【課題】本発明の技術的課題は、高度に制御された巨大な設備を必要とせず、短時間で超伝導結晶を高度に配向させることが可能な超伝導材料の製造方法を創案することである。
【解決手段】本発明の超伝導材料の製造方法は、超伝導結晶が集合した超伝導結晶集合体を用意する準備工程と、超伝導結晶集合体にレーザーを照射する照射工程と、レーザーの照射位置を走査する走査工程と、走査工程後に超伝導結晶集合体を熱処理する熱処理工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、Ｂｉ−２２１２結晶粉末等を短時間、且つ容易に作製可能な方法を創案すると共に、Ｂｉ−２２１２結晶等の配向性が良好な超伝導線材を短時間、且つ容易に作製可能な方法を創案することを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の超伝導結晶粉末の製造方法は、組成として、モル％濃度で、Ｂｉ_２Ｏ_３ １０〜３０％、ＳｒＯ ２０〜５０％、ＣａＯ ５〜３０％、ＣｕＯ ２０〜５０％を含有する非晶質体を用意する工程と、非晶質体を熱処理して、超伝導結晶物を得る工程と、超伝導結晶物から超伝導結晶粉末を採取する工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】直流送電及び交流送電に対して、全断面に均一な電流分布を示す、超伝導電気導体の、簡単に実施することのできる製造方法を提供する。
【解決手段】超伝導材料としてセラミックス材料を備えた、超伝導電気導体を製造する製造方法である。超伝導性セラミックス材料を塗布した支持体の、複数の平坦なストリップ（１）の周りに、金属性帯状体（３）を長手方向に巻いて、長手方向に走るスリットを備えた管を成形し、該金属性帯状体の、該スリットに沿って存在するエッジを互いに溶接する。複数のストリップを、個々のストリップが、該導体の延長方向において、該導体の断面内の異なった位置を占めるように、恒常的に位置交換しながら該管へ供給する。溶接プロセスによって閉じられた管（９）を、すべての、管内に存在するストリップを覆う領域に対応する内径まで小さくする。 （もっと読む）

【課題】高温超電導線材を巻線する際等に発生する高温超電導層が金属基板から引き剥がそうとする力に起因する超電導特性の劣化を防止する。
【解決手段】金属基板４上に高温超電導材料からなる高温超電導層６を含む複数の層を積層して複数の高温超電導線材部品１Ａ，１Ｂを製作し、高温超電導線材部品１Ａ，１Ｂを離間して配置してその上下に安定化金属層３Ａ，３Ｂを配置し、安定化金属層３Ａ，３Ｂの間を高温超電導線材部品１Ａ，１Ｂの離間領域を含めてはんだ２で接合することにより、高温超電導線材１０を製造する。 （もっと読む）

