【課題】透明導電体層がパターン化されており、かつ、見栄えの良好な透明導電性フィルムおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】透明なフィルム基材の片面または両面に、透明なフィルム基材から第一層目のアンダーコート層を有機物により形成する工程、前記アンダーコート層上に、スパッタリング法により透明導電体層を形成する工程、および前記透明導電体層を、エッチングしてパターン化する工程を有することを特徴とする透明導電性フィルムの製造方法。 （もっと読む）

導電性ポリマー、ナノ構造体、特にカーボンナノ構造体、およびこれらを組み合わせたものからなるナノ構造体を堆積させる方法について記載されている。この方法は、水性相および有機相からなる非混和性の組合せを含む液体組成物中にナノ構造体を入れるステップを含む。当該混合物は、エマルジョンを形成するのに十分な時間混合され、次に相がそのまま分離するように静置される。その結果、ナノ構造物質が、形成する相の界面に位置し、当該界面に沿って均一に分散される。次に、ナノ構造物質からなる膜が界面を横切る基材上に形成し、前記基材は、相を放置して落ち着かせ、分離させる前に、当該混合物中に予め配置されている。
（もっと読む）

【課題】ＰＥＴフィルム等の汎用高分子基板を用いることが可能であり、線幅、網目が細かく、ディスプレイ等に用いた場合には、モアレ等が生じない網目状の導電性膜を、簡易かつ安価に製造することができる製造方法、及び、導電性膜を提供する。
【解決手段】導電性微粒子を含む有機溶媒分散体を基板に塗布して網目状の導電性膜を製造する方法であって、該製造方法は、塗布された有機溶媒分散体を、塗膜表面で結露させながら有機溶媒を蒸発させる工程を含み、該有機溶媒分散体がノニオン性界面活性剤を必須成分とする網目状の導電性膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】誘電損失が小さく高い導電性を有する導電性要素およびその製造方法、並びに、その導電性要素を得るのに好適な導電性要素形成用感光材料を提供すること。
【解決手段】導電性要素は、支持体と、導電性金属で構成されたメッシュを含む金属メッシュ層と、バインダ量が０．２ｇ／ｍ^２以下の導電性微粒子含有層とを有する。この導電性要素は、支持体と、銀塩含有層と、バインダ量が０．２ｇ／ｍ^２以下の導電性微粒子含有層とを有する導電性要素形成用感光材料をメッシュ状にパターン露光および現像処理する製造方法により製造される。 （もっと読む）

【課題】接着フィルムの使用なしに透明基材の両面に電極層が形成された伝導性フィルム及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明基材、前記透明基材の両面に形成された接着補助層、及び前記接着補助層に形成された伝導性高分子層を含む。 （もっと読む）

【課題】高い導電性と良好な透明性を併せ持ち、かつ、膜の場所による導電性のばらつきを低減した透明導電基材の製造方法を提供する。
【解決手段】基材上に、少なくとも、金属ナノワイヤと、水溶性ポリマーと、水系溶媒とを含んでなる塗布液を塗布し、次いで乾燥することで形成した導電層を有する透明導電基材の製造方法において、該導電層の塗布液を塗布した塗膜の膜面温度を２７℃以上４２℃以下、乾燥速度（ｈ×ΔＴ）を１０００〜１００００（ｋｃａｌ／（ｍ^２・ｈｒ））で乾燥させることを特徴とする透明導電基材の製造方法。
但し、ｈは、伝熱係数（ｋｃａｌ／（ｍ^２・℃・ｈｒ））を表し、ΔＴ（℃）は、送風温度と塗膜の膜面温度との差を表す。 （もっと読む）

水性溶液中で、グラム単位の量のスケールでの銅ナノワイヤを製造するための合成方法であって、銅ナノワイヤが前記溶液中に分散される方法。銅ナノワイヤは、反応の最初の５分以内に、球状銅ナノ粒子から成長する。銅ナノワイヤは、溶液から収集されて、好ましくは可視光の６０％超を透過する導電性フィルム（好ましくは＜１００００Ω／ｓｑ）を形成するように印刷することができる。
（もっと読む）

