【課題】 特定の金属を含有する透明導電材料を画素電極、透明電極に使用することにより、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）基板の製造方法を簡略化する。
【解決手段】 表示装置に用いられるＴＦＴ基板であって、透明基板と、前記透明基板上に設けられ、前記表示装置の画素を制御する画素電極と、前記透明基板上に設けられ、前記画素電極を駆動する薄膜トランジスタと、を備え、前記薄膜トランジスタは、少なくとも、Ａｌゲート電極と、ゲート絶縁膜と、第１の半導体層と、第２の半導体層と、Ａｌソース・ドレイン電極と、を含み、前記画素電極は、前記Ａｌゲート電極及び／又は前記Ａｌソース・ドレイン電極と直接接合し、当該画素電極が、酸化亜鉛を主成分とする導電性酸化物よりなることを特徴とするＴＦＴ基板である。バリヤーメタルを設けていないので、製造工程を簡略化することができる。 （もっと読む）

【課題】 導電性高分子を用いた透明導電膜の導電性および光透過率が良好であり、しかも低コスト化が可能な電子デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】 導電性高分子を含む透明導電膜２３を形成する成膜工程と、透明導電膜２３の一部に紫外線４を照射することによって、照射部分を第２の領域２２とし、非照射部分を第１の領域２１とする紫外線照射工程とを有し、この紫外線照射工程において、紫外線４は、導電性高分子の吸収スペクトルにおける吸光度がバックグラウンドに対し２倍以上となる吸収を示す波長を含む。 （もっと読む）

【課題】 保存安定性に優れた導電性コーティング組成物であり、該組成物を用いて形成した膜は、強度が高く、導電性に優れ、透明性が高いものを提供する。
【解決手段】 （ａ）電子伝導性ポリマーと、（ｂ）電離放射線硬化性反応性官能基を分子中に２個以上有する化合物とを含有し、並びに、（ｃ）前記（ａ）電子伝導性ポリマーと前記（ｂ）電離放射線硬化性反応性官能基を分子中に２個以上有する化合物に対して相溶性を有するブロック共重合体を含有する導電性コーティング組成物である。 （もっと読む）

【課題】 低抵抗かつ膜質の面内均一性に優れた導電膜を廉価に再現性良く形成することが可能な導電膜の形成方法及び導電膜を提供する。
【解決手段】 本発明の導電膜の形成方法は、金属酸化物粒子を含有する塗布液を基材上に塗布して塗布膜とし、この塗布膜に３２０ｎｍ以上かつ４００ｎｍ以下の波長のレーザ光を照射することにより、この塗布膜を導電膜とすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 優れた光学特性を有し、かつ変形に耐性のある導電層を持ち、使用時に変形が生じるタッチパネル、電子ペーパー等に好ましく使用できる透明電極フィルムを提供すること。
【解決手段】 ノルボルネン系樹脂フィルムと、ポリエチレンジオキシチオフェンを含有する導電性膜とが積層されてなり、導電性膜表面の表面抵抗率が２×１０^３Ω／□以下である、複合フィルムを提供する。 （もっと読む）

【課題】
酸化インジウムをターゲットに用い、ガラス基板を非加熱の状態で、スパッタリング法によって酸化インジウム膜を形成した透明導電性基板は、該透明導電性基板を様々な温度で加熱処理すると、比抵抗が大きく変化してしまうという欠点を有していた。
【解決手段】
酸化インジウムターゲットを用いてスパッタリング法で非加熱のガラス基板上に酸化インジウム導電膜を成膜するときに、酸素ガスの量が２．５容積％以下のアルゴンガス雰囲気中で酸化インジウム膜を成膜し、酸化インジウムの成膜後、該酸化インジウムの成膜されたガラス基板を１００〜２００℃の温度で加熱処理し、酸化インジウムのシート抵抗を、５０〜１５０Ω／□とする酸化インジウム膜の製法。 （もっと読む）

【課題】多結晶ＩＴＯ薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】まず、基板上に非晶質ＩＴＯ薄膜を形成する。次に、非晶質ＩＴＯ薄膜を多結晶ＩＴＯ薄膜に変換するため、急速熱アニーリングプロセスを実施する。多結晶ＩＴＯ電極の製造方法をさらに提供する。まず、ＴＦＴアレイ基板上に非晶質ＩＴＯ薄膜を形成する。次に、複数の非晶質ＩＴＯ電極を形成するため、非晶質ＩＴＯ薄膜をパターン形成する。非晶質ＩＴＯ電極を複数の多結晶ＩＴＯ電極に変換するため、急速熱アニーリングプロセスを実施する。平坦性の向上した多結晶ＩＴＯ薄膜が形成される。処理時間が短縮され、プロセス処理能力が改善される。 （もっと読む）

