【課題】低抵抗で透明性に優れる、第一導電性層、透明性の高い接着層及び第二導電性層を有する透明導電性基板及び該透明導電性基板を安価に製造可能な製造方法を提供する。
【解決手段】金属微粒子分散溶液を基材２上に塗布し乾燥させ、網目状の第一導電性層３を基材２上に形成させた後、第一導電性層３を透明性の高い接着層７で完全に覆い、前記基材２と被転写基板８とを貼り合せた後、熱転写して基材２を剥離する。これにより第一導電性層３と接着層７が一体的に被転写基板８に熱転写させる。その後、熱転写された転写層１０の表面１４に導電性樹脂を含む樹脂を塗布し、第一導電性層３と接続する第二導電性層５を形成する。これにより低抵抗で透明性に優れる透明導電性基板２０が得られる。 （もっと読む）

【課題】低抵抗で透明性に優れる、第一導電性層、透明性の高い粘着層及び第二導電性層を有する透明導電性基板及び該透明導電性基板を安価に製造可能な製造方法を提供する。
【解決手段】金属微粒子分散溶液を基材２上に塗布し乾燥させ、網目状の第一導電性層３を基材２上に形成させた後、第一導電性層３を透明性の高い粘着層７で完全に覆い、前記基材２と被転写基板８とを貼り合せた後、転写して基材２を剥離する。これにより第一導電性層３と粘着層７が一体的に被転写基板８に転写させる。その後、転写された転写層１０の表面１４に導電性樹脂を含む樹脂を塗布し、第一導電性層３と接続する第二導電性層５を形成する。これにより低抵抗で透明性に優れる透明導電性基板２０が得られる。 （もっと読む）

【課題】低抵抗で透明性に優れる共に平坦性に優れる透明導電性基板及び該透明導電性基板を安価に製造可能な製造方法を提供する。
【解決手段】金属微粒子分散溶液を基材２上に塗布し乾燥させ、網目状の第一導電性層３を基材２上に形成させた後、第一導電性層３を透明性の高い接着層７で完全に覆い、前記基材２と被転写基板８とを貼り合せた後、基材２を剥離する。これにより第一導電性層３と接着層７とが一体的に被転写基板８に熱転写させる。その後、熱転写された第一導電性層３の表面１５をエッチングし、エッチングで形成された孔部２１にめっきを施す。これにより低抵抗で透明性に優れる共に平坦性に優れる透明導電性基板１が得られる。 （もっと読む）

【課題】
繰り返し機械的負荷を受けた場合においても、形状変化や抵抗変動等の物性変化が少なく、長期間の使用を経ても製造時の性能を維持すること可能な透明導電体、及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】
Ｓｉ酸化物硬化体と導電粉とを含有する導電層を備え、上記導電粉が、上記Ｓｉ酸化物硬化体で固定されていることを特徴とする、透明導電体。 （もっと読む）

【課題】耐熱性の高い透明導電膜を適用することで、より低コストの、熱負荷の高い製造工程を採用した場合でも、位置検出に問題のない、高品位の表示が可能な静電容量式タッチパネルとその製造方法及び液晶表示装置を提供する。
【解決手段】透明基板上に、少なくとも透明導電膜と、誘電体層とが積層されており、該基板額縁部に少なくとも位置検出用配線部並びに位置検出用電極からなる位置検出用部材が配置された構造を有する静電容量式タッチパネルであって、前記透明導電膜が酸化インジウムを主成分とし、ガリウムおよびスズを含む酸化物からなることを特徴とする静電容量式タッチパネルなどによって提供。 （もっと読む）

