は処理室周囲の足場とレール周囲の足場との間を往来しながら，基体部の内部のメンテナンスを行うことができるとともに，基体部からレール上に退避させた蓋体部のメンテナンスも行うことができる。
【００１６】
また，上記処理室の周囲の足場と上記レールの周囲の足場の間に，これらの足場間の往来を妨げる扉を設けるようにしてもよい。これらの足場への移動を扉によって制限することで，レールの周囲の足場には必要な場合以外は立ち入ることができないようにすることができるので，メンテナンス作業の安全性を向上させることができる。
【００１７】
この場合，上記扉の開閉状態を検出するセンサと，前記センサの検出結果に応じて前記蓋体部の着脱動作を制御する制御部と，を備え，前記制御部は，前記センサが前記扉の開状態を検出している間は前記蓋体部の着脱動作ができないように規制することが好ましい。これによって，例えば着脱動作中の蓋体部が足場板上の作業者に接触するなどの事故を未然に防止することができ，メンテナンス作業の安全性をより向上させることができる。
【００１８】
また，上記扉は，外扉と，この外扉に対して回動自在な内扉とからなる二重扉で構成され，前記外扉は前記足場の幅よりも狭い幅で構成して，前記足場の外側寄りに設けた支柱部に枢支し，前記内扉は前記外扉の戸先側に枢支するようにしてもよい。これによれば，外扉を閉じても，足場の内側（外扉の戸先と支持フレームとの間）には扉が存在しない隙間が形成される。このため，たとえ蓋体部の一部が支持フレームやレールよりも外側（足場側）に張り出している場合でも，蓋体部をレールに沿ってスライドさせるときには，外扉と内扉を閉じてレールの周囲の足場への立ち入りを禁止するとともに，蓋体部と外扉との干渉を防ぐことができる。また，蓋体部が閉じているときには，内扉を開いた状態で外扉を閉じることにより足場の内側の隙間を閉じることができる。これにより，レールの周囲の足場への作業者の立ち入りを規制できる。
【００１９】
また，上記扉にロック機構を設け，前記制御部は，前記蓋体部が閉状態を検出している間及び前記蓋体部の着脱動作が行われている間は，前記扉が開かないようにロックするようにしてもよい。蓋体部が閉状態のときには，レール上には蓋体部が存在しないため，レール近傍に大きな空間が生じてしまい作業者が落下する虞がある。このように作業者が落下する虞がある場合には，扉をロックすることでレール周囲の足場には強制的に作業者が立ち入ることができないようにすることができる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば，基板処理装置を支持する支持フレームに足場を直接設けることにより，足場板の下方空間も有効に利用することができるようになるとともに，処理室などのメンテナンス作業を行い易い位置に足場を形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下に添付図面を参照しながら，本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお，本明細書および図面において，実質的に同一の機能構成を有する構成要素については，同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００２２】
（第１実施形態にかかる基板処理装置の構成例）
まず，本発明を複数の処理室を備えるマルチチャンバ型の基板処理装置に適用した場合の実施形態について図面を参照しながら説明する。図１は，本実施形態にかかる基板処理装置の外観構成の概略を示す斜視図である。図２は図１に示す基板処理装置の平面図（図１矢視Ａ）であり，図３は正面図（図１矢視Ｂ）である。図１〜図３に示す基板処理装置１００は，被処理基板としてのフラットパネルディスプレイ用基板（ＦＰＤ用基板）に対してプラズマ処理を施すための３つの処理室１１０（１１０Ａ〜１１０Ｃ）を備える。
【００２３】
各処理室１１０は，例えば一辺約３ｍのＦＰＤ用基板を載置する載置台が設けられた基体部１１２（１１２Ａ〜１１２Ｃ）と，この基体部１１２に着脱自在に設けられ，処理室１１０内に反応エネルギを供給する電極や処理ガス雰囲気を形成するためのシャワーヘッドなどを備えた蓋体部１１４（１１４Ａ〜１１４Ｃ）で構成されている。処理室１１０内部のメンテナンス作業を行う際には，蓋体部１１４は基体部１１２から取り外される。これによって処理室１１０の天井部が開放され処理室１１０の内部の部材を交換または調整することができる。なお，各処理室１１０を同一の処理（例えばエッチング処理等）を行うように構成してもよいし，互いに異なった処理（例えばエッチング処理とアッシング処理等）を行うように構成してもよい。
【００２４】