【課題】 熱安定および低電気抵抗の酸化インジウムスズ膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 酸化物誘電層２０を形成し、即ち、基板１０の表面に酸化物薄膜を形成するステップａと、酸化物誘電層２０を表面処理し、即ち、酸素をイオン源設備に送入し、酸素がイオン源を通過した後に発生するイオン束により酸化物誘電層２０に表面処理を実行するステップｂと、透明導電膜を形成し、即ち、イオン処理を通過した後の酸化物誘電層２０の上に酸化インジウムスズ膜３０を積層するステップｃとを含む。基板１０は、プラスチックの本体１１と本体１１の一側面に形成される硬質コーティング１２から構成され、本体１１の他側は基板１０の表面１０ａを形成する。酸化物誘電層２０にイオン処理を予め実行することで、酸化物誘電層２０の安定性および精密度を高める。 （もっと読む）

【課題】 塗布膜に酸化性雰囲気中にてプラズマまたは電磁波を照射することにより、低抵抗かつ可視光透過率の高い透明導電膜を形成することができ、さらに、塗工法を用いたことにより量産性及びコスト面で優れている透明導電膜の形成方法及び透明導電膜を提供する。
【解決手段】 本発明の透明導電膜の形成方法は、平均一次粒子径が１ｎｍ以上かつ２００ｎｍ以下の酸素欠損型金属酸化物微粒子を含む塗布液をガラス基板、プラスチック基板等の基材１１上に塗布して塗布膜１２とし、この塗布膜１２に酸化性雰囲気中にてプラズマＰを照射することにより、基材１１上に透明導電膜１４を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

支持体上の実質的に透明な伝導層構成の製造方法であって、層構成がいずれかの順序で場合により式（Ｉ）［式中、ｎは１より大きくそしてＲ^１およびＲ^２のぞれぞれは独立して水素または場合により置換されていてもよいＣ_１−４アルキル基を表わすか或いは一緒になって場合により置換されていてもよいＣ_１−４アルキレン基または場合により置換されていてもよいシクロアルキレン基、好ましくはエチレン基、場合によりアルキル−置換されていてもよいメチレン基、場合によりＣ_１−１２アルキル−もしくはフェニル−置換されていてもよいエチレン基、１，３−プロピレン基もしくは１，２−シクロヘキシレン基を表わす］により示される構造単位を含有してもよい真性伝導性重合体を含有する第一の層および伝導性銀の非連続層よりなる第二の層を少なくとも含んでなり、この方法が写真処理により第二の層を生成せしめる段階を含んでなる方法、並びにこの方法に従い製造される発光ダイオード、光電池装置、トランジスターおよびエレクトロルミネセント装置。
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本発明は、多価アルコール、ポリオールまたはこれらの混合物３乃至２０重量％、炭素数が１乃至５の１価アルコール５乃至１０重量％、アミド系、スルホキシド系またはこれらの混合溶媒５乃至２５重量％、界面活性剤０．０１乃至０．１重量％及び残量としてナノ粒子サイズのポリエチレンジオキシチオフェン系伝導性高分子水溶液を含有する有機電極コーティング用組成物及びこれを用いた高透明性有機電極の製造方法に関し、コーティング時、有機伝導膜の可視光線領域での透過度が９０％以上であり、且つ面抵抗が３００〜９００Ω／ｓｑであって、優れた透明度を有し、これにより、ディスプレイ用透明電極のほか、有機トランジスタの電極や配線材料、スマートカード、アンテナ、電池及び燃料電池の電極、ＰＣＢ用コンデンサやインダクタ、電磁波遮蔽、センサなどの有機電極を製造することができる。 （もっと読む）

本発明は、好ましくはポリチオフェンに基づく導電性ポリマーから製造された透明機能層、その製造方法、および光学的構造体におけるその使用に関する。
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【課題】 改善された光学的および電気的膜特性を有する透明で導電性の酸化物膜（ＴＣＯ膜）であり、薄膜太陽電池において使用するのに適する表面構造を有する該膜の提供。
【解決手段】 この課題は、反応性スパッタリングによって基板上に導電性で透明な酸化亜鉛膜を生成し、プロセスにヒステリシス領域を有している方法において、ドーピング剤を含有する金属Ｚｎターゲットを使用し、該ターゲットのドーピング剤含有量が２．３原子％より少なく； 基板のための加熱器を、２００℃より高い該基板温度に調整される様に調整し；
１９０ｎｍ／分より早い静的溶着速度に相当する５０ｎｍ*ｍ／分より早い動的溶着速度に調整し；そして安定な金属プロセスと不安定なプロセスとの間の転換点と安定化されたプロセス曲線の屈曲点との間に位置する、不安定なプロセス領域内で安定化した作業点を選択する各段階を含むことを特徴とする、上記方法によって解決される。 （もっと読む）