【課題】塗布により基材に透明導電膜を形成するに際し、塗膜を硬化処理した後にカレンダ処理を行うことにより、良好な電気特性及び光学特性を有しつつ、優れた塗膜強度を有する透明導電性シートを得る。
【解決手段】本発明の透明導電性シートの製造方法は、透明基材１１と、透明基材１１の上に形成された透明導電膜１２とを含む透明導電性シート１０の製造方法であって、透明基材１１の上に、透明導電性粒子と硬化性樹脂と溶剤とを含むコーティング組成物を塗布して塗膜を形成する工程と、上記塗膜を硬化処理する工程と、上記硬化処理後の塗膜をカレンダ処理して透明導電膜１２を形成する工程とを含み、上記透明導電性粒子の平均一次粒子径が、１０〜２００ｎｍであり、上記コーティング組成物における透明導電性粒子の体積含有率が、４０〜８０％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】真空チャンバなどの高真空下の環境を形成するための大掛かりな装置を必要とせず、低コストで透明導電膜を製造する方法を提供する。
【解決手段】透明基板３上に透明導電膜となる金属膜４を不活性気体雰囲気中でスパッタ法により形成する工程と、前記金属膜４を酸化させる工程とを含み、前記金属膜４を形成する工程において不活性気体雰囲気に微量の酸素を添加し、金属膜４を僅かに酸化させることを特徴とする透明導電膜の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 従来型のフォトリソグラフィーの工程を必要とせず、かつ、透明で十分な導電性を示す導電膜の厚膜を印刷法で実現する透明電極の製造方法、当該製造方法で得られる透明電極、用いる導電インキ、撥液性透明絶縁インキを提供する。
【解決手段】 樹脂、及び、シリコーン系又はフッ素系の界面活性剤を含有する撥液性透明絶縁インキを用いて、印刷法によりパターンを形成する工程、前記した撥液性透明絶縁インキの乾燥皮膜に対してはじき性を有する導電インキを全面に塗布し、該導電インキが、該撥液性透明絶縁インキの乾燥皮膜に、はじかれることにより、基板上の、該撥液性透明絶縁インキの乾燥皮膜が形成されていない部分に導電インキ層を形成する工程を有する透明電極の製造方法。 （もっと読む）

【課題】導電性無機粒子の体積含有率及び平均粒子径並びに透明導電膜の膜厚を、特定の要件を満たすようにして、帯電防止機能が高くかつ透明性に優れる透明導電膜を得る。
【解決手段】本発明の透明導電膜は、導電性無機粒子と樹脂成分とを含む透明導電膜であって、上記導電性無機粒子の体積含有率Ａが、２５〜６０％であり、上記導電性無機粒子の平均粒子径Ｂが、３０〜２００ｎｍであり、上記透明導電膜の膜厚Ｃが、０．３〜３．０μｍであり、上記導電性無機粒子の体積含有率Ａ、上記導電性無機粒子の平均粒子径Ｂ及び上記透明導電膜の膜厚Ｃの関係が、下記数式（１）の要件を満たすことを特徴とする。
数式（１） ０．８≦（Ａ／１００）²×√Ｂ×Ｃ≦４．０ （もっと読む）

【課題】エッチング後の導電性能、および、信頼性に優れた、導電性樹脂パターンを有する積層体の製造方法を提供すること。
【解決手段】（ａ）透明基体、および、該透明基体に設けられた導電性樹脂組成物層を有する導電性積層体を準備する工程、（ｂ）前記導電性樹脂組成物層上にレジストパターンを形成する工程、（ｃ）硝酸セリウムアンモニウム、硫酸セリウムアンモニウム、および、次亜塩素酸塩よりなる群から選択された少なくとも１種類を含有するエッチング剤を用いてレジストパターン非形成部の導電性樹脂組成物層を除去する工程、並びに、（ｄ）レジストパターンを、窒素原子を含有しない非プロトン性有機溶剤、および／または、化学構造中に窒素原子を有し、かつ、第一級、第二級アミン化合物および第四アンモニウム塩以外の有機溶剤を含有する剥離剤により除去する工程、をこの順で含むことを特徴とする導電性樹脂パターンを有する積層体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 材料（塗布液）の使用効率と均一な膜の両立を図る反射色分布の均一なシールド膜の簡便な製造方法の提供及びそのシールド膜の製造方法を用いたフラットパネルディスプレイの提供。
【解決する手段】透明基板上に順次形成される透明導電性微粒子層と酸化ケイ素を主成分とするバインダーマトリックスからなる透明オーバーコート層とから構成される透明２層膜を備えるシールド膜の製造方法において、その透明導電性微粒子層は、透明導電性微粒子を含む透明導電性微粒子層形成用塗布液を透明基板上にスリットコート法を用いて形成し、透明オーバーコート層は、透明オーバーコート層形成用塗布液を透明導電性微粒子層上にスピンコート法を用いて形成するシールド膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】導電性、透明性、及び密着性に優れる導電性材料及び導電性膜の提供。導電性や透明性を低下させずに密着性に優れる導電性材料の作製方法の提供。
【解決手段】基板の表面をチオフェン誘導体で修飾した後、導電性高分子前駆体を付与し、前記チオフェン誘導体と前記導電性高分子前駆体とを酸化重合して、前記基板上に導電性膜を形成する導電性材料の作製方法、これにより得られる導電性材料。トリハロシリル基又はトリアルコキシシリル基を有するチオフェン誘導体と、導電性高分子前駆体と、を酸化重合してなる導電性膜。 （もっと読む）