各処理室１１０は，断面多角形状（例えば断面矩形状）の搬送室１２０の側面にゲートバルブ１０２（１０２Ａ〜１０２Ｃ）を介して連結されている。搬送室１２０にはさらに，ロードロック室１３０がゲートバルブ１０４を介して連結されている。このようにして本実施形態にかかる基板処理装置１００において，複数の処理室１１０とロードロック室１３０は，搬送室１２０を囲むように配置されている。また，ロードロック室１３０には，基板搬出入機構（ここでは図示を省略）がゲートバルブ１０６を介して連結されている。
【００２５】
上記複数の処理室１１０，搬送室１２０，およびロードロック室１３０は，クリーンルームの床面上に配置された箱状をなす支持フレーム１４０に載置されており，クリーンルームの床面から所定の高さ，例えば１８００ｍｍに高さ調整されている。これによって，ＦＰＤ用基板を，その搬送高さ（パスライン）を保ちつつ基板処理装置１００へ搬入することができる。
【００２６】
また，各室を支持フレーム１４０に載置することによって，各室の下方すなわち支持フレーム１４０内に空間を確保することができる。この空間には例えば各室の駆動部を制御する制御機器，高周波電源，整合器，その他電気機器，測定機器，真空ポンプを含む排気装置，各種電気ケーブル，ガス管などが配設されている。
【００２７】
支持フレーム１４０は，各室を安定的に支持するために十分な強度を有しており，例えば金属製の角パイプやＨ形鋼をはじめとする形鋼によって構成されている。また，複数の処理室１１０，搬送室１２０，およびロードロック室１３０が大型である場合などには，支持フレーム１４０の上面に例えば形鋼によって構成された梁部材を渡して，その上に各室を載置するようにしてもよい。これによって，各室の筐体の撓みを防止することができる。
【００２８】
さらに基板処理装置１００は，例えばメンテナンス作業で用いる足場１６０を備えている。具体的にはこの足場１６０は，クリーンルームの床面から所定の高さ（例えば１８００ｍｍ）で支持フレーム１４０からその外側に水平に張り出すように備えられている。上記のように，本実施形態にかかる基板処理装置１００において，複数の処理室１１０とロードロック室１３０は搬送室１２０を囲むように配置されており，これらの室は支持フレーム１４０上に載置されている。したがって，図１，図２に示すように，足場１６０は処理室１１０とロードロック室１３０の周囲に位置することになる。作業者は，この足場１６０上を目的の地点にまで移動して，各処理室１１０，搬送室１２０，およびロードロック室１３０のメンテナンスを行うことができる。
【００２９】
このような本実施形態にかかる足場１６０は，支持フレーム１４０に直接固定されることによって支持されるものであり，自らを支持するフレームや脚を備えていない点に特徴がある。足場１６０のより具体的な構成例については後述する。
【００３０】
本実施形態にかかる基板処理装置１００によってＦＰＤ用基板に対してプラズマ処理を行う際には，まず基板搬出入機構（図示せず）によってＦＰＤ用基板をロードロック室１３０内へ搬入する。このとき，ロードロック室１３０内に処理済みのＦＰＤ用基板があれば，その処理済みのＦＰＤ用基板をロードロック室１３０内から搬出し，未処理のＦＰＤ用基板と置き換える。ロードロック室１３０内へＦＰＤ用基板を搬入した後，ゲートバルブ１０６を閉じる。
【００３１】
次いで，ロードロック室１３０内を所定の真空度まで減圧した後，搬送室１２０とロードロック室１３０間のゲートバルブ１０４を開く。そして，ロードロック室１３０内のＦＰＤ用基板を搬送室１２０内の搬送機構（図示せず）により搬送室１２０内へ搬入した後，ゲートバルブ１０４を閉じる。
【００３２】
続いて，搬送室１２０と処理室１１０との間のゲートバルブ１０２を開き，上記搬送機構により処理室１１０内の載置台に未処理のＦＰＤ用基板を搬入する。このとき，処理済みのＦＰＤ用基板があれば，その処理済みのＦＰＤ用基板を搬出し，未処理のＦＰＤ用基板と置換える。
【００３３】
処理室１１０内では，載置台上に載置されたＦＰＤ用基板に対してシャワーヘッドから処理ガスを供給しつつ，下部電極もしくは上部電極のいずれか一方，またはこれらの両方に高周波電力を供給して下部電極と上部電極との間に処理ガスのプラズマを発生させる。これによってＦＰＤ用基板に対して所定のプラズマ処理が施される。
【００３４】
（足場の構成例）
ここで本実施形態にかかる足場１６０の具体的な構成例について図面を参照しながら詳細に説明する。図４は，基板処理装置の支持フレームを説明するための斜視図である。なお，図４に示すように，処理室１１０，搬送室１２０，およびロードロック室１３０は，支持フレーム１４０の上側に載置される。
【００３５】
図４に示すように，支持フレーム１４０には，クリーンルームの床面から所定の高さに，処理室１１０の周囲から外側に張り出すように，複数の支持ブラケット１６２が直接取り付けられている。ただし，足場１６０を設けない箇所には，支持ブラケット１６２は取り付けられない。例えば，ロードロック室１３０に対するＦＰＤ用基板の搬出入の妨げにならないように，そのゲートバルブ１０６の下方には足場１６０を設けないようにする。したがって，この箇所には支持ブラケット１６２は取り付けられない。