【課題】光透過率を低下させることなく薄膜の電導性を向上させることのできる金属ナノ粒子を含むアルミニウム添加亜鉛酸化物（ＡＺＯ）透明導電膜の製造方法を提供する。
【解決手段】金属ナノ粒子を含むＡＺＯ透明導電膜の製造方法であって、先ず金属前駆体をゾルゲル法により形成されたアルミニウム添加亜鉛酸化物のアルコール含有反応液中に加えて、アルミニウム添加亜鉛酸化物のゾルゲルを形成すると同時にアルコールの還元作用により金属ナノ粒子を生成して、金属ナノ粒子を含むＡＺＯゲル溶液を形成し、塗布成膜後に適切な熱処理を経るものであり、この金属ナノ粒子を含むＡＺＯ透明導電膜の可視光線範囲全体の光透過率が８５％以上に達し、抵抗率が２×１０^-3Ω・cm以下である。 （もっと読む）

【課題】任意の色相に着色することができカラーフィルターの機能を有し、低い電気抵抗値を有すると共に低コストで製造できる透明導電体、前記透明導電体を製造するために好適に用いることのできる転写用導電性フィルム、さらに、前記転写用導電性フィルムを用いて、前記透明導電体を製造する方法を提供する。
【解決手段】基材６と、基材６上の透明導電層３と、基材６と透明導電層３との間に介在する接着層５とを有する透明導電体２０であって、前記導電層３は、導電性微粒子２の圧縮層であり、前記接着層５は、活性エネルギー線反応性基を有する硬化性化合物を少なくとも含む接着性成分と、着色材４とを含む接着剤組成物の硬化物層であり、前記導電層には、前記接着剤組成物のうちの前記接着性成分が含浸され硬化されている透明導電体。 （もっと読む）

【課題】
タッチパネル用電極用途に好適なカーボンナノチューブを導電層とした透明導電複合材を一定の品質を保ちながら安定的に製造する方法を提供する。
【解決手段】
カーボンナノチューブ導電層下部に設ける熱硬化樹脂からなるアンダーコート層に界面活性剤を、カーボンナノチューブ導電層上部に設ける無機酸化物からなるオーバーコート層にシランカップリング剤を添加する。 （もっと読む）

【課題】優れたエッチング加工性を有することで下部材料及びその他物質の侵食を発生させず、且つ残渣などの諸問題を生じさせない透明伝導膜とこれを形成することができるスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】本発明は、酸化インジウム（Ｉｎ_２Ｏ_３）、酸化錫（ＳｎＯ_２）及びガリウムを含み、錫原子の含有率が、インジウム原子及び錫原子の合計に対して５ないし１５原子％であり、ガリウム原子の含有率が、インジウム原子、錫原子及びガリウム原子の合計に対して０．５ないし７原子％であることを特徴とする酸化インジウム錫スパッタリングターゲットを提供する。 （もっと読む）

【課題】最終的に得られる電極基板の炭素ナノチューブ層上に別途の分散剤を含有せず、可溶性の全ての高分子樹脂バインダーを適用することが可能な電極基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る電極基板の製造方法は、高分子基板上に、低分子量の分散剤を含む炭素ナノチューブ分散液をコートして炭素ナノチューブ分散層を形成する工程と、分散層を洗浄して低分子量の分散剤を除去する工程と、低分子量の分散剤が除去された炭素ナノチューブ分散層を含む基板を高分子樹脂溶液に含浸する工程と、基板を溶液から取り出して乾燥させる工程とを含んでなる。 （もっと読む）

【課題】各種表示装置の透光性電磁波シールド膜、各種電子デバイスの透明電極、透明面状発熱体等として有用な導電膜を製造するにあたって、導電膜の導電性を向上させることができる製造方法を提供する。
【解決手段】支持体上に導電性物質とバインダーとを含有する導電性金属部を形成する導電性金属部形成工程と、前記導電性金属部を蒸気に接触させる蒸気接触工程とを有する導電膜の製造方法において、前記蒸気接触工程は、前記導電性金属部を、過熱蒸気に接触させることを特徴とする。この場合、前記導電性金属部を平滑化処理する平滑化処理工程を有しるようにし、前記蒸気接触工程は、平滑化処理された前記導電性金属部を、前記過熱蒸気に接触させるようにしてもよい。 （もっと読む）