【課題】ターゲットを有効使用できるとともに、成膜領域の温度の変動を抑え、均一な膜質及び特性の薄膜を安定して成膜することのできる成膜装置および成膜方法の提供。
【解決手段】本発明の成膜装置２０は、レーザ光Ｌによってターゲット３１から叩き出され若しくは蒸発した構成粒子を基材２５上に堆積させ、基材２５上に薄膜を形成する成膜装置２０であって、基材２５に対向するように配されたターゲット３１と、ターゲット３１の外周面を取り囲んで設けられたターゲット保持部材３２と、ターゲット３１にレーザ光Ｌを照射するレーザ光発光手段２８とを少なくとも備え、ターゲット保持部材３２が、熱伝導率４０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下、融点２０００℃以上の材料より形成されてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】優れた密着強度を銅の高配向と同時に実現できる超電導化合物用基板およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】圧下率９０％以上で加工された銅箔の表面をスパッタエッチングして表面の吸着物を除去し、非磁性の金属板をスパッタエッチングし、前記銅箔と前記金属板とを圧延ロールにより加圧して接合し、前記接合した積層体を加熱して前記銅を結晶配向させるとともに、前記銅を前記金属板に１０ｎｍ以上熱拡散させ、前記積層体の銅表面上に保護層を積層することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、酸化物超電導層の下地となる高配向度のキャップ層において従来必要とされていたＬＭＯの下地層を用いることなく優れた結晶配向性を得ることができる技術の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、金属基板１と、該金属基板１上にイオンビームアシスト法（ＩＢＡＤ法）により形成したＭｇＯの中間層３と、該中間層３上に直接形成されて前記中間層３の結晶配向性よりも優れた結晶配向性を示すキャップ層５とを具備してなる酸化物超電導導体用基材Ａであって、前記ＭｇＯの中間層３に前記キャップ層５の形成前に加湿処理が施され、該キャップ層５が優れた自己配向性を備えて前記中間層３の結晶配向性よりも優れた結晶配向性を有していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】交流損失が小さい超電導ケーブル、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】超電導ケーブル1は、磁性材料からなる磁性基板上に超電導相が形成された薄膜線材120を螺旋状に巻回してなる多層構造の超電導線材層(超電導導体層12,超電導シールド層14)を具える。各超電導線材層は、薄膜線材120を巻き付け半径R_(n)(m)、巻き付けピッチP_(n)(m)で巻回することで形成されている。n層目の超電導線材層に実効値I_(n)(Arms)の交流電流が流されたときに、この層の外側に形成される外側磁場をB_(n)out(T)、内側に形成される内側磁場をB_(n)in(T)とし、B_(n)out＞B_(n)inを満たすとき、薄膜線材120の超電導相が外周側を向いて巻回され、B_(n)out＜B_(n)inを満たすとき、薄膜線材120の超電導相が内周側を向いて巻回されていることで、交流損失が小さい。 （もっと読む）

【課題】超電導導体層の超電導薄膜と常電導導体部との接続箇所の抵抗を低減できる超電導ケーブルの端末構造を提供する。
【解決手段】この端末構造は、超電導ケーブルの超電導導体層113と、この超電導導体層と接続されて常温側の機器と電力を授受するための常電導導体部353とを備える。超電導導体層113は、基板22上に形成された超電導薄膜26を有する超電導線材2を、超電導薄膜26が内周側、基板22が外周側となるように螺旋状に巻回して構成される。この端末構造は、超電導薄膜26に隣り合う接合面42を有する常電導接続部材4と、超電導薄膜26と接合面42に跨るように対面する超電導層56を備える接続用超電導シート5と、超電導薄膜26及び接合面42の双方と超電導層56とを接合する導電接合材6とを備える。常電導接続部材4は、その外周面から接合面42に導電接合材6を導入する貫通孔44を備える。 （もっと読む）

【課題】樹脂含浸された超電導コイル装置において、超電導線材に働く剥離力を十分に低減することができとともに、巻き数の異なる超電導線材同士のコイル径方向の伝熱経路を確保し、超電導線材の幅方向に対する伝熱性能を向上させる。
【解決手段】テープ状の超電導線材４と絶縁材５とを巻回してなる超電導コイル装置において、絶縁材５の表面に超電導線材４に働く剥離力を低減する離形処理を、テープ状絶縁材１の面内における幅方向両端部を除く部分の少なくとも一部に施す。 （もっと読む）

【課題】剥離しやすい高温超電導層を有する高温超電導線材を用いて作製した場合でも、超電導特性が劣化しない高温超電導パンケーキコイルおよびこのパンケーキコイルを用いた高温超電導コイルを提供すること。
【解決手段】本発明に係る高温超電導パンケーキコイル１は、金属基板２１の表面に中間層２２および酸化物超電導層２３を順次形成してなるテープ状の高温超電導線材２０を用い、この高温超電導線材が巻回されることにより軸方向中心を貫通する空間を有するパンケーキ状に形成されたパンケーキコイル１において、軸方向の１対の端面を構成する巻線側面部１２Ａ、１２Ｂの少なくとも一部が、樹脂層３０で被覆される。 （もっと読む）