【００３６】
また，本実施形態においては，複数の支持ブラケット１６２は，支持フレーム１４０の上端部を構成する梁部材１４２に取り付けられている。これら複数の支持ブラケット１６２の上に複数の足場板１６４が敷かれており，これによって足場１６０が形成される。支持ブラケット１６２は，高い剛性を有しており，例えばＨ形鋼で構成されている。また，足場板１６４は，撓み量が小さくかつ軽量であることが好ましく，例えばメッシュ構造のアルミニウムやステンレス鋼によって構成される。さらに，足場板１６４の表面は滑り止め加工が施されていることが好ましい。
【００３７】
ここで，支持ブラケット１６２の具体的な取付例について図面を参照しながら説明する。図５は，支持ブラケット１６２の取付例を説明するための斜視図であり，支持ブラケット１６２と梁部材１４２との接続部を拡大して示している。図６は，図５に示す接続部を側面から見た図である。図５と図６に示すように，本実施形態にかかる梁部材１４２は，処理室１１０，搬送室１２０，およびロードロック室１３０を安定的に支持するため，高い剛性を有する例えばＨ形鋼で構成されている。また，この梁部材１４２を支える柱部材１４４もＨ形鋼で構成されることが好ましい。
【００３８】
梁部材１４２には，その両フランジ間にベース板１７０が差し渡されて溶接されている。そして支持ブラケット１６２は，その端部をベース板１７０にボルトなどの締結部材１７２によって締結されている。これによって，複数の支持ブラケット１６２が支持フレーム１４０に確実かつ強固に取り付けられる。
【００３９】
支持フレーム１４０の梁部材１４２に取り付けられた複数の支持ブラケット１６２の上に複数の足場板１６４を敷いて固定することによって足場板１６４が水平に支持され，足場１６０が形成される。また，足場１６０には作業者の落下を防止するための柵を設けるようにしてもよい。具体的には例えば図６に示すように，足場１６０の外側の側面に沿って柵１６６を取り付けるようにしてもよい。これによって足場１６０における安全性を向上させることができる。
【００４０】
ところで，本実施形態においては，複数の支持ブラケット１６２は，支持フレーム１４０の上端の梁部材１４２に取り付けられているため，足場１６０の高さは支持フレーム１４０の高さとほぼ同じになる。これに対して，足場１６０をより低い位置に設ける場合には，例えば梁部材１４２と同様の梁部材を，梁部材１４２と床面との間で水平となるように柱部材１４４に取り付けて，これに支持ブラケット１６２を取り付けるようにしてもよい。
【００４１】
また，処理室１１０，搬送室１２０，およびロードロック室１３０の形状，特に高さ寸法に応じて，足場１６０の取り付け高さを調節して，足場１６０を階段状に構成するようにしてもよい。
【００４２】
以上のように，本実施形態では，基板処理装置１００を支持する支持フレーム１４０に足場１６０を直接設けるので，足場板１６４を支持するフレームや脚が必要なくなる。したがって，足場１６０の下側には障害物のない空間が得られるため，そこに例えばメンテナンス作業用の工具や測定機器を置くことが可能になるなど，クリーンルーム内を有効に活用することができるようになる。
【００４３】
また，支持フレーム１４０に足場１６０を直接設けることにより，メンテナンス作業を行い易い位置に足場を形成することができる。例えば処理室１１０との間に大きな隙間ができないように足場を設けることができるとともに，従来のように処理室の隣に独立して足場を組む場合に比してより安定した足場を設けることができる。
【００４４】
また，足場１６０はクリーンルームの床面から約１８００ｍｍの高さに位置しているため，作業者は足場１６０に妨げられることなく足場１６０の下を通行できるようになる。このため，支持フレーム１４０の内側に安全かつ迅速に立ち入ることできるようになり，支持フレーム１４０に載置されている処理室１１０，搬送室１２０，およびロードロック室１３０のメンテナンスはもちろんのこと，支持フレーム１４０内に収容されている機材のメンテナンスをも効率よく行うことができるようになる。
【００４５】
また本実施形態によれば，支持ブラケット１６２の数を増減させることによって，基板処理装置１００に求められる足場１６０の最大積載荷重に簡単に対応することができる。
【００４６】
さらに支持ブラケット１６２は，締結部材１７２によって支持フレーム１４０に締結されるものであるため，クリーンルームに支持フレーム１４０を設置するまでは支持ブラケット１６２および足場板１６４を取り外しておくことができる。したがって，支持フレーム１４０の輸送コストを抑えることができる。
【００４７】
また本実施形態にかかる足場１６０は，処理室１１０とロードロック室１３０を取り囲むように設けられているが，これに限らず，例えば基板処理装置１００の設置状況に応じて，必要な箇所にのみ足場１６０を設けるようにしてもよい。
【００４８】