【課題】真空チャンバなどの高真空下の環境を形成するための大掛かりな装置を必要とせず、低コストで透明導電膜を製造する方法を提供する。
【解決手段】透明基板1上に透明導電膜となる金属膜2を不活性気体雰囲気中で形成する工程と、前記金属膜に酸化雰囲気中でレーザビームを照射し、該金属膜を酸化させる工程とを含む透明導電膜8の製造方法である。前記金属膜の酸化工程において、酸化雰囲気中に水を供給し、レーザビームの照射で基板上の金属膜を加熱すると同時に水を分解させ、生じた酸素分子を基板上の金属膜に供給することで金属膜の酸化を促進させることが好ましい。前記基板は可撓性を有した絶縁性の連続シートまたは連続フィルムであることが好ましい。 （もっと読む）

ドロー中、例えばフュージョンドロー中またはファイバードロー中に、ガラス基板を被覆する方法が記載される。被覆は、導電被覆であり、透明でもよい。導電薄膜で被覆されたガラス基板は、例えば、ディスプレイ装置、太陽電池用途および多くの他の急伸する産業および用途において使用できる。
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この発明のある種の実施具体例は、熱処理されたガラス基板によって支持される透明導電性インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）膜を有する被覆品の製造技術に関する。実質的に亜酸化のＩＴＯまたは金属インジウムスズ（ＩｎＳｎ）膜をガラス基板上に室温でスパッタリング蒸着する。上に蒸着された状態の膜を有するガラス基板を昇温する。熱による焼き戻し、または熱強化は、蒸着された状態の膜を結晶透明導電性ＩＴＯ膜に変換する。有利なことに、このことは、例えば、金属モードにおけるＩＴＯ蒸着の一層高い速度のため、タッチパネル組立品のコストが減少する可能性がある。フロートガラスの使用によってタッチパネル組立品のコストが一層減少する可能性がある。
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【課題】より高い平坦性を有する平坦化物が得られる平坦化物の製造方法、平坦化物、及び被処理面の平坦化方法を提供する。
【解決手段】少なくとも基材１を有する平坦化物の製造方法であって、近接場光４ａ，４ｂ，４ｃを用いて被処理面をエッチングする近接場エッチング処理工程を有する平坦化物の製造方法とする。また、平坦化物は、この平坦化物の製造方法で製造される。さらに、被処理面の平坦化方法は、近接場光を用いて被処理面をエッチングすることにより、この被処理面２の最大突起５ａ，５ｂ，５ｃ長（Ｒｍａｘ）を１０ｎｍ以下とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、使用時に変形が生じるタッチパネル、電子ペーパーなどが具備する導電性膜付き積層体に用いた場合、視認性、導電性、光学特性に優れ、かつ変形に対する耐性が高く、低コストの導電性膜形成用組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】有機系導電性化合物、ポリスチレンスルホン酸またはその誘導体、重合開始剤および溶剤を含有することを特徴とする導電性膜形成用組成物。 （もっと読む）

本発明は、低電気シート抵抗及び高光透過性の所望の組み合わせを有する光透過性導電層を提供する。導電層は、平面内に多数の磁性ナノ構造を含み、これらの磁性ナノ構造は、複数の略平行な連続する導電経路となるように配列され、導電層が高い光透過性を示すことが可能な密度を有している。磁性ナノ構造は、ナノ粒子、ナノワイヤ、又は複合ナノワイヤとすることができる。複合磁性ナノワイヤは、ニッケル又はコバルトのような磁性金属層により被覆される銀ナノワイヤを含むことができる。更に、複合磁性ナノワイヤは、磁性金属ナノワイヤに取り付けられるカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）を含むことができる。基板上に導電層を形成する方法は、多数の磁性ナノ構造を基板に堆積させる工程と、磁界を印加して、基板の表面に平行な複数の導電経路となるようにナノ構造を形成する工程とを含む。
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【課題】導電性を損ねることなく、耐久性と密着性に優れた導電性材料、及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、１層以上の導電性層を有し、前記支持体と前記導電性層の間に、少なくとも２種のバインダ樹脂を含む易接着層を有する導電性材料。前記導電性層は好ましくはＰＥＤＯＴとＰＳＳを含有し、前記支持体は好ましくはＰＥＴで形成され、前記易接着層は、ポリウレタン樹脂及びアクリル樹脂を含むことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】導電性を損ねることなく密着性及び耐久性に優れた導電性材料、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の導電性材料は、支持体上に、１層以上の導電性層を有し、前記支持体と前記導電性層の間に２層以上の易接着層を有する。導電性層は好ましくはＰＥＤＯＴとＰＳＳを含有し、支持体は好ましくはＰＥＴで形成され、２層以上の易接着層は、それぞれ、ポリウレタン、ポリエステル及びポリアクリルのいずれかで構成されることが好ましい。 （もっと読む）