【課題】中間層が外曲げの状態になることなく基板を搬送することが可能で、また、溶液塗布時、基板を一定状態に支持して超電導材原料溶液を安定的に均一に塗布することが可能であり、安定した品質の酸化物超電導線材を製造することができる製造装置を提供する。
【解決手段】巻出しリールから巻出される基板を中間層が内側となるように曲げて溶液塗布部の方向に案内する巻出し側ガイドロールと、酸化物超電導線材を酸化物超電導薄膜が内側となるように曲げて巻取りリールの方向に案内する巻取り側ガイドロールと、中間層の表面である塗布面とは反対側に位置する基板の下表面を吸着した状態で基板を搬送する吸引搬送機構とを備え、吸引搬送機構で基板の動きを規制した状態で超電導材原料溶液を塗布するよう構成されている酸化物超電導線材の製造装置。 （もっと読む）

【課題】溶接時に酸化物超電導体の前駆体粉末が変質したり、前駆体粉末に吸着した水分によりバルーニングが発生したりすることがない長尺で均一な性能を有する酸化物超電導線材を安価に製造する方法および装置を提供する。
【解決手段】帯状の金属板材を、水平面に対して４５°以上の角度で上方から下方に連続的に供給する金属板材供給工程と、供給された金属板材を、断面形状をＯ字状に成形すると共に、成形された金属板材の継ぎ目を連続的に溶接して被覆管を形成する被覆管形成工程と、形成された被覆管の内部に、酸化物超電導体の前駆体粉末を、溶接を行っている箇所よりも下方の位置で連続的に充填する前駆体充填工程と、酸化物超電導体の前駆体粉末が充填された被覆管を圧延または引き抜きする被覆管加工工程とを有している酸化物超電導線材の製造方法およびそれに用いる製造装置。 （もっと読む）

【課題】従来の超伝導体と比して、安価で、且つ供給量が安定している構成元素のみで構成される超伝導体を実現する。
【解決手段】超伝導体は、８族の元素、１５族の元素、及び１６族の元素のみを含む。１５族の元素及び１６族の元素の合計モル数が、８族の元素のモル数と等しくなる組成比となるように混合を行うことが好ましい。更には、上記混合工程では、８族の元素：１５族の元素：１６族の元素のモル比が３：２：１〜５：４：１の範囲内となるように混合を行うことがより好ましく、更に好ましくは１０：６：４〜１０：７：３の範囲内であり、最も好ましくは４：３：１である。 （もっと読む）

【課題】２世代高温超伝導線材の２本の超伝導体層を直接当接させて溶融拡散することによって、１本に連結する２世代高温超伝導線材の溶融拡散接合方法を提供する。
【解決手段】基板部、緩衝層、超伝導体層及び安定化材層を含む２世代高温超伝導線材の接合方法に関するもので、２世代高温超伝導線材の２本に含まれた安定化材層の一部を除去し、安定化材層が除去されて露出された２世代高温超伝導線材の２本の超伝導体層を当接させるように固定した後、超伝導体層の溶融点まで加熱することによって、当接させた超伝導体層を溶融拡散して２世代高温超伝導線材の２本を接合する。その後、接合部分を酸素雰囲気で酸化させ、２世代高温超伝導線材の超伝導特性を回復する。このような構成により、中間媒介体なしに直接超伝導体層を当接させて溶融拡散することによって、常伝導接合に比べて接合抵抗がほぼなく、充分に長い線材を製作することができ、特に、酸素分圧を真空に近い状態にして共融点を低下させることによって、銀（Ａｇ）を含有した安定化材層などが溶融されない状態で接合することができる。 （もっと読む）

【課題】レーザ蒸着装置に用いる酸化物ターゲットにおいて、その使用限界時間を改善し、安定した成膜を長時間行うことができるレーザー蒸着用酸化物ターゲットの提供。
【解決手段】ターゲットにレーザー光を照射してターゲット表面から酸化物の微粒子を発生させ、該微粒子を基材表面に堆積させ、基材表面に酸化物膜を成膜するレーザ蒸着装置に用いる酸化物ターゲットにおいて、ターゲットの固定プレート上に、Ａｇろう層が接合され、該Ａｇろう層上に酸化物・Ａｇ混合層が接合され、該酸化物・Ａｇ混合層上に酸化物層が接合されてなることを特徴とするレーザー蒸着用酸化物ターゲット。 （もっと読む）