（第２実施形態）
次に，本発明の第２実施形態について図面を参照しながら詳細に説明する。図７は，第２実施形態にかかる基板処理装置の構成例の概略を示す平面図である。図７に示すように，この基板処理装置２００は，第１実施形態にかかる基板処理装置１００と同様に，搬送室１２０の周りに複数の処理室１１０とロードロック室１３０を設けて構成される。
【００４９】
図７に示す各処理室１１０（１１０Ａ〜１１０Ｃ）は，基体部１１２（１１２Ａ〜１１２Ｃ）と，この基体部１１２から取り外し自在の蓋体部１１４（１１４Ａ〜１１４Ｃ）とから構成されている（図１参照）。またこれらの処理室１１０（１１０Ａ〜１１０Ｃ）にはそれぞれ，その側方に延出する一対のレール２０２（２０２Ａ〜２０２Ｃ）が設けられている。これら一対のレール２０２（２０２Ａ〜２０２Ｃ）は，基体部１１２から取り外された蓋体部１１４を基体部１１２の側方の退避部位（蓋体部１１４をスライド機構１１３を軸にして裏返しになるように回動させても基体部１１２と干渉しない部位）までスライドさせるためのものである。
【００５０】
蓋体部１１４（１１４Ａ〜１１４Ｃ）にはそれぞれ，その側部に一対のスライド機構１１３（１１３Ａ〜１１３Ｃ）が設けられている。スライド機構１１３（１１３Ａ〜１１３Ｃ）は，例えば蓋体部１１４（１１４Ａ〜１１４Ｃ）を水平軸周りに回転自在に支持する支持部材（図示しない）を備える。また支持部材はレール２０２（２０２Ａ〜２０２Ｃ）に沿って摺動自在なスライダとしても機能する。なお，図７に示す蓋体部１１４Ｂ，１１４Ｃは閉じている状態であり，蓋体部１１４Ａはレール２０２Ａに沿ってスライドしている状態である。
【００５１】
処理室１１０のメンテナンス作業を行う際には，開閉機構（図示せず）によって蓋体部１１４を基体部１１２から離脱させた後，スライド機構１１３によりレール２０２上をスライド移動させる。次いで蓋体部１１４をスライド機構１１３の支持部材（図示しない）を軸にして平行するレール２０２間で１８０°回転させて裏返しにする。これによって基体部１１２と蓋体部１１４はともに内部が上向きになるので，作業者は足場２６０，２６２に乗った状態で，基体部１１２と蓋体部１１４の内部に設けられた各種部材のメンテナンスが可能となる。
【００５２】
また図７に示す基板処理装置２００を支持する支持フレーム１４０には，各処理室１１０の周囲から張り出すように，例えばメンテナンス作業で用いる足場２６０が設けられている。この足場２６０は，第１実施形態の場合と同様に構成される。すなわち，クリーンルームの床面から所定の高さに処理室の周囲から外側に張り出すように支持フレーム１４０に直接取り付けられた複数の支持ブラケット１６２と，これら支持ブラケット１６２上に敷かれた複数の足場板１６４とから構成されている。
【００５３】
また，図７に示す基板処理装置２００では，さらに各処理室１１０側方のレール２０２の周囲にも足場２６２が設けられている。これらレール２０２の周囲の足場２６２は，処理室１１０の周囲の足場２６０との間で往来できるようになっており，これらの足場２６０，２６２を合わせて基板処理装置２００の周囲の足場を構成する。このように，処理室１１０の周囲の足場２６０のみならず，レール２０２の周囲にも足場２６２を設けることによって，作業者は，これらの足場２６０，２６２を往来して，各処理室１１０の基体部１１２の内部のみならず，レール２０２上にある蓋体部１１４の内部のメンテナンスを行うことができる。
【００５４】
このようなレール２０２周囲の足場２６２についても，処理室１１０の周囲の足場２６０と同様に構成してもよい。なお，処理室１１０の構成によっては，レール２０２が支持フレーム１４０で支持されていない場合もあり，このような場合にはレール２０２周囲には足場２６２の支持ブラケットを取り付けられないので，足場２６２については支持ブラケットに足場板を支持する代わりに，足場板を支持する支持フレームを別途設けるようにしてもよい。
【００５５】
ところで，レール２０２の周囲の足場２６２に作業者がいるときに，蓋体部１１４をレール２０２に沿ってスライド移動させることは，蓋体部１１４と作業者が接触する虞もあるため好ましくない。また，基体部１１２の蓋体部１１４が閉じているときには，レール２０２上には蓋体部１１４が存在しないため，例えば一対のレール２０２間などレール２０２の近傍に大きな空間が生じてしまう。このときレール２０２周囲の足場２６２に作業者がいると，例えば歩行によりレール２０２間などに落下する虞がある。この問題に対処するために足場２６２のレール２０２側に柵を設けることも考えられるが，その柵が蓋体部１１４のメンテナンス作業の妨げになってしまう可能性もある。
【００５６】
そこで，本実施形態では，例えば図７に示すように各処理室１１０の周囲の足場２６０と各レール２０２の周囲の足場２６２との間に，これらの足場２６０，２６２の往来を妨げる複数の扉２１０（２１０Ａ１，２１０Ａ２，２１０Ｂ１，２１０Ｂ２，２１０Ｃ１）を設けることが好ましい。これにより，各レール２０２の周囲の足場２６２には必要な場合以外は立ち入ることができないようにすることができる。