【課題】各種表示装置の透光性電磁波シールド膜、各種電子デバイスの透明電極、透明面状発熱体等として有用な導電膜を製造するにあたって、導電膜の導電性を向上させることができる導電膜の製造方法を提供する。
【解決手段】支持体上に導電性物質とバインダーとを含有する導電性金属部を形成する導電性金属部形成工程と、前記導電性物質とバインダーの体積比率が１／４以上であり、さらに前記導電性金属部に通電処理を行う通電工程を有する。前記導電性金属部を平滑化処理する平滑化処理工程を有してもよい。この場合、通電処理は、導電性金属部形成工程と平滑化処理工程との間で行うようにしてもよいし、平滑化処理工程の後で行うようにしてもよい。 （もっと読む）

【課題】導電性高分子膜、及び固体電解コンデンサなどの電子デバイスに用いられる導電性高分子膜の導電性の向上を目的とする。
【解決手段】本発明の導電性高分子膜は、導電性高分子のモノマーと、酸化剤と、添加剤とを含む重合液を用いて形成される導電性高分子膜である。添加剤として、ドーパントと塩基性物質からなる塩を用いる。本発明の電子デバイスとしての固体電解コンデンサは、導電性高分子層３として、前記導電性高分子膜を用いる。 （もっと読む）

【課題】 金属ナノワイヤを含有する透明導電膜の導電性を確保しながらヘイズを下げることができる透明導電膜付き基材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 マトリクス樹脂２中に金属ナノワイヤ３を含有して形成される透明導電膜４を透明基材１の表面に備えた透明導電膜付き基材であって、前記金属ナノワイヤ３が表面を黒化処理されたものであると共に、前記透明導電膜４の表面抵抗値が１０００Ω／□以下である。 （もっと読む）

【課題】低コストで低抵抗化を実現可能な透明導電体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１１上に設けられた透明導電体の製造方法であって、透明導電体は、アナターゼ型ＴｉＯ_２の酸素をフッ素に置換して得られるアナターゼ型結晶構造を有するＦ：ＴｉＯ_２であり、パルスレーザ堆積法を用い、制御された酸素分圧の雰囲気下において、ＴｉとＦとからなる化合物にパルスレーザを照射し、３００℃以上６５０℃以下加熱された基板１１上に反応生成物をエピタキシャル成長させることにより行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】現状のＬＣＤ製造プロセスにおけるＩＴＯ透明電極形成技術をＺｎＯ系に適用した場合の膜厚が２００ｎｍ程度より薄くなるに伴って、電気的特性が膜厚に大きく依存する（膜厚の減少に伴って抵抗率が大幅に増加する）こと解決する酸化亜鉛系透明導電膜製造技術並びに成膜に使用する焼結体ターゲットを提供することを課題とする。
【解決手段】酸化亜鉛系透明導電膜の直流マグネトロンスパッタ成膜プロセスにおいて、成膜の開始（初期）段階は、その後に続く通常の直流マグネトロンスパッタ成膜プロセスとは異なる条件下で成膜を開始することにより、膜の最低抵抗率特性が大幅に改善できることを見出した。 （もっと読む）

【課題】簡便な製造方法でありながら、導電性に優れ、かつ金属配線を設計どおりの微細なパターンに形成可能であり、その形状が均一である透明導電基板とすること。
【解決手段】透明基板層と、前記透明基板層の表面に形成された金属配線と、を備える透明導電基板の製造方法であって、（１）透明基板層２２の表面に、厚さ４０ｎｍ〜２０００ｎｍの金属層２４ａを形成させる工程と、（２）前記金属層２４ａの表面に、特定の化合物（ａ）を含む自己組織化膜２６を形成させる工程と、（３）前記自己組織化膜２６の表面の少なくとも一部を、樹脂層２８で被覆する工程と、（４）前記樹脂層２８により被覆されていない前記金属層２４ａの部分をエッチングにより除去することにより、金属配線２４を形成させる工程と、を含む透明導電基板２０の製造方法。 （もっと読む）

【課題】導電性高分子膜、導電性高分子膜の製造方法、および電子デバイスに関し、膜厚が均等で導電性の高い導電性高分子膜を得ることを目的とする。
【解決手段】本発明は、酸化剤１１０と、界面活性物質１２０と、ドーパントアニオンと塩基性物質由来のカチオンとからなる塩である添加剤１３０とを含有する混合酸化剤液１００を基板２００に塗布し、これを導電性高分子の前駆体モノマー３００の蒸気に曝露することによって、基板２００上で導電性高分子モノマー３００を化学重合させるものである。したがって、膜厚が均等で導電性に優れた導電性高分子膜を得ることができる。 （もっと読む）