【解決課題】エピタキシャル薄膜成長用の配向基板において、基板表面の配向度及び平滑性が従来のものよりも改善されたものを提供する。
【解決手段】本発明は、少なくとも片面に配向化金属層を有するエピタキシャル膜形成用配向基板の表面上に金属薄膜からなり１〜５０００ｎｍの厚さの配向性改善層を備え、配向化金属層表面における配向度（Δφ及びΔω）と、配向性改善層表面における配向度（Δφ及びΔω）との差が、いずれも０．１〜３．０°であることを特徴とするエピタキシャル膜形成用配向基板である。また、この配向基板配向性改善層を構成する金属と異なる他の金属を、膜厚相当で３０ｎｍ以下付加した後に熱処理を行うと、その表面の平滑性を改善することができる。このとき、基板表面の表面粗さは２０ｎｍ以下となる。 （もっと読む）

【解決課題】従来以上の配向性を有し、かつ、高強度のエピタキシャル薄膜形成用の配向基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、金属層と、前記金属層の少なくとも一方の面に接合されたニッケル層とからなるエピタキシャル薄膜形成用のクラッド配向金属基板であって、前記ニッケル層は、結晶軸のずれ角Δφが、Δφ≦７°である｛１００｝〈００１〉立方体集合組織を有し、かつ、前記ニッケル層のニッケル純度が９９．９％以上であるエピタキシャル薄膜形成用のクラッド配向金属基板である。この配向金属基板は、純度９９．９％以上のニッケル板を冷間加工、熱処理して配向化熱処理を行った後、金属板と配向化処理したニッケル板とを表面活性化接合で接合することにより製造される。 （もっと読む）

【課題】高温超電導線材を巻線する際等に発生する高温超電導層が金属基板から引き剥がそうとする力に起因する超電導特性の劣化を防止する。
【解決手段】金属基板４上に高温超電導材料からなる高温超電導層６を含む複数の層を積層して複数の高温超電導線材部品１Ａ，１Ｂを製作し、高温超電導線材部品１Ａ，１Ｂを離間して配置してその上下に安定化金属層３Ａ，３Ｂを配置し、安定化金属層３Ａ，３Ｂの間を高温超電導線材部品１Ａ，１Ｂの離間領域を含めてはんだ２で接合することにより、高温超電導線材１０を製造する。 （もっと読む）

【課題】これまで多くの超伝導化合物が見いだされているが、これらはいずれも可視光域
で不透明で、透明な超伝導体は実現していない。
【解決手段】化学式[Ｃａ₂₄Ａｌ₂₈Ｏ₆₄]^４＋・２[ｘＯ^２−＋２ｙＡ＋２{１−（ｘ＋２ｙ
）}ｅ⁻] （Ａ＝ＯＨ⁻、Ｏ⁻、Ｏ_２⁻のいずれか１種以上、０≦ｘ＋２ｙ≦０．５)で示
され、超伝導電気伝導を示し、かつ膜厚４０ナノメートルを基準として、ＪＩＳ Ｒ１６
３５で規定される方法により測定した可視光透過率が８０％以上であるマイエナイト型結
晶構造を有する化合物からなることを特徴とする超伝導化合物薄膜。化学式が[Ｃａ₂₄Ａ
ｌ₂₈Ｏ₆₄]^４＋・２[ｘＯ^２−＋２ｙＡ] (２番目の大括弧は、ケージ中のアニオンを示す
。また、Ａ＝ＯＨ⁻、Ｏ⁻、Ｏ_２⁻のいずれか１種以上：０≦ｘ≦１、ｙ＝１−ｘ）で示
される薄膜中のアニオンの１／２以上を還元処理により電子に置換することにより作成で
きる。 （もっと読む）