【００５７】
以下，このような扉２１０の具体的構成例について図面を参照しながら説明する。図８は扉２１０の構成例の概略を示す外観斜視図であり，図９は扉２１０を上方から見た平面図である。扉２１０は，例えば図８に示すように起立した支柱部２１４に扉本体２１２をヒンジ部２１６で枢支して構成される。支柱部２１４は，処理室１１０の周囲の足場２６０の方に設けてもよく，またレール２０２周囲の足場２６２の方に設けてもよい。支柱部２１４を処理室１１０の周囲の足場２６０の方に設ける場合には，例えば複数の支持ブラケット１６２（図８では図示を省略）に取り付けるようにしてもよい。
【００５８】
また図９に示すように，扉２１０には，扉本体２１２の開閉状態を検出するセンサ２１８が設けられている。このようなセンサ２１８としては，例えば近接スイッチやリミットスイッチなどを挙げることができる。センサ２１８として近接スイッチを用いる場合には，例えば扉本体２１２が完全に閉じられたときにセンサ２１８の検出範囲に支柱部２１４の金属部が入るように，センサ２１８を扉本体２１２に取り付ける。
【００５９】
このセンサ２１８は，基板処理装置２００全体を制御する制御部２９０に電気的に接続されており，制御部２９０は，センサ２１８からの検出信号によって扉２１０の開閉状態を把握することができる。また，制御部２９０は，各処理室１１０の蓋体部１１４の開閉機構とも電気的に接続されている。したがって，制御部２９０は，蓋体部１１４のレール２０２上のスライド動作を扉２１０の開閉状態に応じて制御することができる。このようなインタロック制御の具体例としては次のようなものがある。
【００６０】
制御部２９０は，例えば扉２１０Ａ１と扉２１０Ａ２の各センサ２１８からの信号に基づいて，扉２１０Ａ１，２１０Ａ２が両方とも閉じられていることを検出している間は，処理室１１０Ａの蓋体部１１４Ａがレール２０２Ａに沿ってスライドすることを許可する。
【００６１】
このとき，例えば蓋体部１１４Ａの開閉機構が手動である場合には，例えば開閉機構のブレーキを解除して作業者による蓋体部１１４Ａのスライド動作を可能とする。なお，蓋体部１１４Ａの開閉機構が自動である場合には，制御部２９０は蓋体部１１４Ａの開閉機構を制御して，蓋体部１１４Ａをレール２０２Ａに沿ってスライド移動させる。
【００６２】
これに対して，制御部２９０は，扉２１０Ａ１と扉２１０Ａ２のうち少なくとも一方の扉が開かれていることを検出している間は，蓋体部１１４Ａのスライド動作を禁止する。
【００６３】
この場合，基体部１１２の蓋体部１１４が閉じているときには，蓋体部１１４がスライドするレール２０２周囲の足場２６２に立ち入ることができる扉２１０をすべて閉じるようにし，作業者がレール２０２周囲の足場２６２で作業をしているときには，その足場２６２に立ち入ることができる扉２１０を開くようにしておく必要がある。
【００６４】
例えば扉２１０Ａ１と扉２１０Ａ２との間の足場２６２に作業者がいる場合には両扉２１０Ａ１，２１０Ａ２のうちの少なくとも一方を開くようにし，その足場２６２に作業者がいない場合には両方の扉２１０Ａ１，２１０Ａ２を閉じるようにすればよい。
【００６５】
これにより，両方の扉２１０Ａ１，２１０Ａ２が閉じられている場合には，作業者がレール２０２Ａ周囲の足場２６２にいないため，レール２０２Ａに沿って蓋体部１１４をスライドさせても，蓋体部１１４と作業者が接触する虞はない。また，レール２０２に沿って蓋体部１１４を基体部１１２までスライドさせた場合でも，足場２６２から作業者が落下する危険はなくなる。
【００６６】
その他，例えば扉２１０に制御部２９０からの制御に応じて解錠・施錠可能なロック機構を設け，蓋体部１１４の開閉動作に応じて扉２１０のロック機構を制御するようにしてもよい。すなわち，基体部１１２の蓋体部１１４が閉じているとき，または蓋体部１１４がレール２０２に沿ってスライドしているときには，扉２１０に自動的にロックを掛けてレール２０２周囲の足場２６２には強制的に作業者が立ち入ることができないようにしてもよい。さらに，レール２０２周囲の足場２６２にエリアセンサを設けて，直接的に作業者の有無を検出して，その検出結果に基づいて蓋体部１１４のスライド動作を制御するようにしてもよい。
【００６７】
このように第２実施形態によれば，第１実施形態と同様の効果が得られる。また，処理室１１０周囲の足場２６０とレール２０２周囲の足場２６２に扉２１０を設け，必要なときのみレール２０２周囲の足場２６２に立ち入ることができるようにすることで，メンテナンス作業の安全性をより高めることができる。
【００６８】
なお，処理室１１０周囲の足場２６０とレール２０２周囲の足場２６２に設ける扉の構成は図８に示すものに限られるものではなく，扉の内側に更なる扉を設けた２枚構成の所謂二重扉で構成してもよい。例えば図７に示すように蓋体部１１４（１１４Ａ〜１１４Ｃ）のスライド機構１１３（１１３Ａ〜１１３Ｃ）が支持フレーム１４０やレール２０２の外側に張り出さない場合は，図８に示すような扉２１０でも，蓋体部１１４がスライドした際に扉２１０と干渉することはない。
【００６９】
ところが，蓋体部１１４やそのスライド機構１１３の形状などによっては，例えば図１０に示すように蓋体部１１４のスライド機構１１３の一部が支持フレーム１４０やレール２０２よりも外側に張り出す場合もある。このような蓋体部１１４がレール２０２に沿ってスライドする際には，蓋体部１１４やスライド機構１１３の一部が，閉じた扉２１０に干渉する虞もある。そこで，このような場合には，一枚構成の扉２１０に代えて二枚構成の扉，例えば図１０に示すような二重扉を用いることで，蓋体部１１４がスライドする際に扉と干渉することを防ぐことができる。
【００７０】
以下，このような扉の変形例として二重扉の具体的構成例について説明する。図１０は，本実施形態における二重扉の外観斜視図である。図１０に示す二重扉２２０は，２枚の扉すなわち外扉（主扉）２２２と，さらに外扉２２２の片側に重ねて設けた内扉（副扉）２２４からなる。外扉２２２は，図８に示す上記の扉２１０の扉本体２１２と同様に，例えば起立した支柱部２１４にヒンジ部２１６で枢支されている。
【００７１】
内扉２２４は外扉２２２の戸先の外側を閉じるための扉であり，内扉２２４を外扉２２２に重ねた状態でも，外扉２２２を閉じれば通り抜けできないように（足場２６０と足場２６２との間を往来できないように）構成されている。具体的には，内扉２２４は，外扉２２２の戸先側に取り付けられたヒンジ部（図示せず）によって枢支されており，戸先側を中心にして矢印Ｒ又はＬの方向に回動できるようになっている。
【００７２】
このように構成された二重扉２２０によれば，外扉２２２を閉じることによって，足場２６０，２６２の作業者の往来を規制することができる。また外扉２２２は，その幅が足場２６０，２６２の幅よりも狭くなるように構成されており，これによって外扉２２２を完全に閉じても，その戸先と支持フレーム１４０との間に，すなわち足場２６０，２６２の内側に，蓋体部１１４をスライド動作する際に外扉２２２との干渉を防ぐための隙間Ｓを形成することができる。
【００７３】
具体的には，内扉２２４を矢印Ｒの方向に回動させて外扉２２２に重ねるようにすれば，足場２６０，２６２の内側に扉が存在しない隙間Ｓを形成することができる。これに対して，内扉２２４を矢印Ｌの方向に回動させると，外扉２２２の戸先の外側まで内扉２２４を回動できるので，内扉２２４によって足場２６０，２６２の内側の隙間Ｓを塞ぐことができる。
【００７４】
例えば蓋体部１１４が閉じている際には，内扉２２４を矢印Ｌの方向に回動させて外扉２２２を閉じることによって隙間Ｓを塞ぐ。これにより，各処理室１１０の周囲の足場２６０から各レール２０２の周囲の足場２６２への作業者の立ち入りを規制できる。
【００７５】
また，蓋体部１１４をスライド動作する際には，内扉２２４を外扉２２２に重ねた状態で外扉２２２を閉じる。これにより，外扉２２２の戸先と支持フレーム１４０との間（処理室１１０との間）に隙間Ｓが確保されるので，スライド機構１１３などが外扉２２２と干渉することを防止できる。すなわち，たとえスライド機構１１３の一部が外側に張り出すような形状の場合であっても，その張り出した部分は蓋体部１１４がスライドする際に隙間Ｓを通るので，二重扉２２０と干渉することはない。さらに，この場合には，各レール２０２の周囲の足場２６２への作業者の立ち入りできなくすることができる。
【００７６】
また，蓋体部１１４が完全に開いている際には，内扉２２４を外扉２２２に重ねたまま外扉２２２を開くことによって，各処理室１１０の周囲の足場２６０から各レール２０２の周囲の足場２６２への作業者の立ち入りが可能となる。
【００７７】
なお，外扉２２２および内扉２２４に近接スイッチやリミットスイッチなどのセンサを設けることにより，蓋体部１１４のスライド動作を外扉２２２および内扉２２４の開閉状態に応じて制御するようにしてもよい。
【００７８】
また，第２実施形態では扉２１０，二重扉２２０をそれぞれ開き戸で構成した場合について説明したが，これに限られるものではなく，扉２１０，二重扉２２０をそれぞれ引き戸や折れ戸などで構成してもよい。
【００７９】
以上，添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが，本発明は係る例に限定されない。当業者であれば，特許請求の範囲に記載された範疇内において，各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり，それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【００８０】
例えば，基板処理装置としてプラズマ処理装置を例に挙げて本発明の実施形態を説明したが，本発明は必ずしもこれに限定されるものではなく，スパッタリング装置，コータデベロッパ，洗浄装置，ＣＭＰ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）装置，ＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）装置，露光装置，イオンインプランタなどにも適用可能である。
【００８１】
また，本発明はマルチチャンバ型の基板処理装置だけでなく単一の処理室から構成される基板処理装置にも適用可能である。また，一枚ずつ基板を処理する枚葉式の基板処理装置だけでなく，複数枚の基板を一括して処理するバッチ式の処理装置にも適用可能である。
【００８２】
さらに，被処理基板は，上記ＦＰＤ用基板に限定されることなく，例えば半導体ウエハ，ＣＤ基板，プリント基板，セラミック基板，太陽電池基板などであってもよい。
【産業上の利用可能性】
【００８３】
本発明は，被処理基板に対して所定の処理を施す処理室を備えた基板処理装置及びそれを支持するのに用いられる支持フレームに適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００８４】
【図１】本発明の第１実施形態にかかる基板処理装置の外観構成の概略を示す斜視図である。
【図２】図１に示す基板処理装置を上方から見た場合の平面図である。
【図３】図１に示す基板処理装置の正面図である。
【図４】図１に示す基板処理装置の支持フレームの構成を説明するための斜視図である。
【図５】図４に示す支持ブラケットの取付例を説明するための斜視図である。
【図６】図５に示す支持ブラケットと梁部材との接続部を側面から見た図である。
【図７】本発明の第２実施形態にかかる基板処理装置の構成の概略を示す図であって，基板処理装置を上方から見た場合の平面図である。
【図８】図７に示す扉の構成例の概略を示す斜視図である。
【図９】図８に示す扉を上方から見た平面図である。
【図１０】図７に示す扉の他の構成例の概略を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００８５】
１００ 基板処理装置
１０２（１０２Ａ〜１０２Ｃ） ゲートバルブ
１０４，１０６ ゲートバルブ
１１０（１１０Ａ〜１１０Ｃ） 処理室
１１２（１１２Ａ〜１１２Ｃ） 基体部
１１３（１１３Ａ〜１１３Ｃ） スライド機構
１１４（１１４Ａ〜１１４Ｃ） 蓋体部
１２０ 搬送室
１３０ ロードロック室
１４０ 支持フレーム
１４２ 梁部材
１４４ 柱部材
１６０ 足場
１６２ 支持ブラケット
１６４ 足場板
１６６ 柵
１７０ ベース板
１７２ 締結部材
２００ 基板処理装置
２０２（２０２Ａ〜２０２Ｃ） レール
２１０（２１０Ａ１，２１０Ａ２，２１０Ｂ１，２１０Ｂ２，２１０Ｃ１） 扉
２１２ 扉本体
２１４ 支柱部
２１６ ヒンジ部
２１８ センサ
２２０ 二重扉
２２２ 外扉
２２４ 内扉
２６０，２６２ 足場
２９０ 制御部
Ｓ 隙間
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理基板に対して所定の処理を施す処理室を備えた基板処理装置を支持するために床面上に配置される支持フレームであって，
前記床面から所定の高さの部位に前記処理室の周囲から外側に張り出すように足場を直接設けたことを特徴とする支持フレーム。
【請求項２】
前記足場は，
前記支持フレームの外側に取り付けられた複数の支持ブラケットと，
前記支持ブラケットに水平に支持された足場板と，
を備えたことを特徴とする請求項１に記載の支持フレーム。
【請求項３】
前記各支持ブラケットは，形鋼によって形成されたことを特徴とする請求項１又は２に記載の支持フレーム。
【請求項４】
前記各支持ブラケットは，前記支持フレームに対して着脱自在であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の支持フレーム。
【請求項５】
前記処理室は，基体部と，この基体部に着脱自在の蓋体部とから構成されており，さらに前記基体部から離脱した前記蓋体部を前記基体部の側方の待避部位までスライド可能なレールを備え，
前記レールの周囲にも足場を設け，前記処理室の周囲の足場との間を往来できるようにしたことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の支持フレーム。
【請求項６】
前記処理室の周囲の足場と前記レールの周囲の足場との間に，これらの足場間の往来を妨げる扉を設けたことを特徴とする請求項５に記載の支持フレーム。
【請求項７】
前記扉の開閉状態を検出するセンサと，
前記センサの検出結果に応じて前記蓋体部の着脱動作を制御する制御部と，を備え，
前記制御部は，前記センサが前記扉の開状態を検出している間は前記蓋体部の着脱動作ができないように規制することを特徴とする請求項６に記載の支持フレーム。
【請求項８】
前記扉にロック機構を設け，
前記制御部は，前記蓋体部が閉状態を検出している間及び前記蓋体部の着脱動作が行われている間は，前記扉が開かないようにロックすることを特徴とする請求項６又は７に記載の支持フレーム。
【請求項９】
前記扉は，外扉と，この外扉に対して回動自在な内扉とからなる二重扉で構成され，
前記外扉は，前記足場の幅よりも狭い幅で構成して，前記足場の外側寄りに設けた支柱部に枢支し，
前記内扉は，前記外扉の戸先側に枢支したことを特徴とする請求項６〜８のいずれかに記載の支持フレーム。
【請求項１０】
被処理基板に対して所定の処理を施す処理室と，床面上に配置されて前記処理室を支持する支持フレームと，を備えた基板処理装置であって，
前記床面から所定の高さの部位に，前記処理室の周囲から外側に張り出すように前記支持フレームの外側に直接取り付けられた複数の支持ブラケットと，
前記支持ブラケットに水平に支持された足場板と，
を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項１】
被処理基板に対して所定の処理を施す処理室を備えた基板処理装置を支持するために床面上に配置される支持フレームであって，
前記床面から所定の高さの部位に前記処理室の周囲から外側に張り出すように足場を直接設けたことを特徴とする支持フレーム。
【請求項２】
前記足場は，
前記支持フレームの外側に取り付けられた複数の支持ブラケットと，
前記支持ブラケットに水平に支持された足場板と，
を備えたことを特徴とする請求項１に記載の支持フレーム。
【請求項３】
前記各支持ブラケットは，形鋼によって形成されたことを特徴とする請求項１又は２に記載の支持フレーム。
【請求項４】
前記各支持ブラケットは，前記支持フレームに対して着脱自在であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の支持フレーム。
【請求項５】
前記処理室は，基体部と，この基体部に着脱自在の蓋体部とから構成されており，さらに前記基体部から離脱した前記蓋体部を前記基体部の側方の待避部位までスライド可能なレールを備え，
前記レールの周囲にも足場を設け，前記処理室の周囲の足場との間を往来できるようにしたことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の支持フレーム。
【請求項６】
前記処理室の周囲の足場と前記レールの周囲の足場との間に，これらの足場間の往来を妨げる扉を設けたことを特徴とする請求項５に記載の支持フレーム。
【請求項７】
前記扉の開閉状態を検出するセンサと，
前記センサの検出結果に応じて前記蓋体部の着脱動作を制御する制御部と，を備え，
前記制御部は，前記センサが前記扉の開状態を検出している間は前記蓋体部の着脱動作ができないように規制することを特徴とする請求項６に記載の支持フレーム。
【請求項８】
前記扉にロック機構を設け，
前記制御部は，前記蓋体部が閉状態を検出している間及び前記蓋体部の着脱動作が行われている間は，前記扉が開かないようにロックすることを特徴とする請求項６又は７に記載の支持フレーム。
【請求項９】
前記扉は，外扉と，この外扉に対して回動自在な内扉とからなる二重扉で構成され，
前記外扉は，前記足場の幅よりも狭い幅で構成して，前記足場の外側寄りに設けた支柱部に枢支し，
前記内扉は，前記外扉の戸先側に枢支したことを特徴とする請求項６〜８のいずれかに記載の支持フレーム。
【請求項１０】
被処理基板に対して所定の処理を施す処理室と，床面上に配置されて前記処理室を支持する支持フレームと，を備えた基板処理装置であって，
前記床面から所定の高さの部位に，前記処理室の周囲から外側に張り出すように前記支持フレームの外側に直接取り付けられた複数の支持ブラケットと，
前記支持ブラケットに水平に支持された足場板と，
を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２０１０−１６１４４（Ｐ２０１０−１６１４４Ａ）
【公開日】平成２２年１月２１日（２０１０．１．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−１７４１２８（Ｐ２００８−１７４１２８）
【出願日】平成２０年７月３日（２００８．７．３）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１月２１日（２０１０．１．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年７月３日（２００８．７．３）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
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